МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ И НАУКИ РФ НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ЯДЕРНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ «МИФИ»
Н.Н. Дегтяренко
СВОЙСТВА...
45 downloads
324 Views
6MB Size
Report
This content was uploaded by our users and we assume good faith they have the permission to share this book. If you own the copyright to this book and it is wrongfully on our website, we offer a simple DMCA procedure to remove your content from our site. Start by pressing the button below!
Report copyright / DMCA form
МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ И НАУКИ РФ НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ЯДЕРНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ «МИФИ»
Н.Н. Дегтяренко
СВОЙСТВА ДЕФЕКТОВ И ИХ АНСАМБЛЕЙ, РАДИАЦИОННАЯ ФИЗИКА ТВЕРДОГО ТЕЛА
Рекомендовано УМО «Ядерные физика и технологии» в качестве учебного пособия для студентов высших учебных заведений
Москва 2011
УДК 004.4:[530.145:620.3](075) ББК 32.973.26.-018.227+22.314я7+22.37я7 Д26 Дегтяренко Н.Н. Свойства дефектов и их ансамблей, радиационная физика твердого тела: Учебное пособие. М.: НИЯУ МИФИ, 2011. – 200 c. Пособие знакомит с типом, характеристиками и кинетикой отдельных дефектов и их ансамблей в твердых телах с различной структурой, в частности, в сверхпроводящих соединениях, что позволяет овладеть принципами и физическими основами явлений в твердых телах, обусловленных наличием дефектов структуры, методами оценки концентрации и создания дефектов при радиационном воздействии быстрых частиц, и использовать их в качестве инструмента исследования, модернизации и изменения свойств материалов. Содержание данной книги базируется на изучении студентами дисциплин циклов ЕН и ОПД: математики, общей физики, теории упругости, квантовой механики, статистической физики, теоретической физики твердого тела. Пособие рекомендовано для студентов старших курсов. Рецензент д-р физ.-мат. наук, проф. О.В. Нагорнов Учебное пособие подготовлено в рамках Программы создания и развития НИЯУ МИФИ ISBN 978-5-7262-1511-2 © Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ», 2011 Редактор Т.В. Волвенкова Подписано к печати 15.12.2010 . Формат 60х84 1/16 Печ. л. 12,5. Уч.-изд. л. 13,25. Тираж 100 экз. Изд. № 1/4/1. Заказ № 16 Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»,
115409, Москва Каширское ш., 31. ООО «Полиграфический комплекс «Курчатовский». 144000, Московская область, г. Электросталь, ул. Красная, д. 42
ОГЛАВЛЕНИЕ Введение ...................................................................................... S Раздел 1 Виды отдельных элементарных дефектов и их свойства. Дефекты в простых веществах................................ V NKNKКлассификация дефектов простых веществ=KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=V= NKNKNKМеждоузлие==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NO= NKNKOKВакансии в ковалентных соединениях==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NQ= NKNKPK=Характеристики точечных дефектов==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NR= NKNKQK= Междоузлия в простых веществах и их характериJ стики==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=N8= NKNKRK=Дефекты упаковки===KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=OO= NKNKSK=Неупорядоченные сплавыK=Примесные дефекты==KKKKKKKKKKKKKK=OQ= NKNKTK= Упорядоченные сплавыK= Типы решеток с упорядоJ чением=KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=OR= NKOKРавновесные и неравновесные дефекты==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=O8= NKOKNKРавновесная концентрация точечных дефектов в= простых веществах==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=PN= NKPK Дефекты упорядочивающихся сплавов=KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=P8= NKPKNKМетрика дальнего порядка в упорядочивающихся= сплавах==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=QM= NKPKOKМетрика ближнего порядка в упорядочивающихся= сплавахK =Связь дальнего порядка и среднего значения= ближнего порядка в упорядочивающихся сплавах==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=QP= NKPKPKТемпературная зависимость концентрация равновесJ ных дефектов замещения в упорядочивающихся сплавах=KKKKKKKKK=QS= NKPKQK= Температурная зависимость концентрация равноJ весных вакансий в упорядочивающихся сплавах==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=RO= NKQK=Вопросы для самопроверки к разделу=N==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=RV= Раздел O. Описание дефектов кристаллической структуры в рамках теории упругости =KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=SN= OKNK=Основные положения механики сплошной среды==KKKKKKKKKKKKKK=SN= OKNKNK=Определения==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=SN= OKNKOK=Закон Гука==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=SR= OKNKPK=Закон Гука в обобщенном виде==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=SS= OKNKQKОбщий вид уравнений в абсолютных смещениях==KKKKKKKKKKKKK=SV= OKOK =Смещение атомов в кристаллической решетке с тоJ чечными дефектамиK=Изменение объема =KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=TN=
P= =
OKPK=Поведение дефекта во внешнем поле смещения==KKKKKKKKKKKKKKKKK=TR= OKQK= Плотность внутренних силI= эквивалентных центру= дилатации===KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=TS= OKRK=Взаимодействие дефектов с внешним упругим полем==KKKKKKKK=T8= OKSK=Упругое взаимодействие точечных дефектов==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=8N= OKTK= Непрерывное распределение точечных дефектов в= упругом поле==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=8P= OK8K=Течение кристаллаK=Ползучесть==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=88= OKVK=Кинетика пор в кристалле==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=VP= OKNMK= Неустойчивость однородного распределения точечJ ных дефектов =KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=V8= OKNNK=Дислокации =KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NMN= OKNOK=Пластическая деформация кристаллов==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NMV= OKNPK=Одномерная модель дислокации=–=модель Френкеля– Конторовой==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NNO= OKNQK=Вопросы для самопроверки к разделу=O=KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NNV= Раздел P. Радиационные дефекты =KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NON= PKNK=Методы создания радиационных==дефектов=KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NOO= PKNKNK=Облучение в реакторе==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NOP= PKNKOK=Облучение на ускорителях тяжелых ионов==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NOR= PKNKPK= Облучение в высоковольтном электронном микроJ скопе==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NOV= PKNKQK= Основные преимущества и недостатки экспрессивJ ных методов радиационного испытания==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NPM= PKOK= Первичные процессы взаимодействия частиц и излуJ чений с твердым телом==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NPN= PKOKNK= Общие представления о процессах взаимодействия= частиц с твердым телом==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NPN= PKOKOK=Взаимодействие нейтронов с веществом==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NQN= PKOKPK=Взаимодействие ускоренных ионов с веществом==KKKKKKKKKKKKK=NQQ= PKOKQK= Распределение по глубине проникновения внедренJ ных ионов и дефектовI=созданных ионами==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NRM= PKOKRK=Взаимодействие электронов с веществом=KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NR8= PKOKSK=Взаимодействие=g-квантов с веществом==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NSM= PKPK=Основные условия воспроизводимости явлений реакJ торного повреждения при облучении на ускорителе==KKKKKKKKKKKKKKKKK=NSN= PKQK=Вопросы для самопроверки к разделу=P==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NSQ=
Q= =
Раздел 4.=Теоретическое сравнение структуры случайных полей радиационных дефектов, образующихся при облучении быстрыми частицами в пленочных образцах =KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NSR= QKNK= Каскад атомных столкновенийK= Индивидуальные хаJ рактеристики==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NSR= QKOK= Случайное поле дефектовK= Статистика повреJ ждений==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NTO= QKPK=Модель разреженных каскадов==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NTR= QKQK=Модель плотных каскадов==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NT8= QKRK=Параметры имитации==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=N8M= QKSK=Имитационные соотношения= для модельных спектров= ПВА==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=N8P= QKTK=Детальные расчеты характеристик поля повреждений= при облучении тонких пленок сверхпроводников АNR= ионами и нейтронами................................................................... N8R= QKTKN=Учет субкаскадной структуры повреждений………………N8S= QKTKOK=Расчеты для монохроматического ионного облучения…KKN8T= QKTKPK=Расчет спектров ПВА для нейтронного облучения………NVM= QK8K=Методика определения временного ресурса сверхпроJ водящих соединений=KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NVO= QKVK=Вопросы для самопроверки к разделу=Q==KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=NVV= Список литературы KKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKKK=OMM= =
R= =
=
ВВЕДЕНИЕ Физика твердого тела= –= одна из областей наукиI= определяJ ющих развитие современного технологического обществаK=В сущноJ стиI=вся армия ученыхI=инженеров работает над наилучшим испольJ зованием твердых материалов при проектировании и изготовлении= самых разнообразных механических и электронных компонентовI= необходимых в таких областяхI=как связьI=транспортI=компьютерная= техникаI= а также фундаментальные исследованияK= ИсследователяI= работающего в области физики твердого телаI=интересуют такие маJ териалыI= как металлы и сплавыI= полупроводникиI= диэлектрики и= магнитные материалыK=Многие из них относятся к кристаллическим= веществамW= их атомы расположены такI= что образуют правильную= трехмерную решетку= –= периодическую структуруK= Нарушения идеJ альной периодичности могут быть обусловлены химическими приJ месямиI= незаполненными= EвакантнымиF= атомными узламиI= атомами= внедрения=Eв промежутках между узламиFI=а также дислокациямиK=Во= многих случаях подобными нарушениями или отклонениями от= строгой периодичности существенным образом определяются физиJ ческие свойства кристаллических твердых телK=Управляя концентраJ цией подобных дефектов или целенаправленно создавая ихI= можно= получать=…наперед заданные»=свойства твердых телK= Такая технолоJ гия играет первостепенную рольI= напримерI= в области полупроводJ никовой микроJI= наноэлектроникиK= Другой класс материаловI= предJ ставляющий интерес для физики твердого телаI =– =это стеклообразJ ныеI=или аморфныеI=материалыK=Атомы в таких материалах располаJ гаютсяI =в общем так жеI =как и в жидкостяхI =т.еK =они упорядочены= лишь в пределах нескольких межатомных расстояний от каждого= атомаI=принятого за центральныйK=Иначе говоряI=для стекол характеJ рен ближний порядок в расположении атомовI= а не дальнийI= как в= кристаллической структуреK= NK =…Физика неидеального твердого тела»= EФНТТF= изучает= физические явления и процессыI= обусловленные или возникающие= при высоком== содержании дефектов в твердом телеI=пытается выраJ ботать предсказательные теорииI= определяющие характеристики=
S= =
твердого телаK=Все==области применения и=…вынужденного»=испольJ зования твердого тела так или иначе определяются дефектами струкJ турыK=Простейшие примерыW= J=проводимость идеального твердого тела равна нулюX= J= критический ток в сверхпроводниках равен нулю в отсутJ ствие пиннинга системы вихрей на дефектах структурыK= OK Важным направлением является контролируемое введеJ ние в матрицу примесей и дефектовI= а также радиационноJ стимулированное изменение структурыK= Начало интенсивного разJ вития этого направления соответствует появлению полупроводникоJ вых приборовK= Это направление можно назвать=…Физической техноJ логией»I= поскольку конструирование и создание новых приборов и= инструментария исследователей определяется разработкой детальJ ной физической картины процессовI= интерпретации измеряемых веJ личинK= Естественное уменьшение размеров изучаемых объектов и= новые измерительные возможности привели к появлению нового= направления=…Наносистемы»K= PK Контролируемое введение в матрицу примесей и дефекJ тов имеет и физический интерес для анализа применимости тех или= иных моделей явлений в конденсированных средахK= НапримерI= для= анализа механизма сверхпроводимости в соединениях со структурой= АNRI=ВТСПK= Ряд проблемных задач физики конденсированных систем= имеет фундаментальный характерW== · предсказание механических свойств реальных тверJ дых телI=в том числе в интенсивных радиационных поляхX= · электрические свойства и явления в конденсированJ ных системах с высоким содержанием дефектовX= · механизмы сверхпроводимостиI=в том числе=–=высокоJ температурнойI=улучшение критических параметров сверхпроводниJ ковK= Успешное решение хотя бы ряда этих фундаментальных фиJ зических задач определяет сроки и реальное внедрение в экономику= страны новых практических задачW= J= нового поколения более эффективных и экономически боJ лее выгодных ядерных реакторовX=
T= =
J=появление сначала экспериментальныхI=а затем и промышJ ленных термоядерных реакторовX= J=использование новых композитных и наноматериаловX= J=создание экономически выгодных передающих сверхпровоJ дящих энергосистемK= Это небольшое перечисление дает представление о целесоJ образности фундаментальных исследований в области изучения= свойств реальных конденсированных средK= =
8= =
РАЗДЕЛ 1 ВИДЫ ОТДЕЛЬНЫХ ЭЛЕМЕНТАРНЫХ ДЕФЕКТОВ И ИХ СВОЙСТВА. ДЕФЕКТЫ В ПРОСТЫХ ВЕЩЕСТВАХ
1.1.
Классификация дефектов простых веществ
Определение: Любые нарушения или искажения в регулярноJ сти расположения атомов кристалла считают дефектом кристалJ лической решеткиK= Характерные параметры дефектов= Eэнергия образованияI= энергия диффузии и дрKF==определяются структурой и связями атомов= матрицы (кристаллаFK= Различают следующие виды отдельных дефектовK= NK= Тепловое движение атомов= –= отклонение от положения равJ новесия по определенному законуK= ОбычноI= это термодинамически= равновесный вид дефектаI=имеющий динамический характерK= OK= Междоузельные атомы и вакансииK Эти дефекты имеют тенJ денцию быть равновеснымиK=Однако характерное время релаксации= к равновесному состоянию может быть достаточно большимK= ДейJ ствительноI= процесс диффузии дефектовI= определяющий их распреJ деление в твердом телеI= = является термоактивируемым процессомI= поэтому при=недостаточно больших температурах часто встречаютJ ся==неравновесные состояния систем=EрисKNKNFK= Значительное отличие систем точечных дефектов= –= это их= взаимодействие между собой=Eчерез атомы матрицыFI=что приводитI= в частностиI==к образованию их комплексов=EансамблейFI=конденсата= в матрицеI=т.еK=равновесное состояние системы точечных дефектов в= большинстве случаев является неоднородным в пространстве= (напримерI=вакансии=–=ансамбль вакансий=–=пораFK= PK= Примесные атомыK=ПримесиI=даже при малой концентрацииI= могут существенно влиять на свойства кристаллаI= напримерI= они= вносят заметный вклад в проводимость полупроводников=Eплотность= атомов в конденсированных системах=NMOO= J=NMOP= атомов/смPI=конценJ трация дефектов в зависимости от предыстории получения образца= меняется от=NMNO=J=NMOM=атомов/смPFK= = =
V= =
=
= РисKNKN= = Схематическое изображение точечных дефектов в= арсениде галлия=As=d~K=s=–=вакансииI=f=–=междоузельные атомыI=В=–= примеси= QK= Граница кристаллаK=Этот дефект приводит к искажениям даJ же внутри матрицы и к нарушению кристаллической симметрии в= областяхI=примыкающих к границеK= RK= ПоликристаллыW==зерна или кристаллиты с разной ориентациJ ейK= Объем зерен больше физически представительного объемаK= ПоJ перечный размер зерен порядка=NMJP= ¸=NMJS см=Eрис=NKOFK=Свойства поJ ликристаллов обусловлены как самими кристаллическими зернамиI= так и межзёренными границамиK= Если зерна малы и ориентированы= хаотичноI=то в поликристаллах не проявляется анизотропия свойствI= присущаяI=напримерI=монокристаллуK=Если есть определенная ориенJ тация зеренI=то поликристалл является текстурированным и обладает= анизотропиейK=
NM= =
SK= Дислокации= –= неравновесный тип дефектаI= т.еK= их появление= обусловлено предысторией образца и связано либо с ростом криJ сталлитаI=либо с действием внешних нагрузок или воздействийK=РазJ личают несколько типов дислокацийW= краевыеI= винтовыеI= смешанJ ные= (рисKNKPFK= Их скопления часто формируют межзеренные граниJ цыK==
= РисKNKO==Картина зерен в поликристалле= = TK= Статические смещения решетки вблизи дефектаW= в окрестJ ности дефекта можно выделить область с сильным возмущением= решеткиK=Такая деформация характерна для дефектов типов=O¸SK=ОдJ нако кристалл искажается и на больших расстоянияхK= Искажения= первой координационной сферы составляют менее=NMB=межатомноJ го расстоянияK=Дальнее поле дефектов может быть определено метоJ дами теории упругостиI=поле вблизи дефекта определяется из решеJ ния уравнений равновесия кристаллической структурыK== Характер влияния дефектов на свойства реального твердого= тела во многом определяется размерностью дефектаK=В зависимости= от размерности различают следующие типы дефектовW= fK Точечные дефекты=EпK=OI=PFK= ffK Линейные дефекты=EпK=SFK= fffK Плоские дефекты=EпK=QI=RFK= Приведем примеры различных типов дефектовK= =
NN= =
= =
=
=
а===============================================б=
===== в===============================================г= = РисKNKPK=Дислокации различных типовW= а=–=выход краевой дислокации на границуX= б=–=винтовая дислокация роста кристаллаX= в=–=скопление дислокаций на межзеренных границаX= г=–=сетка дислокаций= = = 1.1.1. Междоузлие
=
В идеальной структуре какого-либо типа атом занимает поJ ложениеI= соответствующее узлу решеткиK= = Лишний атомI= для котоJ рого нет соответствующего узлаI= занимает междоузельное положеJ ниеK= Таких положений может быть для структуры несколькоK=
NO= =
НапримерI=на рисKNKQ=представлены четыре типа междоузельных поJ ложений для атома углеродаK= =
= РисKNKQK= Различные виды междоузельных атомов углерода в= решетке алмазаW =а= – =тетраэдрическое= TX = =б= – =гексагональное= eX =в= – = междоузлие посредине связи=jX=г=–=расщепленное междоузлие==EганJ тель==YNMM[F= = Для упрощения рассмотрим плоскую квадратную решеткуI= содержащую междоузельный атомK= На рисKNKRIа= = величина смещений и их направления показыJ ваютI= куда сдвинутся атомы ближайшего окружения по отношению= к их положению в идеальной решеткеK== На рис= NKRIб= = показан другой междоузельный дефект= – =ганJ тельK =Этот тип дефектов возникает тогдаI =когда из-за наличия межJ доузельного атома один из ближайших атомов в узле кристалла= сильно смещается из положения равновесия и разделяет узел с лишJ ним атомомK=Такая конфигурация была предсказана в компьютерных= расчетах и открыта при ультразвуковых исследованияхK== =
NP= =
= РисKNKRK =Два типа междоузельных атомов для плоской квадJ ратной решетки= = 1.1.O. Вакансии в ковалентных соединениях Отсутствие атома в узле решетки создает точечный дефект= типа вакансии=EрисK=NKSFK== Картина смещений отличается от смещений для междоузельJ ных атомов направлениемI=обычно ближайшее окружение смещается= к пустому узлуK= =
= == а===========================================б= РисKNKSK=Конфигурация вакансии=EаF=и дивакансии=EбF=в алмазе= = В соединениях ионного типа вакансии образуются парамиI= что является энергетически более выгодной конфигурацией для данJ
NQ= =
ной структуры= Eдефект ШотткиFK= Сказывается необходимость соJ блюдения нейтральностиK= Такой тип дефектов проявляются тем заJ метнееI=чем выше ионность связиI=например в=k~ClK=Отметим такжеI= что в ВТСП типа= v_~OCuPlT также наблюдается частично ионная= связьK= = 1.1.P. Характеристики точечных дефектов Обычно рассматривают три феноменологические= характеристики точечных дефектовW= J=энергия образованияX= J=энергия миграцииX= J=дилатационный объёмK= Кроме тогоI= в случае рассмотрения кинетики дефектов= появляются дополнительные параметрыI= напримерI= объем= рекомбинации пар ФренкеляK= Вакансии в простых веществах и их характеристики= Рассмотрим оценку трех перечисленных характеристик на= примере вакансииK= Можно предложить следующий механизм= образования вакансииK= Атом выносится на границу кристаллаI= при= этом число частиц в системе не изменяется=EрисKNKTFK=ДействительноI= простое удаление атома из узла решетки кристалла на бесконечность= изменяет число частиц в системе и для расчета термодинамического= потенциала системы потребуется учитывать этот фактK=
= РисK= NKTK= Перенос атома из узла на поверхность в плоской= квадратной решетке и образование вакансии= =
NR= =
В окрестности образовавшейся вакансии будет происходить= релаксация атомов=EрисKNKTFK=Будем считатьI=что два атома вещества= взаимодействуют друг с другом посредством парного потенциала= взаимодействия= jEoFI= который не зависит от окружения атомовK= Энергия атомаI= находящегося в узле кристаллаI= равна= bузлZzNjEoGFI= где число ближайших соседей порядка=zN=»=S=J=8I=oG=–== равновесное= межатомное расстояниеI= оценка потенциала может быть сделанаI= напримерI= из энергии сублимации веществаI= что дает= jEoGF ≈= MKO =÷ = MKP=эВK=Таким образомI=величина энергии атома в узле решетки равна=== bузл =~=NKS=÷=OKQ=эВK=Такая энергия должна быть затрачена на разрыв= = связей при образовании вакансииK= Однако вынутый атом= размещается на поверхностиI= следовательноI= можно считатьI= что= половина разорванных связей восстанавливаетсяK= Энергия атомаI= находящегося на поверхности равна=bповZzNLOjEoGFK=Таким образомI= величина=энергии формирования вакансии b vf ≈=MK8=÷=NKO=эВK= Рассмотрим= миграцию вакансийK =Чтобы атом А= “перепрыгJ нул≤= на пустой узелI= в котором расположена вакансияI= казалось бы= ему не нужно преодолевать барьерI =но это не так= – =надо разорвать= связи=EрисKNK8FK=
= РисKNK8K= Перенос атома в соседний пустой узел= = в плоской= квадратной решетке= = Кроме тогоI=вдоль траектории миграции вакансии=Eили атома= АF= возникает энергетический барьер= Eэнергетическая линзаFI= создаJ
NS= =
ваемый ближайшими атомамиK=Это наиболее наглядно видно в трехJ мерном кристалле= EрисKNKVFK= Число ближайших соседей в сечении= A_Ca =обычно меньшеI =чем в узлеI =zO= Z =QI =Если предполагатьI =что= парный потенциал меняется слабоI=то величину энергетического баJ рьера для миграции вакансии можно оценить как= bsm ≈=MK8=÷=N=эВK= Рассмотрим теперь вопрос о= дилатационном объеме ваканJ сии на примере вакансии в квадратной решетке=EрисK=NKNMFK=Пусть ωM= –=объемI=приходящийся на один атом твердого телаK= =
= РисKNKVK= Формирование энергетического барьера при миграJ ции атома в пустой узел= = При образовании вакансии поверхность за счет релаксации= исказитсяI= и объем кристалла= s=изменитсяK= Оценки дают примерно= (N) ds = -MKNwM K=Такая величины была получена на основе результаJ тов дилатационных экспериментовI=связанных с введением в образец= множества вакансийK=ОтметимI=что в матрицеI=окружающей область= образования вакансииI=происходит некоторое увеличение плотности= вещества за счет релаксацииK= =
NT= =
= РисK=NKNMK=Схематическая картина смещений вблизи вакансии= = В рассмотренном выше механизме образования вакансии= атом выходит на поверхностьK=Связанное с этим дополнительное изJ менение объема составляет= ds * = ds ( 2) = wM K= Таким образомI= сумJ марное изменение объема кристалла равно= ds (N) + ds ( 2 ) = +MKVwM K= = 1.1.4. Междоузлия в простых веществах и их характеристики При образовании междоузлия для тогоI=чтобы сохранить вид= термодинамических функций и не рассматривать изменение= химического потенциалаI= необходимо сохранить число частиц в= системеK= Рассмотрим следующий механизм формирования= междоузельного атомаK= Пусть при формировании междоузлия атом= вносится=в кристалл с поверхностиK= Определим энергию образования междоузельного атомаK= ( ( Оценка энергии дает величину= zi × j( R) I= где= R= –= = расстояние миниJ мального сближения междоузельного атома с ближайшими соседяJ ( миK= При этомI= R Y R* – = =равновесного расстояния в решеткеI =т.еK =поJ тенциальная энергия парного взаимодействия большеK= Положение= равновесия междоузельного атома определяется равновесием сил=
N8= =
всех взаимодействующих парK= Число соседей определяется типом= междоузлийK= Как показывает экспериментI= обычно для наиболее= представительного типа междоузлий энергия образования составляет= величину= b ff ~=P=÷=R=эВ и большеI=чем для вакансий= b ff [ bnf K== В отличие от вакансии у междоузельного атома могут быть= разные стационарные положения в одной решетке с разными энергиJ ями образования= b ff ¹ b ff =EрисK=NKNNFK=Это означаетI=что в равновеJ N
2
сии заселенность этих состояний будет различнойK= Если= b ff Y b ff I= N 2 то при низких температурах=–=заселены междоузлия типа=NK=При поJ вышении температуры=–=заселяются и места=OK=В радиационных проJ цессах междоузельные дефекты второго типа могут рождаться и при= низких температурахK= Пример разных типов междоузлий показан на рисKNKNN= для= структуры=a-железаK== Величина энергия миграции междоузлия оценивается как= m bf = ~ =MKN =эВI =т.еK = b fm << bnm = –= энергии миграции вакансийK= Этот= факт обусловлен темI=чтоI=как следует из численных расчетовI=харакJ терное расстояние равновесия до ближайших соседей для междоJ узельного атома порядка тех расстоянийI=на которых междоузельный= атом преодолевает энергетический барьер при прохождении линзы= (рисKNKVFK= Число же ближайших соседей= zf= »= ziI= т.еK= высота барьера= для миграции междоузельного атома должна быть малаK= Рассмотрим вопрос о дилатационном объеме междоузлияK= Как показывают дилатационные экспериментыI= при образовании= междоузельного дефекта происходит увеличение объема кристаллаK= Величина изменения объемаI=приходящаяся на один междоузельный= атом= ds (N) = +MKNwM K= При образовании междоузлия твердое тело= немного=…распухает»=EрисKNKNOFK= Как и в случае с вакансиейI=при образовании междоузельного= атома в матрице и соответственно при его исчезновении на поверхJ ностиI= дополнительное изменение объема образца составляет= ds ( 2) = -wM K=Таким образомI=суммарное изменение объема кристалJ ла равно= ds (N) + ds ( 2 ) = -MKVwM K= =
NV= =
= РисKNKNNK=Шесть конфигураций междоузельного атома в=aJceW== а= – =fN-гантель= YNMM[X= б= – =fO= Jгантель== YNNM[X= в= – =fP-краудионX= г= – =fQJ смещенный краудионX=д=–=fR-октаэдрический междоузельный атомX=е= –=fS-тетраэдрический междоузельный атом= =
= РисKNKNOK=Схематическая картина смещений при образовании= междоузельного атома в плоской квадратной решетке= = =
OM= =
Приведем экспериментальные данные по характеристикам= точечных дефектов для кристаллов меди в эВW= bnf =Z=NKOTI= b ff =Z=OKOI=
bnm =Z=MKTOI= bfm =Z=MKNNTK= Несмотря на тоI=что энергия миграции междоузлий на много= меньше энергии миграции вакансийI= последниеI= поскольку их= концентрация больше концентрации междоузлийI= являются= дефектамиI= по сути определяющими механизм=диффузии в твердом= телеK =Если междоузлие оказывается рядом с вакансиейI =то оно= стремится восполнить пустоту и мигрирует в то местоI= где есть= локальное разрежениеK= В итоге может произойти рекомбинация= дефектовK=При одновременном рассмотрении близко расположенных= вакансии и междоузельного атома их называют парой дефектов= ФренкеляK= = Объем матрицы вокруг дефектовI= в пределах которой происходит= рекомбинацияI=называется зоной рекомбинацииI=sрек= –=объем рекомJ бинации составляет величину порядка= NMωM= EрисKNKNPJNKNQFK= На= рисKNKNP=узлыI=ограниченные пунктирной линией вокруг гантельного= внедрения=Eкрупные кружкиFI=составляют рекомбинационный объемI= т.еK=попадая в нихI=вакансия рекомбинирует с внедрениемK= = = = = =
= = =
= = = = РисKNKNPK= Зона рекомбинации вакансии и междоузельного= атомаK=Стабильность пары Френкеля в плоскости={NMM}=меди=
ON= =
= =
= РисK=NKNQK=Зона рекомбинации пары Френкеля в ГПУ решетки= магнияW●=–=нестабильные положения вакансии= = На рисKNKNQ= показаны пять разных= EMMMNF=плоскостей решетJ киI=расположенные на разных расстояниях от тригонального внедреJ нияW=а=–=OKOаI=б=–=NKQаI=в=–=MKSаI=г=–=MKOаI=д=–=NKMаK== Междоузельный= атом находится между плоскостями=в и=гK= 1.1.R. Дефекты упаковки В кристаллических решетках металловI= имеющих координаJ ционное число= NOI= т.еK= наиболее плотноупакованных= EгранецентриJ рованная кубическая= EГЦКF= и плотноупакованная гексагональная= структура= EГПУFFI= встречаются еще особого вида дефекты кристалJ лического строенияI=называемые ошибками наложения=EупаковкиFK= = = РисKNKNR= аK= Расположение атоJ мов в плотноупакованных кристаллиJ ческих решеткахW= светлые кружки= –= положения типа= NX= черные кружки= –= положения типа= OX= звездочки= –= полоJ жения типа=P= = =
OO= =
=
= РисK=NKNR=бK=Модели дефекта упаковки и изображения дефекта в обJ разце=piC== = Выберем упрощенную модельI= в которой атомы считаются= одинаковыми жесткими шарамиI=и рассмотрим возможные располоJ жения их при плотнейших возможных упаковкахK=Укладывая первый= ряд шаров на плоскостьI= получим картинуI= изображенную кругами= на рисKNKNRаK=Положения их центров обозначим светлыми кружками= и назовем положениями типа= NK= Второй ряд шаров может располоJ житься двумя различными способами относительно первого рядаK= Проекции их центров на плоскость могут попадать или в положения= типа=OI=обозначенные на рисунке черными кружкамиI=или в положеJ ния типа=PI=обозначенные звездочкамиK=Для следующих слоев проекJ ции центров шаров тоже будут попадать в одно из этих трех полоJ женийK= Упаковка будет плотнейшейI= если два соседних слоя нахоJ дятся в различных положениях= Eизображаемых разными цифрамиFI= тогда шары следующего слоя попадают в лунки между шарами= предыдущего слояK= Однако при этом возможны два простейших= структурно различных способа чередования слоевI= дающих периоJ дическую кристаллическую решеткуK=Один из них соответствует ряJ ду положений= NJOJNJOJNJOKKKI= дающих гексагональную плотноупакоJ ванную решеткуK=В этом случае атомы третьего ряда находятся над= атомами первогоK=В другом случае имеется чередование==типа===NOPJ NOPJNOPI= приводящее к кубической гранецентрированной решеткеI= ориентированной такI= что пространственная диагональ кубической= ячейки перпендикулярна плоскости укладки шаровK= = В реальных= кристаллах с гексагональной плотноупакованной решеткой встречаJ ются нарушения правильного чередования слоевI= например изобраJ
OP= =
жаемые рядом=NONOJPOPOPOKKKI=где пятый слой соответствует положеJ нию= PI= а не= NK= Дальнейшее чередование слоев= POJPOJPOI= очевидноI= опять соответствует гексагональной решеткеI= так как структурно не= отличается от чередования=NONONOK=Таким образомI=в гексагональном= кристалле имеется ошибочное чередование третьегоI= четвертого и= пятого слоев типа= NOPI= характерное для кубических гранецентрироJ ванных кристалловI= называемое ошибкой наложенияK= Аналогичные= ошибки наложения могут быть и в кубических гранецентрированных= кристаллахI=где среди типичного для них чередования может встреJ титься ошибочное чередование гексагонального типаK=Ошибка налоJ жения может привести к томуI=что чередование гексагонального тиJ па сменится чередованием кубическимI =тK =еK =плоскостьI =в которой= лежит ошибкаI =будет соединять кристаллы того же металла с кубиJ ческой гранецентрированной и гексагональной плотноупакованной= решеткамиK= Такое явление было обнаружено экспериментально у= кобальтаK=Другая интересная возможность встречается в кубических= гранецентрированных кристаллах с ошибкой наложения типа= NOPNONPONPOK= Здесь в шестом слое меняется порядок чередования= слоев кубического типа=NO=P=NO=P=на обратный порядок тоже кубичеJ ского типа=N=P=O=N=P=OI=в результате чего возникает так называемый= двойниковый кристаллI=или двойник в гранецентрированной кубичеJ ской решеткеK= Двойникование встречается и при образовании криJ сталлов с другими кристаллическими решеткамиK= = 1.1.6. Неупорядоченные сплавы. Примесные дефекты Примесные атомы вместе с атомами кристалла=EматрицыF=обJ разуют твердые растворы или сплавыK=Различают два основных типа= сплавовK= Сплав замещения= – =в этом случае примесь занимает узлы= самой решеткиK==При этом считаетсяI=что примесные атомы должны= быть близки по размерам к атомам матрицыK= Только при выполнеJ нии этого условия примесь может заместить атомы кристаллаK= Другой тип сплавов=–=сплав внедрения образуется примесьюI= которая= = попадает в междоузельные положения кристаллаK= Обычно= сплавы внедрения образуются легкими примесямиW =eI =_I =CI =pI =kK = НапримерI= сталь= –= раствор в железе углерода с концентрацией до= OBK==
OQ= =
Помимо указанных выше двух типов однородных твердых растворов (сплавов) существует также третий тип – растворы вычитания. Рассмотрим первый тип растворов – раствор замещения. Атомы двух сортов занимают узлы единой кристаллической решетки. Пусть структура состоит из N узлов и NА – число атомов типа А. В неупорядоченных растворах замещения вероятность занятия произвольного узла для атомов каждого сорта пропорциональна концентрации C A = N A / N и не зависит от узла и его окружения соседей. Заселение узлов происходит по случайному закону (здесь использовано приближение отсутствия корреляций, типа засыпки). При этом трансляционная инвариантность будет нарушена, в системе реализуется ячеистый беспорядок. Предположение об отсутствии корреляций заполнения адекватно отображает ситуацию при высоких температурах, когда оказывается, что атомы равновероятно располагаются вокруг атома определенного сорта. При более низких температурах в кристалле возникает ближний порядок. Если температура становится ниже критической, то оказывается возможным выделить предпочтительный тип узлов для атомов каждого сорта. При этом в системе появляется дальний порядок. Упорядочивающиеся структуры (растворы), а также интерметаллические соединения при низких температурах обладают дальним порядком. Атомы в упорядоченном состоянии распределены по подрешеткам. В зависимости от температуры вероятность заполнения подрешеток атомами того или иного типа изменяется. 1.1.7. Упорядоченные сплавы Типы решеток с упорядочением Рассмотрим несколько примеров кристаллических решеток реальных сплавов замещения (рис.1.16 – 1.18). Упорядочение в сплавах замещения тесно связано со стехиометрическим соотношением компонентов. Только стехиометрический состав может перейти во вполне упорядоченное состояние без геометрических искажений.
25
Рис.1.16. Структура сплав βлатуни (CuZn). Критическая температура упорядочения Т ~ 600 – 700 К
Рис.1.17. Структура сплава AuCu3
Рис.1.18. Соединения типа А15 – Nb3Sn
26
При охлаждении упорядочивающегося сплава А-В ниже темJ пературы упорядочения в разных местах образца возникают центры= зарождения упорядоченной фазыK= ВырастаяI= они заполняют весь= сплавK=При этом в разных таких центрах узламиI=законными для атоJ мов АI=могут стать узлы различных подрешетокK=В результате сплав= будет разбит на области или доменыI= называемые= …антифазными»= доменамиK= Второй тип растворов= –= сплавы внедрения= –= реализуются= обычно для систем с атомамиI=сильно различающимися по размерамK= В кристалле каждая ячейка оказывается искаженнойI=таким образомI= в системе возникает топологический беспорядокK=При полном заполJ нении междоузельного пространства искажения исчезаютK=Однако и= при неполном заполнении возможно пространственное упорядочеJ ние на междоузельных положенияхK= Примером сплава внедрения является стальK= Основной приJ месью в сталях являются атомы углеродаI=которые располагаются в= междоузельных положенияхK=В=a-железе атомы углерода имеют поJ ложения устойчивого равновесия в центрах граней и в серединах= ребер кубических объемно-центрированных ячеекK= В= g-железе= – =в= пространственных центрах и серединах ребер кубических гранеценJ трированных ячеекK= Третий тип сплавов=–=растворы вычитанияK=Здесь характерJ но наличие пустых узлов= EвакансийFI= которые возникают не в реJ зультате термического или внешнего воздействииI=а являются струкJ турными элементами кристаллической решеткиK= Примером сплава вычитания является= CoJAl =с преобладаюJ щим числом атомов=AlK=В таком сплаве узлыI=на которых располагаJ ются атомы= AlI= полностью заполненыI= а узлыI= на которых должны= располагаться атомы кобальтаI=содержат еще и вакансииK= В качестве примера сплава вычитания рассмотрим также= структуру= v_~OCuPlTK= Элементарная ячейка состоит из трех пировJ скитных=EрисKNKNVFK== В средней= …пировскитной»=ячейкеI= содержащей атом иттрия= (центральный темный атомFI=отсутствуют мостиковые атомы кислоJ рода= Eна вертикальных ребрахFK= В плоскостях= CulO= наблюдается= смещение атомов кислорода к атома иттрияI= поскольку его заряд=
OT= =
оценивается как=vHPK=в отличие от атомов бария=_~HOK=Это смещение= создает гофр плоскости=CulO= В верхней и нижней= …пировскитных»= ячейкахI= содержащих= атомы барияI= кислород отсутствует на парах горизонтальных реберK= При уменьшении концентрации кислорода в= v_~OCuPlTJxI= кислород= уходит из базовой плоскости= Cul=Eоснование ячейкиFI= создавая доJ полнительно структурные вакансии и разупорядочивая положения= кислорода в базовой плоскостиK== Таким образомI= даже при нулевой температуре в кристалле= ВТСП остаются структурные вакансииK= = =
РисKNKNVK=Структура ВТСП= v_~OCuPlT= =
= = = = =
1.O.Равновесные и неравновесные дефекты = При температуреI= равной нулюI= концентрация равновесных деJ фектов кристалла должна стремиться к нулюI= lim C Z= MK= С ростом= q ®M
температуры возникают дефекты= Eза счет теплового возбужденияFI= со временем их концентрация выходит на значениеI= соответствуюJ щее равновесию при данной температуреK=С понижением температуJ ры концентрация дефектов уменьшаетсяI= однако и процессы релакJ сации резко замедляютсяI= поэтому при низких температурах криJ
O8= =
сталл достаточно долго может содержать определенное количество= неравновесных дефектов=EрисKNKOMFK= C
t C
t T
= РисKNKOMK=Качественные температурные зависимости концентрации и= времени жизни равновесных дефектов= = Точечные дефекты типа примесных атомов и структурных= вакансий существуют даже= = при нулевой температуре= EрисKNKONFK= В= сплавах с нарушением стехиометрии такие дефекты неизбежныK= = C
t
t C
T
= РисKNKONK=Качественные температурные зависимости концентрации и= времени жизни дефектов при наличии структурных вакансий= =
OV= =
В дальнейшем будет показаноI=что изменение не только темJ пературы=TI=но и давления=m=приводит к перераспределению конценJ трации дефектовK= Существует множество процессовI= при которых возникают= точечные дефектыK= Большинству прямых процессов рождения можJ но сопоставить обратные процессы рекомбинацииK= В кристаллах возможны следующие процессы рождения деJ фектов=EрисKNKOOFK= fK=Под воздействием тепловых колебаний решетки существуJ ет вероятность выброса атома из узла решеткиK=Образуется вакансия= и междоузлие= – =пара ФренкеляK =Как отмечалосьI =если эти дефекты= находятся внутри рекомбинационного объемаI= они рекомбинируют= (атом сваливается обратно в узелFK= Поскольку дефекты при таком= механизме образуются парамиI= то должно выполняться равенство= C f = Cs K=Однако эксперимент показываетI=что это не такK= =
V
I
= = РисK=NKOOK=Качественная картина зарождения точечных дефектов= = ffK=Возможным оказывается также и рождение дефектов с поJ верхностиK= = Этот процесс допускает неравенство концентраций тоJ чечных дефектов при условии сохранения числа атомов в системеK== fffK= В описанных выше механизмах рождения дефектов речь= шла о термоактивированных процессахK= Появляющиеся в этих проJ цессах дефекты оказываются равновеснымиK= Помимо равновесных=
PM= =
дефектов в кристалле могут возникать также и неравновесные деJ фектыK=Приведем некоторые возможные способы создания неравноJ весных дефектовW= J=закалка=Eрезкое изменение температурыFX= J=пластическая деформация=Eперемещение дислокацийFX= J=рождение дефектов под действием излученияK= Обратные процессыW= J=рекомбинация между точечными дефектами противоположного= типа при их миграцииX= J=выход на стокI=в том числе на дислокации и на поверхностьX== J=образование кластеров из дефектов одного типа=EконденсацияFK= = 1.O.1.Равновесная концентрация точечных дефектов в простых веществах = Будем считатьI= что рассматриваемый кристалл представляет= собой чистый металлK=Предположим такжеI=что вакансии рождаются= независимо от междоузлийK=Для простоты примем сначалаI=что давJ ление равно нулю и предположимI=что раствор вакансий слабыйI=т.еK= вакансии не взаимодействуют между собойK== Пусть величина энергии формирования вакансии= bnf нам изJ вестнаK=Тогда для слабого раствора можно записатьI=что энергия сиJ стемы= b = b + n n b nf I=т.еK=энергия оказывается аддитивной величиJ M нойK=Поскольку давление равно нулюI=то подходящим термодинамиJ ческим потенциалом системы является свободная энергия= c (q , p )= b - q × p K= В дальнейшем будет учтен тот фактI=что на месте образоваJ ния вакансийI= где разрываются межатомные связиI= меняется жестJ кость кристаллаI=что приводит к изменению колебательного спектраI= и возникают локальные моды колебанийK= ПокаI= пренебрегая этим= эффектомI= т.еK= учитывая только энтропию перемешивания системыI= запишем= p = k ln m I=где=m=–=число возможных состояний при фиксиJ рованном количестве атомов и вакансий= nn W=
m=
( nn + k A )! I= nn ! k A !
PN= =
где=kА=–==число атомов кристаллаK=Используя формулу Стирлинга= ln x ! » (ln x - N)x I=получимW= c = b + nn bnf - kq {(nn + k )xln(nn + k ) -Nz A A M -nn (ln nn -N) - k (ln k -N)}. = A A æ ¶c bf ö В равновесии= = M I=следовательноI= nn = ( k + nn ) × exp ç - n ÷ K= A ç kq ÷ ¶nn è ø Поскольку= nn << k A I=то получим= æ
f ö
b = C *n = exp ç - n ÷ . =============================ENKNF= ç kq ÷ è ø
Для реальных кристаллов при температуреI=близкой к темпеJ ратуре плавления кристалла= Tпл ≈= NMP= hI= равновесная концентрация= * составляет величину== C n ≈=NMJP=÷=NMJQK= ОтметимI= что максимальная концентрация вакансийI= котоJ рую может выдержать решеткаI= составляет величину порядка= NMJOK= Такая концентрация может быть получена введением в кристалл= неравновесных вакансийK= При дальнейшем увеличении концентраJ ции кристаллическая решетка разрушаетсяK= Необходимо также сделать следующее замечаниеK=Если в каJ честве механизма образования дефектов рассмотреть рождение пары= ФренкеляI= то для концентрации дефектов можно получить= æ bf ö Ç Ç C n = C f = exp ç - c ÷ I= где= b cf = –=энергия образования пары ФренJ çç kq ÷÷ è ø
келяK= Обычно в реальных условиях реализуется соотношение= ======= Ç G C s >> C I= что обусловлено соотношением энергий образования= s f b c >> bsf K= Таким образомI= зависимость концентрации точечных дефекJ тов от температуры выражается в виде обычной аррениусовской= (экспоненциальнойF=зависимостиK= NK=Введем теперь в нашу задачу давлениеK=В качестве подхоJ дящего потенциала возьмем термодинамический потенциал=
PO= =
* * Ф = c + ps = c + m (sM + nn dsn ) I= где= dsn = wM + d sn X= ωM= –= увеJ личение объема при== переносе атома на поверхностьI= dsn =–=объемI= связанный с релаксацией решетки приведении одной вакансииK= Из=
условия= ¶Ф = M получимW= ¶nn
æ b f + pds * ö * n ÷ =K======================ENKOF= C n = exp ç - n ç ÷ kq è
ø
f f * * Поскольку= dsn [MI=то= bn H pdsn [ bn K=СледовательноI=равновесJ * ная концентрация= C n уменьшитсяK= Таким образомI= наличие давлеJ
ния приводит к уменьшению количества вакансий в кристаллеK= Можно оценить теперь характерное значение давления=
f p хар= b n / wM ≈=NMQ= атмK=Давление такой величины заметно влиJ яет на концентрацию дефектовK= Большой перепад давления в веществе можно создатьI=еслиI= напримерI=поднять кристалл из скважиныK=При этом произойдет резJ кое увеличение числа вакансийI=и образец может разрушитьсяK= OK=Будем теперь по-прежнему считатьI=что концентрация ваJ кансий мала и пусть давление вновь равно нулюK=Учтем тот фактI=что= вакансии локально меняет спектр колебаний твердого телаK = =Это= можно учестьI=вводя изменение колебательной энтропии кристаллаW= c ”= c - q ( pM + nn Ds ) I= где=pM=–=колебательная энтропия кристалла без вакансийI=Δs=–= изменение колебательной энтропииI= связанное с наличием одной= вакансииK= Здесь вновьI= в силу малой концентрации дефектовI= исJ пользовано аддитивное приближениеK = Аналогично предыдущему случаю можно получитьI=что конJ
Ds * * k % центрация вакансий= C n = C n e K=Оценим величину ΔsK=Для оценки=
используем модель ЭйнштейнаK= В модели использовано предполоJ жение о томI=что все атомы в кристалле колеблются с одной частоJ тойK=При этом колебательная энтропия идеального кристалла равнаW=
PP= =
é hn æ N ê hn p = P kh - ln ç N - e kq ê kq hn ç è ëê e kq - N
öù ÷ú I= ÷ú øûú
где=n=–=частота колебаний атомовK= При= kq >> hn имеем= p = P kk (N - ln(hn / kq ) ) K =В силу адJ дитивности энтропии вклад одного атома в общую сумму составляет= p = Pk (N - ln(hn / kq ) ) K=Поскольку в кристалле всего= nn вакансийI=то= N
nn × z атомов колеблются с частотой= n¢ K= Здесь= z= –= число ближайJ
ших соседей узла решеткиK= Таким образомI= вклад атомовI= находяJ щихся рядом с вакансиямиI= равен= znn Pk N - ln(hn' / kq ) K= СледоJ
(
)
вательноI=величина Δs составляет= Pzk ln(n / n¢) K= Рассмотрим колебание атомов кристалла в гармоническом= приближенииK= Уравнение движения атома имеет вид= mx ¢¢ = -g × x K= Решением уравнения является периодическое движение атома с чаJ 2
стотой= w = g / m K= Для жесткости=
g = можно записать оценку=
n z Z=NKMV= g = z × g K=СледовательноI=отношение частот есть= ~ N n¢ z -N ÷= NKO= для= z = ~= 8K= Тогда для концентрации вакансийI= учитывая поJ правкиI=связанные с локальным изменением колебательного спектра= кристаллаI=получимW= Pz * *æ n ö PS÷N8 * * % C n = C n ç ÷ ~ [ ENKMV ÷ NKOF ] × C n » ORC n =K==========ENKPF= ¢ n è ø ОднакоI=несмотря на тоI=что поправкаI=связанная с изменениJ ем частоты колебанийI=на порядок изменяет значение концентрации= вакансийI= реально она может нивелироваться небольшим изменениJ ем температуры кристаллаK= Таким образомI= вклад локального измеJ нения частот в величину концентрации вакансий соизмерим с поJ грешностьюI=связанной с неточностью определения температуры=T=и= энергии образования вакансии= bnf K =В случае кристаллов с сильной=
PQ= =
связью этим вкладом можно пренебречьK= В молекулярных кристалJ лах ослабление связи может оказаться весьма существеннымK= PK= Рассмотрим теперь влияние наличия примеси на конценJ трацию вакансийK=Пусть имеется бинарный неупорядоченный сплав= замещенияK=Рассмотрение будем проводить в рамках следующей моJ делиW= J= считаем взаимодействие между атомами одного и разного= сортов парнымK=Взаимодействие между атомами сорта=A=равно=sAA=I= между атомами сорта=_=–=sBBI=между атомами разных сортов=–=sABX= J=пренебрежем корреляциямиX= J= пренебрежемI= в частностиI= эффектом обогащения узловI= ближайших к вакансииI=атомами какого-либо сортаX= J=давление положим равным нулюX= J=считаем раствор вакансий слабымI=а такжеI=что сами ваканJ сии не вносят вклада в конфигурационную энергиюK= Пусть полное количество узлов равно= k ¢ = k + k + nn и= A B является переменнымI= т.еK= меняется объем системыK= C = A
kA k¢
I=
kB
n I== Cn = n =–=концентрацииI= соответственноI= атомов сорJ k¢ k¢ тов=AI=_=и вакансийW= C + C + C n = NK= A B CB =
Возьмем произвольный узелK= Вероятность его заселения атоJ мами сорта А пропорциональна концентрации= САK= Вероятность= найти ближайший соседний узел пропорциональна числу=zN=–==коорJ динационному числу первой сферыK= ПредполагаемI= что это число= является одинаковым для всех узловK= Вероятность тогоI= что произJ вольный узел из этих=zN заселен атомом сорта А=–=САK=СледовательноI= вероятность тогоI =что пара ближайших узлов заселена атомами АI = есть= zNCACAK АналогичноI =для пар атомов сорта В и смешанных пар= A_K= Таким образомI= конфигурационная энергии кристалла может= быть записана в видеW= k ¢ × zN b=C AC As AA + C BC BsBB + OC AC Bs AB K= O
(
)
PR= =
Поскольку предполагаетсяI=что вакансии не взаимодействуют= с атомамиI=то в выражении для энергии не учтены узлыI=в которых= находятся вакансииK= Количество различных конфигураций системы при фиксироJ ванном количестве атомов и вакансий равно= j =
k ¢! k A ! k B ! ns !
K=
Конфигурационная энтропия может быть рассчитана как= p = k ln j K= Свободная энергия кристалла есть= c = b - qp K=Используя для фактоJ риала формулу Стирлинга= ln x ! » x(ln x - N) и учитываяI= что= СB =1 - Сs - СA »==N - =С A I=получим= c =-
z1 × ( k + ns ) 2 2 × (C A × s AA + C B × sBB + 2C AC B × s AB ) 2
=
kq × {( k + ns ) × xln( k + ns ) - N] - ns × xln(ns ) - N] - ln k A !+ ln k B !}
Дифференцируя свободную энергию по числу вакансий и= ¶c приравнивая производную к нулю= ZMI= можно получить= ¶ns ¶c ¶C s
» -r s + kq × ln
Cs
ZMI=т.е==для концентрации дефектов==
(N + Cs )
æ rf Cs = exp ç - n ç kq è
ö ÷ I=============================ENKQF= ÷ ø
где== z f 2 rs = xsBB + O(s AB - sBB )C A - C A × ( Os AB - s AA - sBB )] = O =
zN
2
xs + O(s AB - sBB )C A - C Aw]. O BB
= Величина= w = Os I= при= AB - s AA - sBB
w YM= –= это энергия=
распадаI=а при= w [M= –= энергия упорядочения сплаваK= Энергия форJ мирования вакансии при концентрациях= CA= Z= NI= CB= Z =M =равна=
PS= =
f f r s = b n |a I=т.еK=она совпадает с энергией формирования вакансии в= чистом веществе= AK= При= CA= Z= MI= CB= Z= N= r f переходит в энергию= s формирования вакансии в чистом веществе=_= r f = bnf | (рисKNKOPFK= s b
Таким образомI= при наличии примеси зависимость конценJ трации вакансий от температуры сохраняет вид аррениусовской заJ висимостиI=но величина энергии формирования вакансии теперь окаJ зывается зависящей от концентрации компонентов твердого раствоJ раK= ОтметимI= что приведенные выше выражения для концентраJ ций дефектов получены в стационарном приближении для конценJ трацийI=усредненных по объему образцаK== = UV
w>0
w<0 CAm=(vAB-vBB)/ w 0
1
CA
= РисK=NKOPK=Зависимость эффективной энергии образования ваJ кансии в зависимости от состава сплава= = QK= Учесть пространственную неоднородность решения и его= зависимость от времени можно следующим образомK =Пусть в криJ сталле имеется два типа дефектов= – =вакансии и междоузлияK =Для= этой системы можно составить уравнения непрерывностиW= dn s = d - kn n + Ñ a Ñn - g n - n* I s s f s s s s s =====ENKRF= dt dn f = d - kn n + Ñ a Ñn - g n - n* I f s f f s f f f dt
(
)
(
)
PT= =
(
(
)
)
здесь= d =–=источники вакансий и междоузлийI= a =–=коэффиJ s ,f s ,f циенты диффузии вакансий и междоузлийI= g == –=коэффициентыI= s ,f описывающие уход вакансий и междоузлий на стокиI=k=–=коэффициJ ент рекомбинации дефектовK= Решая уравнения непрерывностиI= можно рассчитать временJ ное и пространственное распределение дефектов в кристаллеK= Записанная система уравнений является приближеннойK= При= ее составлении использованы следующие приближенияW== - растворы дефектов являются слабымиI =т.еK =дефекты не взаимоJ действуютX= - флуктуации не учитываются=–=приближение среднего значенияX= - неоднородное распределение стоков и источников дефектов и= их конкретная структура не рассматриваетсяI =не учтена также возJ можность насыщения стоковX= - диффузионное приближение=Eпренебрежение неоднородностями= на расстоянияхI=меньших диффузионной длиныFX= - не учитываются напряженияI=создаваемые дефектамиK= Часть этих приближений можно учестьI= рассматривая взаиJ модействие дефектовK== =
1.P. Дефекты упорядочивающихся сплавов = В упорядочивающихся сплавах появляется новый тип= дефектов= –= антисайтK= В кристалле упорядочивающегося сплава из= двух сортов атомов= Am_n существуют две подрешеткиI= заселенные= соответственно атомами А и ВK= = С ростом температуры атомы= другого сорта появляются не на своей подрешеткеK =Их предельная= концентрация может быть достаточно большой= –= порядка долей= единицыK= Упорядочивающийся сплав= –= двухкомпонентный кристаллI= обладающий следующими свойствами равновесного состоянияW= J=при температуреI=равной нулюI=бинарная структура состоит= из двух подрешетокI= на каждой из которой свой тип атомовI= следовательноI=в системе реализуется полное упорядочениеX= J= при высоких температурах наблюдается полный беспоряJ докI=т.еK=атомы распределены хаотическиX=
P8= =
J=остатки порядка сохраняются в промежуточном состоянииK= В промежуточном состоянии только часть подрешетки заселена= своими атомамиK= “Чужие≤= атомы= –= антисайты создают ячеистый= беспорядок=EрисKNKOQFK= =
= РисKNKOQK=Частично разупорядоченная структура=kbPpnK=Схематично= показаны узлы=EстрелкаFI=для которых атомы=pn=«=kb=поменялись= местами= = Переход порядок= –= беспорядок наблюдаетсяI=если выполнено= следующее соотношениеW= qc » w = Os AB - s AA - s BB < qпл K= В= сплавах со структурой АJNRI=напримерI= w ³ qпл K= Экспериментально переход можно наблюдатьI= напримерI= по= сверхструктурным рентгеновским линиямK=О степени порядка можно= также судить по теплоемкости кристаллаK=Скачок теплоемкости при= переходеI=по сутиI=есть вклад антисайтов в теплоемкостьK= Разупорядочение кристалла происходит неравномерноI= по= кристаллу проходит волна переупорядоченияK= Отметим следующий= фактW= чем больше разупорядочен кристалл= –= тем легче происходит= его дальнейшее разупорядочениеI= и наоборотI= чем больше степень= порядка в кристалле= – =тем труднее этот порядок разрушитьI =т.еK = переход порядок-беспорядок= –= кооперативное явлениеK= Для= иллюстрации этого утверждения рассмотрим следующий процессI= представленный на рисK=NKORK=В полностью упорядоченном кристалле= каждый атом А окружен атомами В и наоборотI =т.еK =все связи=
PV= =
наиболее выгодного типа АВK =На первом шаге заменим атом А= (светлыйF=на атом В= EтемныйFI== при этом разрушили=z связей АВI=а= появились менее выгодные связи ВВ= EрисKNKORIаFI= Если создать= второй дефект замещения рядом=–=заменить атом В=EтемныйF=на атом= А= EсветлыйFI= то при этом нужно разрушить меньшее количество= межатомных связей типа АВK=Затрачиваемая при этом энергия равна= Ez= –= NFsABK Таким образомI= разрушить идеальный порядок труднееI= чем неидеальныйK=
= а= = = = = б= РисKNKORK= Схематичное представление появления в решетке= первого==EаF=и второго=EбF=антисайтовK= Положения антисайтов указаJ ны стрелками= = 1.P.1. Метрика дальнего порядка в упорядочивающихся сплавах = Рассмотрим сплав=An_mI=в котором есть две подрешеткиW=αI=βK= Пусть= kAI= kB= – =полное количество атомов сорта= A =и= _I =kAHkBZk= –= полное число атомов в сплавеK =Далее пусть= iaI= ib= –= число узлов= подрешеток первого и второго типаI= ia + ib = i = –= общее число= узлов кристаллаK== При неполном упорядочении атомы распределяются по= подрешеткамK= Введем величины= k Aa I= k Bb I= k Ba I= k Ab = –= количество атомов сортов=A=и=_=на подрешеткахK= При этом общее количество атомов сорта= A= –= k A = k Aa + k Ab I =атомов сорта= _ =– = k B = k Bb + k Ba K= Будем=
QM= =
предполагатьI=что вакансий нетK=ОтметимI=что=kA совпадает с числом= узлов= ia подрешетки α в случае выполнения стехиометрического= соотношения и при отсутствии вакансий= k s a = M K=Аналогично для= kBK=Введем относительные доли атомов= g A =
n m+n
I=== g
B =
m m+n
K=
В случае выполнения стехиометрического соотношения и= при отсутствии вакансий относительное число атомов совпадает с= относительным числом узлов подрешеток= g A = g a I= g B = g b K= Тогда для концентраций можем записатьW= C Aa
здесь=
=
k Aa
ga i
I== C Ab =
g a i I= g b i =
k Ab
gbi
I== C Bb =
k Bb
gb i
I== C Ba =
k Ba
ga i
I========ENKSF=
– =полное число узлов подрешетки α и β=
соответственноK= Если в кристалле реализуется полное упорядочениеI =то все= атомы располагаются на своих местахW= Ù
C Aa
Ù
Ù
Ù
= C Bb = N========= , C Ab = C Ba = M. =========================ENKTF=
В случае полного разупорядочения= Eхаотического= заполненияF= имеем для стехиометрического сплава в отсутствие= вакансийW= Ú
С Aa = Ú
С Bb =
Ú k A × ga k ×g k ×g m = g a I=======С Ba = B a = B a = g a × = ia ia kA n
k B × gb ib
Ú
= g b I=======С Ab =
k A × gb ib
=
k A × gb kB
= gb ×
n = m
(m= n)
( m =n )
= ga ,
======ENK8F=
= gb ,
т.еK= для случая= mZn= заселенность атомами АI= В пропорциональна= концентрации узлов соответствующего типаK= Поскольку в данном приближении вакансии отсутствуют= ks = M I= то уход атома сорта= A =на чужую подрешетку= b должен= сопровождаться переходом атома сорта= _= на подрешетку= a= (рисKNKOSFK= Других альтернатив нетK= Из этого следуетI= что= абсолютное число дефектов замещения на подрешетках должно быть= равным= k Ab = k Ba K=
QN= =
Аa Вb Аb
Вa
= РисK= NKOSK= = Схематическое изображение образования антисайтов на= двух подрешетках в отсутствие вакансий= = Параметр дальнего порядка для атомов сорта А можно ввести= следующим образомW== RA =
C -g - C Amin a = Aa a I===========================ENKVF= m~x min C Aa - C Aa N - ga C Aa
min
m~x
–=максимальная концентрация атомов=AI=а= C Aa –=минимальная= концентрация атомов=A=на подрешетке=αK= Аналогично можно ввести= параметр порядка для атомов сорта= _K= ОтметимI= что в отсутствие= вакансий и при стехиометрии для сплавов= R A º RB º R K= В любом случаеI= параметр дальнего порядка однозначно= определяется из набора чисел= kAaI= kBbI= kBaI= kAb т.еK =это как бы= суммарная картинка по подрешеткамK= НапримерI= с точки зрения= данного выше определения дальнего порядкаI= нет различий между= двумя конфигурациямиI= представленными для одномерных= подрешеток на рисK=NKOTI=поскольку числа=kAaI=kBbI=kBaI=kA одни и те= жеW= = C Aa
QO= =
= = РисK= NKOTK= Для верхней и нижней конфигурации параметр= дальнего порядка= R имеет одно и==то же значение= = Скалярная детерминированная величина= o содержит очень= небольшую информацию о конфигурациях пар атомовI= поэтому= нужно для расчета конфигурационной потенциальной энергии= использовать другой подходK= ЗаметимI= что установление дальнего порядка в кристалле= происходит посредством диффузииK= Поэтому при малых= температурах этот процесс резко тормозитсяK= = 1.P.O. Метрика ближнего порядка в упорядочивающихся сплавах. Связь дальнего порядка и среднего значения ближнего порядка в упорядочивающихся сплавах Более детальный подход=–=подсчет числа конфигурацийI=возJ можных в данной структуре и при данной заселенности подрешетокI= т.еK= заданном значении дальнего параметра порядкаK= Рассмотрим= упрощенный подходI= не рассматривая геометрию конфигурацииI= а= пересчитывая только число пар атомов разного сортаK= Назовем=nAB=–=числом правильных пар атомовI=т.еK=парI=в коJ торых атом А находится на подрешетке αI=атом=_=–==на подрешетке= βK= nBA= – =числом неправильных парI =т.еK =атом А= – =на подрешетке βI = атом=_=–=на подрешетке αK=
QP= =
Доля смешанных пар типа=A_=E_AF=есть= q = (nAB + nBA ) / n I=где= n=–=полное число парW=n=Z=nAB=H=nBA=H=nBB=H=nAA=Z= k × zN / O K=Число= ближайших соседей= zN в первой координационной сфере будем= предполагать одинаковым для подрешеток структуры= Eв частностиI= для=b-латуниI=но не для=ANRFK= Введем параметр ближнего порядка как= = s = q - qmin I=================================ENKNMF= qm~x - qmin
здесь=qmin=–=минимальное количество пар типа=A_=E_AFI=qm~x=–=макJ симальное количество парK= В случае полного порядка имеемW=qZqm~xI= s ZNK=Все конфигуJ рации одинаковые= –= флуктуаций нетK= При полном беспорядкеW= qZqminI= s =ZMI=но флуктуации должны быть большимиI=поскольку при= беспорядке встречаются различные конфигурации окруженияK= В случае стехиометрического сплава типа АВ=ERMWRMF=в отсутJ ствие вакансий имеем= qm~xZNI= qminZNLO =и для этого варианта имеем= s = Oq - N K= Как отмечалосьI= заданному набору чисел= kAaI= kBbI= kBaI= kAb= соответствует одно значение дальнего порядкаK=Однако этому набору= чисел заполнения соответствует множество различных= конфигураций пар=nAB=I=nBA=I=nBB= I=nAAK= Параметр порядка=o может= быть функцией только среднего значения параметра= s K= Усреднение= должно проводиться по функции распределения вероятности= обнаружения различных конфигурацийI= которая определяется как= структурой подрешетокI= их заселенностью атомамиI= так и= взаимодействием последнихI= т.еK= связь= = весьма сложная= (упрощенный пример показан на рисKNKO8FK= Для упрощения представим среднюю вероятность нахождеJ ния правильной пары= EАВF= в приближении независимости= концентраций атомов на различных подрешеткахW==
n AB
/ n = C Aa C Bb ====== I nBA / n = C AbC Ba K=======ENKNNF=
=
QQ= =
=
=
РисK=NKO8K=Возможные конфигурации ближайших соседей для= плоской квадратной решетки сплава АВ= Eпоказаны конфигурации с= изменением числа атомов сорта В=–=светлые кружкиF= Концентрации собственных атомов можно выразить через= параметр дальнего порядка=EзаметимI=что= g B = N - g A FW=
С Aa
= g B R + g A I=== С Bb = g A R + g B I=================ENKNOF=
Концентрации дефектов замещения определяются через= o= и= условия сохранения числа атомов данного сорта и числа узлов= подрешеток в условиях стехиометрии и отсутствия вакансийW= g k - k Aa g A g a C Ab = A = - C Aa = A (N - g A - g B R ) = g A (N - R ) K==ENKNPF= gbi gb gb gB
Аналогично= –= C Ba = g B (N - R ) K= Отсюда средняя= доля= смешанных парW== n + nBA q = AB = C Aa × C Bb + C Ba × C Ab = ===================ENKNQF= n = O g A g B + ( g A - g B ) R + Og A g B R O . O
QR= =
Поскольку для сплава= A_= ERMWRMF=
g A = gB
получаем=
O s = Oq - N = R (рисKNKOVFK= R, < s > N
T
= РисKNK= OVK= Схематическое изображение температурной завиJ симости дальнего=Eсплошная линияF=и ближнего=Eпунктирная линияF= параметров порядка= = ИтакI= усреднение проводится по всем конфигурациямI= допуJ стимым при данном значении=oK= Таким образомI=как и предполагалиI=оказалосьI=что параметр= дальнего порядка связан со средним значением параметра ближнего= порядкаK= = 1.P.P. Температурная зависимость концентрации равновесных дефектов замещения в упорядочивающихся сплавах ДопустимI= известен способI= которым можно получить= статистическую сумму по ансамблю различных состояний= кристаллаI= имеющих одинаковые значения параметра дальнего= порядка= oI= но отличающихся значением параметра ближнего= порядкаK= Статистическая сумма равна=
æ = Z ( R ) = å exp ç n ,k ç è
{tk + bn } ö÷ I============================ENKNRF= k
kq
QS= =
÷ ø
гдеW= n==–=индекс различных мод колебаний для данной конфигурацииI= k= –= индекс состоянийI= отвечающий различным конфигурациям= кристалла для данного значения дальнего порядкаI= tk= –= конфигурационная энергия кристалла= Eпотенциальная энергия= данной конфигурацииFI= bnk –=колебательная энергия кристалла для моды= n==и конфигурации= kK= Зная статистическую сумму= Z ( R) I=можно получить величину= свободной
энергии=
( )
c R º - kq × ln Z
K=
Равновесие
системы=
достигается при минимуме свободной энергии= c ( R ) K =Отсюда из= условия=
¶c ¶R
=M
можно найти равновесные значения дальнего=
порядка= oG и получить равновесную концентрацию антисайтов= * C a ( q ) K= Выражение для статистической суммы можно переписать в= виде==
( ) å
Z R =
n ,k
k Zn
e
t -= k kq
=
,
k Zn
ºe
-
bnk kq
I====================ENKNSF=
Для вычисления последнего выражения необходимо знание= k
Z n I= для вычисления которой необходим анализ спектра колебаний= данной конфигурации структурыI= поскольку в общем случае спектр= k
меняется при изменении конфигурацииK=Если предположитьI=что= Z n = k
слабо зависит от конфигурации=kI=то формально можно= Z n вынести= за знак суммы по=kK== Это утверждение находит экспериментальное= подтверждениеI= напримерI= для= b-латуни в интервале температур= Т»RRM¸TRMК упорядочение резко меняетсяI= но колебательная часть= теплоемкости меняется слабоI= т.еK= конфигурационной составляющейK=
QT= =
k
Z n ≈ Z n I= в
отличие от=
Для конфигурационной части статистической суммы можно= записать==
Zk ( o ) =
åe
-
tk kq
K==============================ENKNTF=
k
Для конфигурационного слагаемого свободной энергии= соответственно получаем= ck ( o ) = - kq ln Z C K= Вновь рассмотрим систему в приближении парного= взаимодействияK= Причем предположимI= что взаимодействие между= атомами сорта= A =равное= EJsAAF= I =между атомами сорта= _ =– =EJsBBFI= между атомами разных сортов=–=EJsABFK===Чтобы соединение было бы= упорядочивающимсяI= необходимо выполнение соотношенияW= sAB= [= sAAI=sBBK= Пусть= nABI= nBAI= nBBI= nAA= = –= количество различных= взаимодействующих пар атомовK= Тогда в приближении парного= взаимодействияW= tk = -s AA n AA - s BB n BB - s AB ( n AB + n BA ) K=====ENKN8F=== Доля смешанных пар типа= A_= E_AF= есть= q = (n AB + nBA ) / n I= где= n= – =полное число парK =ИмеемW =nABHnBAZqnK =Число пар для= атомов одинакового типа=nAAHnBBZEN–qFnK== Рассмотрим сплав= A_= EmZnF= в приближении= sAA= Z= sBBI т.еK= для двух симметричных подрешетокK= Пусть= sAB= [= sAA= Z= sBBK= Для= конфигурационной энергии получимW==
tk = -
n O
( s AA + sBB ) -
n M º - O s AA
ОбозначимW t
(
+ sBB ) I w º
N O
qn O
( Os AB - sAA - sBB ) K===ENKNVF=
( Os AB - s AA - sBB ) K=
ОчевидноI=
что= to= – =средняя энергия чистых кристаллов= A =и= _I =w= –= энергия= упорядоченияK== Обозначим= t –= энергиюI= усредненную по микросостояниям при данном значении дальнего порядкаW=
Q8= =
всем=
åt p (k ) I= t = p k ( ) å k
k
k
где=pEkF=–=вероятность существования конфигурации=kK= Для того чтобы можно было реально рассчитать== конфигурационную энергиюI=необходимо ввести упрощающую= модельK=В качестве первого шага учтемI=что для сплава=A_=средняя= O
доля смешанных пар= q = (N + R ) / O I=получаем для средней= конфигурационной энергииW= t = tM -
qn O
w = tM -
nw æ N + R O
ç è
O
O
O ö nwR I===ENKOMF= ( ) = t M ÷ Q ø
где= t ( M ) = tM - nw = - n ( s AA + Os AB + sBB ) = –= энергия кристалла при= Q
Q
полном беспорядкеK= Пусть вероятность найти возможные при данном значении=o= конфигурации одна и та жеK= Тогда средняя конфигурационная= энергия равна= t =
N
t ( )å
g R
k
I= где= g ( R ) = –= число возможных=
k
конфигураций для данного значения дальнего порядкаK= В качестве= g ( o ) нужно взять число способов размещения= kAa атомов сорта А по подрешетке= aI= kBa атомов сорта= _ =по= подрешетке= aI= kAb атомов сорта А по подрешетке= b и= kBb атомов= сорта=_=по подрешетке=bW= ækö ækö ç ÷> ç ÷> Oø è èOø K=============ENKONF= g (o) = k > k > ( Aa ) ( Ba ) ( k Ab )>( k Bb )>
В сплаве АВW= k Aa = k Bb = k (N + o ) I= k Ab = k Ba = k (N - o ) K= Q
Q
Таким образомI=
g ( o) =
éæ k ö ù êçè O ÷ø >ú ë û éé k ùù ê ê Q (N + o )ú >ú ûû ëë
O
O
éé k ùù ê ê Q (N - o ) ú >ú ûû ëë
QV= =
I=или= O
( )
ln g R @
k
[O ln O - (N + R) ln(N + R) - (N - R) ln(N - R)] K=
O
ДалееI=разложим= e
æ è
exp ç -
t -= k kq
tk kq
в ряд относительно среднего значения= t W=
æ tö é N ö ÷ = exp ç - kq ÷ × êN - kq ø è ø ë
(t
k
ù - t + ... I=========ENKOOF=
)
úû
подставляя разложение в конфигурационную статистическую суммуI= получим= ZC = e
-
cc kq
= åe
-
tk kq
=e
-
t kq
k
-t = e kq × g R ×
¥
¥
æ N ö åå ç- ÷ k j =M è kq ø
( ) å × æç - ö÷ j ! è kq ø N
N
N
å (t g E oF
(t
k
-t
)
j
j!
=
=
j
j =M
Здесь= j j º
j
×jj,
- t ) =–=момент=j-го порядкаK=Ограничиваясь= j
k
k
приближением среднего поля= Eили приближением БрэггаJ ВильямсонаI =что для кристаллов то же самоеFI =т.еK =оставляя= единственное слагаемое с=j=Z=M=EjM=Z=NF=в разложенииI=получаем==
ZC »
åe
-
t kq
( )
=g R e
-
t kq
K=============ENKOPF=
k
Тогда конфигурационная свободная энергия запишется в видеW== cC = - kq ln g ( R ) + t = или окончательноW= cC = -
kqk
()
+t M -
O
[O ln O - (N + R) × ln(N + R) - (N - R) × ln(N - R)] +
Zk 8
wR
O
.
RM= =
=
¶cC
= M получаем трансцендентное уравнение= = ¶R для равновесной величины параметра дальнего порядка=oGW= N + R * Zw R * ln = K=================ENKOQF= N- R * Ok q РешениеI= которое легко получитьI= если представить его в качестве= обратной функции=TEoGFW=
ДалееI= из условия=
q ( R*) =
Zw
R*
Ok
N+ R *
ln
K=================ENKORF=
N- R *
Для сплава=Am_n в тех же приближениях можно получить= æ b + a × R * ö ( m + n × R * ) × ( n + m × R * ) ===ENKOSF= . exp ç ÷= O kq è ø m × n × (N - R * ) При получении этого уравнения был использован ряд= приближенийI= но в некоторых случаях их точности вполне= достаточноK= Зная величину параметра дальнего порядкаI= можно найти= равновесное значение концентрации антисайтов==EрисKNKPMFW== N * * = C~ ( q ) = N - o ( q ) K===================ENKOTF= O = = = R* , Сa * N = РисK=NKPMK=ТемпературJ ная зависимость конценJ трации антисайтов в= M.5 упорядочивающемся= сплаве АВ= = = Сa* = T = =
(
RN= =
)
1.P.4. Температурная зависимость концентрация равновесных вакансий в упорядочивающихся сплавах Представленное решение для равновесной концентрации= антисайтов может рассматриваться как первое приближение по= неравенству Са=[[=CvK= Антисайт в сплаве может образоваться различными= способамиK= НапримерI= атомыI= расположенные на соседних= подрешеткахI= обменяются местамиK= Такой процесс требует= координированного движения двух атомовI=поэтому вероятность его= невеликаK= Однако при наличии вакансии атом может прыгнуть на= чужую подрешеткуI=просто заняв ее местоK=СледовательноI=вакансия= –= катализатор кинетических процессовK= Вопрос концентрации= вакансий в упорядочивающихся сплавах важен именно для кинетики= процессов упорядоченияK= Рассмотрим упорядочивающийся сплав АВ=ERMWRMFK=Пусть=kAI= kB=–=количество атомов сорта=A=и=_I=kAHkBZk=–=полное число атомов= в сплавеK= Далее пусть= iaI= ib= –= число узлов подрешеток первого и= второго типаI= ia + ib = i = –= общее число узлов кристаллаK= Необходимо отметитьI=чтоI=поскольку не все узлы сплава заполненыI= то= k A ¹ ia I= k B ¹ ib K= Вновь введем величины= kAαI= kBβI= kAβI= kBα= –= количество= атомов сортов=A=и=_=на соответствующих подрешеткахK=Количество= атомов разных сортов в кристалле сохраняетсяI= поэтому=kAαHkAβZkA= и= kBαHkBβZkBK= Пусть также= ksαI= ksβ= –= число вакансий на= подрешеткахI= ksαHksβZks= –= полное количество вакансийK= Тогда= полное количество узлов кристалла можно представить в виде= iZkAHkBHksI= количество узлов первой подрешетки=iαZkAαHkBαHksαI= второй=–=iβZkAβHkBβHksβK= В случае отсутствия вакансий в кристалле для числа атомов= сорта=A=и=_=выполнялось бы соотношение=kAZkBZ k I=и поскольку в= O
этом случаеI= рождение дефектов возможно только за счет обмена= двух атомов местамиI= то= kAβZkBαK= Кроме того количество= “своих≤= атомов на подрешетках также одинаково=kAα=Z=kBβK=
RO= =
Рассмотрим теперь кристалл с вакансиямиK= Введем= следующую упрощающую модельW= пусть вновь антисайты= рождаются только за счет двойного обмена атомамиK= Поскольку= состояние равновесия не зависит от тогоI =каким способом в него= пришлиI= то рассмотрим переход в равновесное состояниеI= разделенный на два этапаK= NK Стартуем с полностью упорядоченной конфигурацииK=Введем= в кристалл равновесное число вакансийI= не меняя распределения= атомов по подрешеткамK= При этом количество вакансий на= подрешетках α и β будет равно=ksαI=ksβ соответственноK= OK За счет обмена местами атомов добавим в систему антисайтыK= При этом в соответствии с нашей моделью получим равновесное= состояние кристаллаK= ОтметимI=что в силу тогоI=что количества=“своих≤=и=“чужих≤= атомов на обеих подрешетках совпадаютI= kAαZkBβ= = и= kAβZkBαK= И= поскольку мы имеем дело со сплавом= A_I= т.еK= iαZiβI =то из= соотношений== N=
N=
k Aa ia k Ab ib
+
+
k Ba ia k Bb ib
+
+
ksa ia ksb
=
ib
получаем=ksαZksβK= Параметр дальнего порядка можно ввести и при наличии= вакансийW= k i i R A = ( Aa - a ) / (N - a ) K===================================ENKO8F= ia i i Аналогично можно записать и выражение для= oBK= Ввоспользовавшись предложенной модельюI= можно показатьI= что= упорядоченность рассматриваемой системы может= характеризоваться единым параметром порядка= R A = RB º R K= Рассчитаем свободную энергию кристалла с вакансиями и= антисайтамиK=Вновь будем считатьI=что колебательные возбуждения= слабо зависят от конфигурацииK= Усредним энергию кристалла по= состояниям с разными конфигурациямиI= но обладающими одним и=
RP= =
тем же значением параметра дальнего порядка=oK=Общее число таких= конфигураций может быть рассчитано следующим образомW=
( )
g R =
( ib ) ! ( ia )! K========ENKOVF= ( k Aa ) !( k Ba )! ( ks a ) ! ( k Ab )! ( k Bb )! ( ks b ) !
Для расчета средней конфигурационной энергии вновь= воспользуемся предположением о равновероятности различных= конфигурацийW=
( )
t R =
N
( )
å tk I=
g R k
где сумма взята по всем конфигурациямI= обладающим одинаковым= oK=Ограничиваясь приближением Брэгга-ВильямсонаI=запишем== e
-
tk kq
=e
-
t kq
æ N ö åj çè - kq ÷ø
j
(tk - t ) j!
j
»e
-
t kq
K=
Таким образомI= свободная конфигурационная энергия= упорядочивающегося сплава с вакансиями может быть представлена= в видеW= cC = - kq ln Z C » - kq ln g ( R ) + t ( R ) K= В равновесии имеемW= ¶cC ¶R
= M X=====
¶cC ¶k s a
= M X=====
¶cC ¶k s b
= M K=
Будем считатьI= что концентрация вакансий достаточно малаI= чтобы= не влиять на зависимость= R ( q ) K=В равновесии получимW=
ì ¶ ln g ( R ) N = ï kq ï ¶k s a í ï ¶ ln g ( R ) = N ï ¶k s b kq î
RQ= =
( )
¶t R ¶k s a
( )
¶t R ¶k s b
K=
(
)
(
)
УчитываяI=что= ln g ( R ) » i a ln i a - N - k s a ln k s a - N + L I= iαZkAαHkBαHkVαI=а производные= - ln - ln
¶ ¶x
{x [ln x - N]} = ln x получимW=
ks a N ¶t ( o ) = ia kq ¶ks a ks b ib
N ¶t ( o ) = kq ¶ks b
K=
Для средней конфигурационной энергии можно записатьW== t = -sAAnAA - sBB nBB - sAB nAB + nBA K=
(
Производные= величин=
¶n AA
¶t ¶k s a
I=
выражаются
¶nBB
I=
¶n AB
I=
через
)
производные
четырех=
¶nBA
K=ЗдесьI=как и раньшеI=nAA=–= ¶k s a ¶k s a ¶k s a ¶k s a число пар А=–=АK= ДопустимI= что двухточечную вероятность можно составить= из произвольных одночастичных вероятностейK= Вероятность= k обнаружить атом типа А на подрешетке= α= ~= Aa K= В отсутствие= ia корреляции заселенность соседнего узла решетки не зависит от тогоI= что происходит на рассматриваемом узлеK= Таким образомI= вероятность тогоI= что родившаяся в случайном узле вакансия= разорвет пару А–АI=равнаW== m ( AA) = Z N × C Aa × C Ab = Z N
k Aa k Ab ia
ib
K=
ПредположимI= что после образования вакансии вынутый= атом поместили на поверхностьI= тогда он восстановит половину= разорванных связей А=–=АK=СледовательноI=производная==
RR= =
¶n AA ¶k s a
=-
Z k Aa k Ab O ia
ib
K=
Тогда для производной средней конфигурационной энергии= получаемW=
Z és AA k Aa k Ab + sBB k Bb k Ba + ù K= ¶t = ê ú ¶k s a O ia ib ê +s AB ( k Aa k Bb + k Ab k Ba ) ú ë û Запишем выражения для количества атомов разных типов= для сплава АВ в приближении отсутствия вакансийW= k Aa = k Bb » k Ba = k Ab »
ИтакI=получимW==
- ln Cs a
=
Z 8kq
(
i Q i Q
(N + R ) (N - R )
)
K=
és AA N - RO + sBB (N - R O ) + ù ê ú I= O O ú ê êë +s AB (N + R ) + (N - R ) úû
(
)
тогда в результате для концентраций вакансий можно записать==
Cs a = C s b = e M
z
(
é M Z wRO ù ê bs + ú 8 ûú ê -ë kq
I=====================ENKPMF=
)
s AA + sBB + Os AB I= w = Os AB - s AA - sBB K= 8 НапомнимI= что для чистого монокомпонентного вещества= реализуется арениусовская зависимость концентрации вакансий от= температуры==
где= b v =
-
bsf kq
Cs = e K= Для упорядоченного состояния бинарного сплава вид= зависимости концентрации дефектов тот жеI= ноI= поскольку=
RS= =
показатель экспоненты теперь более сложным образом зависит от= температурыI= график температурной зависимости концентрации= вакансий отличается от аналогичного графика для чистого вещества= (рисKNKPNJNKPOFK=
= РисK= NKPNK= Качественный вид температурной зависимости= параметра дальнего порядка и концентрации антисайтов= EслеваF= и= эффективной энергии образования вакансий=EсправаF= =
= РисK= NKPOK= Качественный вид температурной зависимости= концентрации вакансий в упорядочивающихся сплавах= = Так как в выражение для энергии формирования вакансии= входит параметр порядка= oI= что реально приводит к увеличению=
RT= =
величины этой энергииI=можно подтвердить сделанный ранее вывод= о томI=что более упорядоченное состояние более==устойчивоK= АналогичноI= энергия миграции в упорядоченном состоянии= имеет большее значениеI=чем в разупорядоченном=EрисKNKPPFK==
= РисK=NKPPK=Качественный вид температурной зависимости коJ эффициента диффузии в упорядочивающихся сплавах= =
1.4. Вопросы для самопроверки к разделу 1 NK Дайте определение дефекта кристаллаK= OK Назовите основные виды дефектов кристаллических систем и= их классификацийK= PK Что такое структура==кристаллического твердого тела?= QK Что такое морфология твердого тела?= RK Соотнесите каждый из следующих дефектов с классификациJ ей по размерности= Eточечные дефектыI= линейные дефектыI= плоские= дефектыFW= J=междоузельные атомыX= J=вакансииX= J=примесные атомыX= J=междоузельная гантельX= J=вакансионная пустая пораI= J==пораI=заполненная газомX= J=граница кристаллаX= J=граница зернаX=
R8= =
J=граница двойникаX= J=дислокация==краеваяX= J=дислокация винтоваяX= J=дислокационная петляK= SK Может ли система междоузельных дефектов не порождать= = искажения решетки кристаллического твердого тела?= TK Дайте определение и укажите порядок феноменологических= параметровI=характеризующих==дилатационный точечный дефектK= 8K В моноатомном кристаллическом твердом теле может ли= быть несколько типов междоузельных дефектов из собственных= атомовI=вакансий?= VK Приведите примеры классификации сплавов= Eтвердых расJ творовFK= NMK Дайте определение и приведите примеры сплава замещенияK= NNK Дайте определение и приведите примеры сплава внедренияK= NOK Дайте определение и приведите примеры сплава вычитанияK= NPK С понижением температуры концентрация равновесных деJ фектов должна понижатьсяI=в то же время на практике их оказываетJ ся существенно большеK=В чем причина?== NQK В чем различие заселенности узлов при высоких и низких= температурах?= NRK Представьте качественный график концентрации равновесJ ных дефектов и времени их жизни от температурыK=Какие величины= определяют эти зависимости?= NSK Представьте качественный график концентрации равновесJ ных дефектов и времени их жизни от температуры при наличии= структурных вакансийK= Какие величины определяют эти зависимоJ сти?=При каких условиях создаются структурные вакансии?= NTK Какие термоактивируемые процессы рождения дефектов суJ ществуют в кристаллах?= N8K В каких процессах создаются неравновесные точечные деJ фекты?= NVK В каких процессах уничтожаются неравновесные точечные= дефекты?= OMK Как влияет давление на концентрацию вакансий в кристалле?= При каких давлениях это влияние существенно?= ONK Приведите определение упорядоченного сплава и покажите= на примереI=в чем различие сплава и раствора?=
RV= =
OOK Что такое антифазные домены в упорядочивающихся сплаJ вах?=Приведите примеры?= OPK Дайте определение дефектов=–=антисайтовK= OQK Какой физический смысл имеет величина=wZOsA_=–=sAAJ=s__= для двойных сплавов?==Рассмотреть=w=YMI=w[MK= ORK Для двухкомпонентного сплава замещения нарисовать качеJ ственную зависимость энергии образования вакансий от составаK= OSK Как экспериментально наблюдать фазовый переход порядокJ беспорядок в упорядочивающихся сплавах?= OTK Нарисуйте качественный вид температурной зависимости= параметра дальнего порядка для упорядочивающегося сплава=A_K= O8K Нарисуйте качественный вид температурной зависимости= параметра дальнего порядка для упорядочивающегося сплава=An_mK= OVK Сколько решений можно найти для одного значения темпераJ туры для дальнего порядка?= PMK Какой физический смысл отрицательных значений параметра= порядка?= PNK Нарисуйте качественную зависимость дальнего и среднего= значения ближнего порядкаK= POK Дайте определение ближнего порядкаK= PPK По какому ансамблю происходит усреднение для ближнего= порядка?= PQK Нарисуйте качественную зависимость концентрации анJ тисайтов от температурыK= PRK Какие приближения используются при определении параметJ ра дальнего порядка?= PSK Какой физический смысл параметра дальнего порядка для= сплава?= PTK Нарисуйте качественную зависимость концентрации ваканJ сий от температуры в упорядочивающемся сплаве АВK= P8K Какое соотношение между потенциалами взаимодействия= атомов должно выполняться в приближении парного взаимодействия= для тогоI=чтобы сплав был упорядоченным?= PVK Физический смысл приближения среднего поля и его испольJ зование при выводе выражения для статистической суммы?= QMK Назовите основные предпосылки при выводе выражения для= концентрации равновесных вакансий в упорядоченном сплаве АВK=
SM= =
РАЗДЕЛ O ОПИСАНИЕ ДЕФЕКТОВ КРИСТАЛЛИЧЕСКОЙ СТРУКТУРЫ В РАМКАХ ТЕОРИИ УПРУГОСТИ = Рассматриваются задачиI= в которых концентрация дефектов= считается малойI= т.еK= можно предполагатьI= что дефекты образуют в= матрице слабый раствор и их взаимодействие малоK= Для ряда задач= удобно воспользоваться моделью сплошной среды и пренебречь= деталями кристаллического строения изучаемого твердого телаK= В= этом случае решение можно искать в рамках теории упругостиK = Теория упругости не является полным эквивалентом= = задач= математической физикиK=Она строится для малых смещений среды и= является линейным приближением уравнения состояния среды по= этим смещениямK= Вследствие этогоI= в частностиI= возможна= постановка граничных условий на невозмущенных границах образца= для ряда задачK= =
O.1. Основные положения механики сплошной среды = O.1.1. Определения При континуальном описании кристалла исходным понятием= служат векторы абсолютных смещенийI= определяемых в каждой= r r r точке среды= r ( x , y , z ) в некоторый момент времени=tW= r r , t .= При=
( )
этом= rk= –= координаты координатным осямK=
смещений
по
соответствующим=
При деформации координата==точки среды=xM перемещается в= координату==
æ
Dx
è
xM
x = xM ç N +
ö ÷ = x M (N + e xx ) I======================EOKNF= ø
где= Dx / x M º e xx есть относительная линейная деформация средыK==
SN= =
При деформации малый элемент среды объемом= s M = x M yM z M = в линейном приближении преобразуется в объем== s = s M + D s = ( x M + D x ) × ( y M + Dy ) × ( z M + D z ) = I=EOKOF= = x M yM z M (N + e xx ) N + e yy (N + e zz ) » sM éN + e xx + e yy + e zz ù
(
)
ë
(
)û
где================= q = e ll = e xx + e yy + e zz
= ======================== =–= локальная объемная относительная деформация= EдилатацияFK= СледовательноI== = Ds º s M × q =K=========================EOKPF Определение: Основной геометрической характеристикой= деформированного состояния среды является симметричный тензор= æ O è ¶x k
ö ¶xi ø
относительной деформации= e ik = N ç ¶r i + ¶r k ÷ K== Этот тензор имеет шесть различных компонентовI= которыеI= из-за тогоI= что среда сплошнаяI= зависимы между собойK= Условие= связности среды может быть записано как условие Сен-ВенанаW= eilm × ekpn × Ñ l × Ñ p e mn = M I= где= e kpn =J=единичный тензорK= ОчевидноI= что= pp e ik º e rr º q K= СледовательноI= изменение= всего объема кристалла составляет величину== Dscrii
= å Ds = ò ppe ik ds K================EOKQF=
ОпределениеW= Пусть в среде задана система координат= = (рисKOKNFK== Пусть= ci = –= силаI= приложенная в точке АI= принадлежащей= единичной площадкеI== ориентированной в соответствии с нормалью= r n M I=которая и задает ориентацию площадкиK=Тензор напряжений= s ik = связывает ориентацию площадки с компонентами силы=
ci = sik nkM K= Распределение напряжений в бесконечно малом= элементе объема показано на рисKOKOK=
SO= =
В случае если твердое тело подвержено гидростатическому= давлениюI= напряжения равны= s ik = - pM d ik K= Поэтому величину= гидростатического давления можно определить как=
p= -N / P ×sll K= ( d ii = P ) K= M r i
r k A
uur nM r j
ur c
=
= РисK= OKN= = Единичная площадкаI= = ориентированная в=
соответствии с нормалью=
r n M I= c i = – =силаI =приложенная в точке= А=
площадки= = В любом тензоре напряжений можно выделить его гидростаJ тическую частьW= N / Psll d ik K= Тогда оставшийся тензор есть тензорJ N девиатор= s ik¢ = s ik - s ll d ik K= Тензор-девиатор характеризует сдвигоJ P вые напряжения в кристалле=EрисKOKPKFK=
SP= =
z
σPP σ2P
σNP
σP2
σPN σNN
σN2
σ2N
σ22
y x
= РисKOKOK= Распределение напряжений в бесконечно малом элементе= объема=
y
u1 φ1
φ2 M
u2 x
РисK=OKPK=Сдвиговая деформация плоской фигуры= =
SQ= =
=
O.1.O. Закон Гука ОбщепринятоI= что закон Гука связывает малые упругие деJ формации и возникающие напряжения в кристаллеK= В полном= Eно= еще не в обобщенном видеF= закон Гука записывается какW= sik = l ikjl e jl K= Определение: Тензор=
l ikjl называется тензором упругих=
{ }
модулейK=Общее количество компонентов тензора= likjl = PQ = 8N K= Рассмотрим кубический кристаллK= Хотя он не изотропенI= в= нем есть три эквивалентных направленияK= Поэтому количество разJ личных компонентов тензора упругих модулей также равно тремW= = lN = lNNNN = l OOOO = l PPPP , =========================EOKRF= l O = lNNOO = lNNPP = l OOPP ,
d = lNONO = lNPNP = l OPOP = все остальные коэффициенты равны нулюK== В литературе принято пары индексов обозначать одной цифJ ройK=В таблице ниже приведены стандартные обозначенияK= = ТаблKOKNK=Обозначения свертки индексов= NN=
OO=
PP=
OP=
PN=
NO=
PO=
NP=
N=
O=
P=
Q=
R=
S=
T=
8=
= В=изотропной=конденсированной среде между тремя упругиJ ми модулями существует связьW= l N - l O - Od = M K=СледовательноI=
для описания изотропной среды нужно всего два индексаW= l = l O I= dK=Эти индексы также носят название индексов ЛамэK=
SR= =
Выражение для компонент тензора упругих модулей= изоJ тропной= среды можно записать в общем видеW= liklm= ld ik d lm + d Ed il d km + d im d kl F K= Закон Гука для изотропной среды примет видW=
és ik = Ode ik I i ¹ k ==========================EOKSF=== ê ës ii = ==Ph e ii I i = k= I где коэффициент= h = l + O L Pd носит название модуля объемного= сжатияI= коэффициент= d= – =модуль сдвигаK =Ниже приведены соотноJ шения между наиболее часто встречающимися упругими константаJ ми для изотропной средыW= b= n=
d(Pl + Od ) d+l P h - Od O(P h + d )
dºm= l=
=
=
b O(N + n )
Vdh
(
l O(d + l )
)
= Od N + n ;
Ph + d
=
b - Od Od
;
;
nb
(N + n ) (N - On )
=
On d N - On
;=======B º h
==========EOKTF= =
O.1.P. Закон Гука в обобщенном виде NK=Сначала рассмотрим следующие условияW= J=температура постоянная и однородная по образцуX= J=среда изотропнаяX= J=внутренних дефектов в среде нетK= Пусть=c=–=свободная энергия средыK=По определениюI=напряJ жения в среде есть= ¶c sik º K========================================EOK8F= ¶e ik ОказываетсяI= что закон Гука можно получитьI= исходя из обJ щего выражения для свободной энергии=c кристаллаK=Действительно=
SS= =
c==–=величина скалярнаяK=Каким образом можно составить скаляр из= тензора деформации?=При этом надо учестьI=что энергия=–=величина= квадратичная по деформации=ErZ=kxOFK==ОтметимI=что любой тензор= относительной деформации можноI= как и тензор напряженийI= предJ ставить в виде суммы гидростатической и девиантной частейW= N æ ö e ll d ik + ç e ik - dik e ll ÷ K==================EOKVF= P P è ø Разложим добавку к свободной энергииI= обусловленную деJ формациейI=по малым смещениямI=точнее по квадратам гидростатиJ ческой и девиантной частей тензора относительной деформации== e ik =
(
N
)
Dc q , s =
h
O ell
N æ ö + d ç e ik - dik ell ÷ P è ø
O
I= O где коэффициенты=d и=h==–=коэффициенты разложенияK= В дальнейJ шем мы их будем называть=d=–=модулем сдвигаI=h=–=модулем объемJ ного сжатияK= = Рассмотрим приращение свободной энергии= cI= обуJ словленное изменением деформацийW= N N æ ö æ ö dc = h ell de ll + Od ç e ik - e ll dik ÷ d ç e ik - ell dik ÷ K= P P è ø è ø
æ è
Поскольку= ç e ik -
N P
ö ø
e ll dik ÷ ×dik = M I=то==
é N æ öù dc = ê h ell dik + Od ç e ik - ell dik ÷ ú de ik K= P è øû ë Таким образомI=получаем отсюда закон ГукаW==
æ è
sik = h ell dik + Od ç e ik -
ö dik ell ÷ K================EOKNMF= P ø
N
OK=Поскольку для описания реальных кристаллов с дефектами= предполагается использовать теорию упругостиI= то естественным= образом возникает вопросI= как использовать сплошную средуI= не= имеющую никакой атомной структурыI= для описания точечных деJ фектов?=
ST= =
Закон Гука утверждаетI =что если в кристалле возникла деJ формацияI=то возникает и соответствующее ей напряжениеK=Однако= есть случаиI=когда деформация не связана с напряжениемK=Возможны= также ситуацииI= когда в кристалле возникают напряженияI= не свяJ занные с деформациейK= В представленном виде закона Гука не учитывается= возможность возникновения=свободной деформацииI=не приводящей= к появлению напряженияK= Таким примером является свободное= термическое расширениеK== Будем считать недеформированным состояние тела при= отсутствии внешних сил при некоторой температуре= qMK= Если тело= находится при температуре= q ¹ qM I=то даже в отсутствие внешних= сил оно будет деформировано в связи с наличием теплового= расширенияK= Поэтому в разложение свободной энергии= cEqF= будут= входить не только квадратичныеI= но и линейные по тензору= деформации членыK= Из компонентов тензора второго ранга= e ik = можно составить всего только одну линейную скалярную величину=–= сумму его диагональных элементов= e ii K==ДалееI=будем предполагатьI= что коэффициент при= e ii пропорционален разности= EqJqMFK =В этих= предположениях для свободной энергии системы получимW= c
N æ ö = cM + d ç e ik - d ik e ll ÷ P è ø
O
+
h O
(
O
)
ell - h a q - qM ell I=
здесь=cM=–=свободная энергия без напряжений и нагреваK==ДифференJ цируя=c= по= e ik I=получим тензор напряженийW= sik º
¶c ¶e ik
(
= - h a q - qM
) dik + h ell dik + Od æç eik è
N P
ö ø
d ik e ll ÷ K===EOKNNF=
Первое слагаемое представляет собой дополнительные= напряженияI= связанные с изменением температуры телаK= При своJ бодном тепловом расширении тела= Eпри отсутствии внешних силF= внутренние напряжения должны отсутствоватьI=т.еK=
(
)
s ik º M ® e ll = a q - qM I=
т.еK=a есть не что иноеI= как коэффициент термического расширения= телаK=
S8= =
НапомнимI= что== с точки зрения дискретной теории твердого= телаI= тепловое расширение связано с несимметричностью= потенциальной энергии атомов в решетке относительно точки= равновесия= Eангармонизм колебанийFK= При этом очевидноI= что= каждая ячейка решетки изменяет свои линейные параметрыK= PK=Определенный вид точечных дефектов кристалла такжеI=по= сутиI= является внутренними центрами дилатации= EрасширенияFI= но= локализованнымиK= При однородном пространственном распределеJ нии таких точечных дилатационных дефектов эффект их воздейJ ствия на тело может рассматриваться по аналогии с тепловым расJ ширением иI= следовательноI= под действием дефектов тело также деJ формируется без возникновения напряженийK= Свободная деформация возникает также и при введении= точечных дефектов в твердое телоW= s ¢ik = s ik - h w n d d ik I= т.еK=
N æ ö = s¢ik = - h a (q - qM ) dik + h ell dik + Od ç eik - dik ell ÷ - h wnd dik , P è ø ===EOKNOF=== где= n d = –= концентрация дефектовI= w= –= дилатационный объем= дефектовK=ОтметимI=что это уравнение справедливо для характерных= расстояний= iI много больших расстояний между отдельными= дефектами=nJNLPK= = O.1.4.Общий вид уравнений в абсолютных смещениях Рассмотрим уравнение теории упругости с учетом действия= дефектов на расстояниях меньшихI= чем среднее расстояние между= отдельными дефектами= nJNLPK= = Запишем общее= EволновоеF= уравнение= движения средыW== r r&&i = Ñ k s ki + f i I= здесь вектор=fi описывает плотность действующих на кристалл объJ емных силI=а тензор= s ik связан с деформациями законом ГукаK=Под=fi== понимаются внешние силыI= действующие внутри средыI= в частноJ стиI= это могут быть силыI= действующие со стороны отдельных деJ фектовI=выражение для которых пока нам неизвестноK== В условиях статического равновесия выполняется равенство= r r&&i = M I=следовательно=
SV= =
M = Ñ k s ki + f i K= Для дальнейших преобразований воспользуемся соотношениемI=слеJ дующим из полного закона Гука для изотропной средыW== ¶sik ¶x k
=h
æ ¶e dik + Od ç ik ¶x k è ¶x k ¶e ll
-
ö æ O ö ¶e dik ÷ = ç h - d ÷ ll P ¶xk P ø ¶xi ø è
N ¶ell
+ Od
¶e ik ¶x k
=
===EOKNPF и определением тензора относительной деформацииW= N æ ¶ri ¶r k ö K= e ik = ç + ÷ O è ¶x k ¶x i ø В сферических координатах= r, q, j для тензора относительной деJ формации имеемW= = ¶r r N ¶r r N ¶r j r q r + ;= = eqq= = = = = =q += = r =; = ejj = ctgq + r ; ¶r r ¶q r r sin q ¶j r r ¶ N r N ¶r q Oe qj = ( j - r jctgq) + ; r ¶q r sin q ¶j
err =
O======= e rq =
¶r q r q N ¶r r + ; ¶r r r ¶q
Oejr =
N ¶r r ¶r j r j + ; ¶r r sin q ¶j r
Воспользуемся известными соотношениями между упругими= b I=здесь=d=–=модуль сдвигаI=h=–= модулямиW= d = b I= h = P (N - Os ) O (N + s ) модуль объемного сжатияI=b=–=модуль ЮнгаI=s=–=коэффициент ПуасJ сонаK=Тогда получимW= ¶ Or i ¶ Or l = b b + + f = M I=====EOKNQF= i O (N + s ) ¶xkO O (N + s )(N - Os ) ¶xi ¶xl r ¶r r l = Dr I== = divr K=В итоге получим уравнение в векJ
O здесь= ¶ r { i } ¶xkO ¶xl торных операторах для абсолютного смещенияW== ® 2 (N + s ) r r N K==============EOKNRF= Dr + gr~d=divr = - f N- 2s b r r Воспользовавшись соотношением= Dr = gr~d=divr - rot=rotr I= окончаJ тельно получимW=
TM= =
® (N + s )(N - Os ) r N - Os r K====EOKNSF= gr~d=divr rot=rotr = - f O(N - s) (N - s) b
Данное уравнение должно решаться совместно с граничными= условиямиI= которые в теории упругости ставятся на границе средыK= ОтметимI= что граничные условия в линейной теории упругости= ставятся на недеформированных границахK= =
O.O. Смещение атомов в кристаллической решетке с точечными дефектами. Изменение объема Применим аппарат теории упругости к расчету возмущенияI= вызываемого дефектами в твердом телеK= Необходимо отметитьI= что= при изучении макроскопических механических свойств твердых телI= как правилоI= определяющим является учет статических искажений= кристаллической решеткиI= создаваемых точечным дефектом вдали= от негоK= ОказываетсяI= что для описания поля смещений атомовI= находящихся вокруг дефектаI= может быть применен некий общий= подходK= ПринципиальноI= что в этом подходе точечный дефект= выступает в роли источника упругого поляK= В дальнейшем для= простотыI= за исключением тех случаевI= когда это специально= оговореноI= в вычислениях будем использовать модель= сплошной= изотропной средыK= Исходя из уравнения= EOKNSF= и считаяI= что в рассматриваемой= области объемные силы равны нулюI=получимW=== ================ gr~d=divrr - N - Os rot=rotrr = M K====================EOKNTF= O(N - s)
Будем считатьI= что наша задача обладает центральной симJ r
r r (r )
метриейI=тогда ее решение можно искать в видеW= r = r r
r
I=rj=Z=rq=
Z=MK=В этом случае= rotr = M K=Таким образомI=второе слагаемое равно= нулюI= и для центрально симметричного случая получаем=
TN= =
r gr~d=divr = M K=Или в сферических координатах=
d éN d O ù r r ú = M K= dr êë r O dr û Решение уравнения может быть найдено в виде= r = A + Br I=тогда== rO
r r æA r r ör r r r (r ) = ç P + B ÷ r º r N ( r ) + r O ( r ) I================EOKN8F= èr ø r r r r r где r ( r ) = A rr и r O ( r ) = Br K=Константы=A и=B могут быть найдены= N rP из дополнительных условийK= Вначале рассмотрим случай бесконечной средыK= Теория= упругости применима только тогдаI=когда во всей исследуемой облаJ сти рассчитываемые смещения малыK= Исследуя поведение нашего= решения на бесконечностиI= приходим к выводуI= что константу= B= необходимо положить равной нулюW===== B=Z=MK= В этом случае смещеJ нияI =вызываемые дефектом в твердом телеI =описываются только= лишь первой компонентом решенияW==
r r r r r r æ Aö r (r ) = r N ( r ) = A P = - gr~d ç ÷ K======================EOKNVF= r èrø
Константа=A называется мощностью дефектаK= Рассчитаем теперь изменение объема= ds изотропной средыI= связанное с наличием дефектаK=Выделим в изотропной среде областьI= ограниченную некоторой произвольной поверхностьюK= ОчевидноI= что под воздействием дефекта выделенный объем деформируетсяK= r Нормальное смещение элемента поверхности есть= rNn = rN ( rr ) × nr I= p r где= n =–=единичный вектор нормалиK=Изменение объема областиI=свяJ занное со смещением рассматриваемого участка поверхности состаJ r r вит величину= d ds = r Nndp K= Суммарное изменение объема области составит величинуW= ìQpA = - если дефект внутJ rr r r rn ï = ри поверхности dp = í ds = r ndp = A
Ñò p
N
Ñò r p
P
ïM = î
TO= =
а=
=
=
=
= б= = РисKOKQK= Качественная картина абсолютных смещений для= областейI=не содержащих=EаF=и содержащих дефект=EбF= = Иначе говоряI=в рамках нашей модели дефект представляет собой=dJ образную особенностьK= Вычислим относительное изменение объема= кристаллаW==
r N d O ds ¢ - ds dd s N d = º q = divr = O r rN = O A = M K=====EOKOMF= ds ds r dr r dr
Таким образомI= точечный дефект в= бесконечной= изотропной среде= вызывает только сдвиговое смещениеK== Рассмотрим теперь случай= конечного твердого телаK= Вновь= предполагая сферическую симметрию задачиI= считаемI= что дефект= находится в центре сферического твердого телаK= ПредположимI= что= поверхность кристалла свободнаI= тогда граничное условие можно=
= M I= где= s rr p = –= радиальная составляющая= напряжений на поверхности кристаллаK= Как и преждеI=решение задачи записывается в видеW== r r r r r r r r r r (r ) = r N ( r ) + r O ( r ) = A P + Br I= r =
записать в видеW= s rr
p
TP= =
= РисKOKRK=Сферический образец с точечным дефектом в центре= = однако константа=B теперь не равна нулю и может быть найдена из= граничных условийK= Для компонентов тензора относительных деJ формаций имеемW==
err =
¶r r A = -O= P += B, = ¶r r
r A e=jj == e qq == =r = P + B K==========EOKONF= r r r
Таким образомI=дилатация равна= q = div r = P B K=Записав закон Гука= для радиальной составляющей напряженийI=получимW=
A + OdB K= rP Qd Тогда из граничного условия следуетI=что= B = A K= P P O l + d R ( ) srr = lq + Oderr = lq - Qd
Введем постоянную ЭшелбиW== g = N+
Qd Pl + Od
= N+
Qd Ph
=P
N- s N+ s
K=
Тогда смещение в нашей задаче может быть записано в виде== r é N g - Nù r r =A êë r P + RP úû r K==============================EOKOOF=
TQ= =
r r Смещения типа= r O r связаны с наличием поверхностиI= поэтому иногда говорятI= что смещения вызваны силами изображеJ нияK= r P Дилатация равна= q = divr = P g - N A / R K= Общее изменеJ
()
(
)
ние объема кристалла составитW= ds = dsN + dsO = Q pA +
Q
P
pR q = QpgA K=============EOKOPF=
P Оценим вклад смещенийI= вызванных силами изображенияI=в= изменение объема кристаллаK= Коэффициент Пуассона= s принимает= значения в диапазоне=M=¸= N / O K=СоответственноI=постоянная Эшелби= g принимает значения в диапазоне= P= ¸= NK= Возьмем= s = N / P I= тогда=
g = P / O K=Получим= dsO / dsN = N / O K=Таким образомI=вклад сил изобJ ражения существененK= Как это отмечено вышеI= изменение объема=dsN представляет= собой====== d-образную особенность и сосредоточено на самом дефекJ теK= Второе слагаемоеI= dsO= –= напротив= “размазано≤=по всему объему= кристаллаK= ОказываетсяI=формула=EOKOPF=верна и для произвольного тела= и произвольно расположенного дефектаK= В теле произвольной форJ мы смещенияI= вызванные силами изображенияI= зависят от формы= тела и расположения дефекта относительно поверхностиK=Однако эти= смещения точек среды представляют собой плавно меняющуюся= r r функцию координатI=тогда как смещения типа= r N ( r ) резко возрасJ тают при приближении к дефектуK= =
O.P. Поведение дефекта во внешнем поле смещения Исходным является уравнение статического равновесия= r упругой среды= Ñ k s ki = - f i I= здесь= f = –= плотность объемных силI= действующих внутри образцаK= Умножим обе части этого уравнения скалярно на радиусJ вектор и проинтегрируем по всему пространствуW==
TR= =
rr u Ñ s ds = rf i k ki ò ò ds K======================EOKOQF=
( )
Преобразуем левую часть уравнения следующим образомW= = r u Ñ s ds = Ñ s u ds s Ñ u ds = u s dp - ò s kk ds I== ( ) i k ki k ki i ki k i i ki ò ò ò Ñò p
при преобразовании было учтеноI=что= Ñ k u i = d ki K=Первый интеграл= определяется граничными условиями на поверхностиK= Во втором= интеграле учтемI=что= s kk = P h e kk I=где=h=–==модуль объемного сжаJ тияK=СледовательноW= rr Ph Ds = rf ds + u s dp K========================EOKORF=
ò(
)
Ñò
i
ki
k
p
Таким образомI=относительное изменение объема кристаллаI=связанJ r ное с действием внутренних сил= f и сил на поверхностиI=равноW== ù K===============EOKOSF= N é rr Ds = u s dp ê ò rf ds + Ñ ú i ki k òp Ph ë û =
( )
O.4. Плотность внутренних сил, эквивалентных центру дилатации Вспомним атомную модель точечного дефектаK=Ближайшие к= точечному дефекту атомы испытывают действие дилатационных= силI= обладающих симметричным распределением в каждой коордиJ национной сфере=EсмK=рисK=OKSFK=Система этих силI=разумеетсяI= облаJ дает результирующей и полным моментомI= равными нулюK= Если= вернуться к макроскопическому рассмотрению дефектаI= то можно= увидетьI= что их действие эквивалентно действию трех пар сил равJ ной величиныI=приложенных к точке расположения междоузельного= атома или вакансии и направленных по координатным осямK== O Исходя из смещения вдали от дефектаI = r = A L r I найдем= вид этих объемных силK=В векторной записи смещения можно предJ
r ставить как= r = -Ñ æ A ö K= ç ÷ èrø
TS= =
= РисK=OKSK=Качественный вид смещений близи точечного дефекта= = Тогда получимW=
r r ¶ æ Aö æNö divr = r i = -div=gr~d ç ÷ = - AD ç ÷ = OpAd ( r ) K====EOKOTF= ¶u i èrø èrø r r gr~d=divr = Q pA × gr~d=d r I=
()
СледовательноI=
учитывая
что=
r æNö rotr= - A × rot=gr~d ç ÷= M I= подставим эти выражения в уравнение= èrø
равновесияW= r (N + s ) × (N - Os ) r N - Os r I= gr~d=divr rot=rotr = - f O(N - s ) b × (N - s )
получимW=
(N + s ) K=Отсюда= P h (N - s ) r r r f = - h QpAggr~dd ( r ) = - h W M gr~dd ( r ) I========EOKO8F=
r r r) - f QpA =gr~dd(=
где введено обозначениеW= W M = Q pA g K=
TT= =
Таким образомI =в теории упругости дефект можно описать δJ функционной плотностью силK= Мощность дефекта характеризуется= величиной= WMK= Реакция среды на дефект определяется ее модулем= сжатия=КK= Изменение объема для тела конечных размеров с указанным= распределением плотности сил составит величину== rr r r N h N rf ds =Ds = W r Ñd(r )ds = W d(r ) × divr = ds =W KEOKOVF= Ph
ò(
)
Ph
M
ò
r r
P
M
ò
M
Дилатация= q = ppell =divr (r ) = - A × div=gr~d N = M равна нуJ
r
лю вездеI=за исключением начала координатI=т.еKI=как это получалось= и раньшеI=точечный дефект создает==только сдвиговую деформацию= в окружающей бесконечной средеK= ЕстественноI= последний вывод= справедлив только тогдаI=когда среда является упруго изотропнойI=а= точечный дефект эквивалентен центру дилатацииK= В противополоJ женной ситуации упругое поле точечного дефектаI=строго говоряI=не= является чисто сдвиговымK= В общем случае неизотропного возмущения можно записатьW=
r fi = - h W ik Ñ k d r K===========================EOKPMF=
( )
Как правилоI= характерный объем дефектов= N / P × Wll для ваJ кансий отрицателенI=для междоузлий положителенK=Для простых меJ таллов его величина составляет порядка= M . Nw M K ОднакоI=напримерI= для анизотропного графита она достигает больших значений= –= поJ рядка= Rw M K= В заключение отметимI= что введенный здесь способ описания= точечных дефектов= – =через плотность объемных сил= = – =подходит и= для описания других типов дефектовI=например дислокацийK= =
O.R. Взаимодействие дефектов с внешним упругим полем Будем считатьI= что дефект воздействует на кристаллI= в котоJ ром он находитсяI =тремя способамиK =Прежде всегоI =он вызывает= смещение атомов матрицыK= Кроме тогоI= дефект выступает в роли=
T8= =
локальной неоднородностиI=т.еK=онI=с одной стороныI=вносит изменеJ ние в массу элементарной ячейкиI=с другой=–=дает локальное изменеJ ние силовых константI=входящих в закон Гука= r r M = l ¢iklm = l iklm + W * L iklm d ( r - rM ) I=============EOKPNF= r
где= rM =–=точка расположения дефектаK= Пусть кристалл с точечным дефектом находится под действиJ ем внешней нагрузкиK= Рассмотрим некоторую общую задачуW= деJ фект в упругом поле смещенияI= созданном внешней нагрузкой на= средуK= РаботуI =которую совершает= = внешнее поле над дефектом при= малых смещениях последнегоI= найдем из работы внешних сил над= образцомI=содержащим дефектK=Последняя равнаW= dR = Ñò sik × dr k dp i = ò Ñi ( sik ×dr k ) ds = = p r r = ò dr k ×Ñ i sik ds + ò sik ×deik ds = - ò f ×drds + ò sik ×de ik ds =EOKPOF r Используем явный вид для объемных сил= f I= соответствуюJ щих наличию точечного дефекта в кристаллеI=а для преобразования= последнего слагаемого в= EOKPOF= используем закон Гука= s ik = l ¢iklm × e lm W= r r dR = h Wik × ò dr i ×Ñ k d ( r - rM ) ds + = r r * M +W × ò L iklm × elm × de ik ×d ( r - rM ) ds + ò l iklm ×elm ×deik × ds
Выполним интегрирование по частям в первом слагаемомI= во= втором= –= проведем тривиальное интегрированиеI= а в третьем учтем= симметриюW= N M dR = - éë h W ik - W* × L iklm × e lm ùû |rr=rrM ×de ik + ò l iklm × d ( e ik e lm ) ds . O = Будем считатьI= что температура во время деформации постоJ яннаK= Тогда работа= do совпадает с изменением свободной энергии= кристаллаK= СледовательноI= полная свободная энергия деформироJ ванного кристалла может быть записана в видеW= r r r N M N c = c (q ) + l × e × e × ds - h W × e ( r ) + W *L e ( r ) e ( r ) I================ Oò
M
iklm
ik
lm
ik
ik
TV= =
M
O
iklm ik
M
lm
M
EOKPPF=
где= cM (q ) =–=свободная энергия кристалла с одним точечным дефекJ том при отсутствии упругого поляK== Объемный интеграл=Eвторое слагаемоеF=равен энергии упругоJ го поля образца без дефектаK =Последние два слагаемых определяют= энергию взаимодействия дефекта с упругим полемW= r r r N = b вз = - h Wik × eik ( rM ) + W* × L iklm × eik ( rM ) × elm ( rM ) . O =========EOKPQF r Пусть дефектI=находящийся в точке= rM I=сдвинули на величину=
r dr I=тогдаW=
r r de ik = ( Ñ j e ik ) du j I======== db вз = - c × dr I==========EOKPRF=
Варьируя
выражение
для=
b вз I=
получим=
= –= силаI= с которой упруго деJ c= j ëé h W ik - W × L iklm × e lm ûù × Ñ j e ik *
формированный кристалл действует на дефектK= Как видимI= точечный дефект взаимодействует с упругим поJ лем двояким образомK =С одной стороныI =дефект выступает как исJ точник дилатацииI= это отражено в первом слагаемомI= линейном по= деформациямK=С другой стороныI=дефект проявляет себя как локальJ ная неоднородность упругих свойствI= что передает второе= EквадраJ тичное по деформациямF= слагаемоеK= Первое слагаемое называют= = размерным эффектомI=а второе=–=модульным эффектомK= Обычно деформации считают малымиI= модульным эффектом= (квадратичным по деформациямF= пренебрегают и в выражении для= энергии и силы оставляют линейное по упругим деформациям слагаJ емоеW= bвз = - h W ik ×eik I======= c j = h W ik × Ñ j × e ik K===========EOKPSF= Если перейти к еще более простому изотропному случаю=
W ik = W M d ik I= то энергию и силуI= действующую на центр дилатаJ
цииI=можно выразить через среднее гидростатическое давлениеW== r N bвз = - W M s ll º W M pM I= c = N W M × gr~d(s kk ) = -W M × gr~d( pM ) K===EOKPTF= P P Таким образомI=в линейном приближении на точечный дефект= в бесконечной изотропной среде и в кубическом кристалле действуJ
8M= =
ет силаI= пропорциональная градиенту среднего гидростатического= давленияK== Направление силы зависит от типа дефектаK=Для дефекта с отJ рицательным дилатационным объемом= W M < M = EвакансииF= сила= направлена в сторону увеличения давленияI=т.еK=эти дефекты смещаJ ются в более сжатые области кристаллаK= СилаI= действующая на деJ фекты с положительным дилатационным объемом= W M > M = EмеждоJ узельные атомыFI= направлена в сторону понижения давления= –= деJ фекты смещаются в разреженные области кристаллаK= Чисто сдвигоJ вые деформации никак не взаимодействуют с дефектом=E s kk = M FK= =
O.6. Упругое взаимодействие точечных дефектов = Пусть теперь в кристалле есть два дефектаK =Один дефект соJ здает в матрице поле смещенияI= а другой дефектI= воспринимая это= смещениеI=должен взаимодействовать с первымK=Именно таким обраJ зом в рамках теории упругости удается описать взаимодействие деJ фектовK= Взаимодействия такого рода принято называть деформациJ оннымиK= Однако вспомним теперьI= что точечный дефект в изотропном= приближении создает только сдвиговые напряженияI=следовательноI= s kk = M и взаимодействие дефектов отсутствуетK= Таким образомI= два точечных дефекта в изотропной= бесконечной среде в линейном приближении не взаимодействуютK= В анизотропных средах мощность точечных дефектов может= быть достаточно великаI=а упругие поляI=создаваемые дефектамиI=не= являются чисто сдвиговымиK= В таких веществах между дефектами= возникает взаимодействиеK= Природу деформационного взаимодействия удобно объяснить= на приведённой ниже простой аналогии=EрисKOKTFK= Представим упругую горизонтальную поверхностьI=на которой= на различных расстояниях друг от друга размещены небольшие шаJ ры= Eупругая поверхность имитирует плоскую кристаллическую реJ шёткуI =а шары= = – =дефекты на нейFK =ОчевидноI =что если расстояния= между шарами великиI= то они не будут= ?чувствовать?= друг друга и= расположатся каждый в своей лунке на поверхностиK= Однако стоит=
8N= =
двум шарам сблизиться на некоторое минимальное расстояниеI= определяемое упругими свойствами поверхности и==весом шаровI=как= под действием упругих сил они начнут двигаться на встречу друг= другу и в результате= ?свалятся?=в общую лункуK=ОчевидноI=что при= соответствующем начальном расположении в лунке может оказаться= и большее количество шаровK= На этом простом примере видноI=что деформационное взаимоJ действие обуславливает взаимное притяжение одноимённых дефекJ тов и может являться реальной причиной образования скоплений= дефектовK=
a)
б)
в) = РисKOKTK=Качественная картина взаимодействия междоузельных= атомов==в графите=–=слоистом веществеI=обладающем сильными аниJ зотропными свойствамиK= Взаимодействие двух междоузельных атоJ мовI=расположенных между одной и той же парой базисных плоскоJ стей графита= Eа и= бFK= Взаимодействие двух междоузельных атомовI= расположенных между разнымиI= но соседними базисными плоскоJ стями графита=EвF= = Так расчет показываетI=что в графите=–=слоистом веществеI=обJ ладающем сильными анизотропными свойствамиI= взаимодействие= двух междоузельных атомовI=расположенных между одной и той же=
8O= =
парой базисных плоскостей графитаI= на расстоянияхI= меньших= rM= ≈= NM=ÅI= носит характер притяженияK= Причем энергия взаимодействияI= величина которой достигает значения порядка= N= эВI= сопоставима с= энергией ковалентной связи в базисных плоскостях=EQKVS=эВFK= ПодчеркнемI= что благодаря анизотропии структуры графита= область взаимодействия дефектов значительно превосходит межJ атомные расстояния=–=объем зоныI=в пределах которой два междоузJ лия притягиваются друг к другуI=равен= s a » QM w M K=ДеформационJ ный потенциал взаимодействия междоузлийI=расположенных между= соседними парами базисных плоскостей графитаI= соответствует отJ талкиванию дефектовK= Величина энергии отталкивания на малых= расстояниях достигает значенияI=равного=O=эВK== =
O.T. Непрерывное распределение точечных дефектов в упругом поле Рассмотрим кристаллI= в котором находится большое количеJ r r ство дефектовK=Пусть= rd (r ) = nd ( r ) / v =–=плотность дефектов в объеJ ме кристаллаK= Здесь= v = –= объемI= по которому выполняется усреднеJ r ниеI= n d ( r ) = –= количество дефектов в объеме v K= Введем относительJ ную концентрацию дефектовI= которую определим как= C = nd I= где= d kM
kM=–=количество атомов кристаллаI=содержащихся в объеме υK=Когда= выполняется условие= С d << N I=можно говорить о слабом==EидеальномF= растворе дефектов в матрицеK= Рассмотрим дефекты одного сортаK= Раствор дефектов в равноJ весном или квазиравновесном состоянии характеризуют химическим= потенциалом μI= который определяется концентрацией самих дефекJ товK= Пусть в исходной матрице нет дефектов и напряженийK=Тогда= термодинамический потенциал объема υI= принадлежащего матрицеI= запишется в видеW= FM = k MmM ( p, q ) I= где=mM=–=химический потенциал атомовK=
8P= =
Введем в кристалл дефекты в количестве= ndK Поскольку конJ центрация дефектов мала и раствор дефектов слабыйI=то они не взаJ имодействуют и в термодинамический потенциал внесут аддитивJ ный вкладK=Термодинамический потенциал образца с дефектами заJ пишем в видеW== n ö æ F = k Mm M ( m , q ) + nd a + kq ln nd ! » k M mM ( m , q ) + nd ç a + kq ln d ÷ = = e ø è æ nd
= k Mm M ( m , q ) + nd kq ln ç
è e
a
ö
eq ÷.
ø
EOKP8F
a
Обозначим= e q º f ( m , q ) / k M K= Теперь потенциал можно записать в= однородной по=nd и=kM формеW== én N ù F = k MmM ( m , q ) + nd × kq ln ê d f ( m , q ) ú = = ë kM e û ==================EOKPVF k Mm M + nd × kq ln C d + nd × f¢ ( m , q ) . В соответствии с определением введем химический потенциал= растворителяW== n ¶F mº = m M ( mI q ) - kq d = m M - kqCd I======EOKQMF= ¶k M kM и растворенного=…вещества»I=то есть дефектовW= m¢ =
¶F ¶nd
= kq ln Cd + kq + f¢ ( m I q ) = kq ln Cd + f ( mI q ) K======EOKQNF=
Данное выражение для химического потенциала дефектов поJ лучено при условии отсутствия в кристалле напряженийK= В дефорJ мированном кристалле появляется дополнительная энергия дефекта= в упругом полеI= играющая роль потенциальной энергии частицы во= внешнем полеK= ОчевидноI= что добавка к химическому потенциалу в= напряженном кристалле совпадает с энергией взаимодействия деJ фекта с упругим полемW== m% ¢ ( Cd ) = m ¢ ( Cd ) + bdi I=======================EOKQOF= N r r r где= bdi = - h Wik e ik ( rM ) + W* L iklme ik ( rM ) e lm ( rM ) K= O Здесь необходимо учесть тот фактI=что химический потенциал= является функцией напряженийI=а не деформацийI=поэтому в добавке=
8Q= =
к потенциалу необходимо выразить=εik через=σik с помощью законов= ГукаK= В линейном приближении по напряжениям для центров дилаJ тации получимW== N m% ¢ = kq ln C d + f ( m ,q ) - W ik s ik K===========EOKQPF= P Ограничиваясь изотропным случаемI=окончательно запишемW=
N m% ¢ = kq ln C d + f ( m , q ) - WM skk = kq ln C d + f ( m , q ) + WM pM I=EOKQQF= P где=pM=–=гидростатическое давлениеK== В равновесии химический потенциал везде постоянен= m ZÅonst= по образцуI= тогда можно записать для концентрации дефектовI= выJ деляя сомножительI=зависящий от внешних напряженийW== r r æ WMskk ( r ) ö I=================EOKQRF= * C d (r ,q ) = C d (q )exp ç ÷ è Pkq ø где= C d ( q ) º exp *
é m% ¢ êë kq
ù úû
- f ( m , q ) =–=равновесная концентрация в одJ
нородном ненапряженном кристаллеK= Таким образомI= равновесное= распределение дефектов с учетом возможной неоднородности деJ формации кристалла может быть неоднороднымK= При отсутствии равновесия в твердом теле возникают дифJ фузионные потоки дефектовK= ПредположимI= что температура неизJ менна по всему объему кристалла=E Ñq = M FK=Тогда плотность потока= r дефектов= j d определяется градиентом химического потенциалаW= rd
× ad × gr~d =m% ¢ I========================EOKQSF= kq где коэффициент пропорциональности= ad по определению является= коэффициентом диффузииK== Макроскопический параметр= = ad связан микроскопическими= параметрами матрицы соотношениемW= jd = -
O
æ
bd
è
kq
ad = a n M exp ç -
8R= =
m
ö ÷ I==========================EOKQTF= ø
гдеW=а=–=длина однократного скачка для дефекта=E~ параметра решетJ ки матрицыFX= nM= –= частота колебаний дефекта в потенциальной яме= m
(число попыток выскочить из ямыFX= bd –=энергия миграции?=равная= высоте барьера в адиабатическом приближении=EрисKOK8FK=ЭкспоненJ циальный множитель дает вероятность удачной попытки для прыжка= дефекта в соседнее положениеK= Наличие диффузионных потоков в результате приведет к тоJ муI=что во всем кристалле==должен установиться один и тот же уроJ вень химического потенциала= m% ¢ ZÅonstK= =
= РисK= OK8K= Потенциальный барьерI= разделяющий равновесные= положения дефекта в точках=xM и=xN= = ÑC N - W MÑs kk I=следовательноI== Имеем= Ñm% ¢ = kq P C r W a n j d = - ad Ñnd + M d d Ñs kk K============EOKQ8F= Pkq Первое слагаемое=
( - a Ñn )
в нашем равенстве описывает=
обычную диффузиюI =имеющую место во всех типах веществI = напримерI=в идеальном газеK=Второе слагаемое представляет особый= интересI= так как оно обуславливает так называемую восходящую= диффузиюI=которая зависит от напряжений в матрице=Eдиффузия по= ГорскомуFK=
8S= =
Используя соотношение= pM = -N / P × Ñskk I= поток дефектов= можно выразить через градиент=pMW== r W a n ========================= j d = - ad Ñnd - M d d ÑpM K================EOKQVF= Pkq ОтметимI= чтоI= если объем дилатационного дефекта отрицатеJ лен= E W M < M FI= то дополнительный поток будет направлен в сторону= градиента давленияI =т.еK =в сторону сжатого веществаK = =При= W M > M = возникает поток дефектов=EмеждоузлийF= в сторону меньшего давлеJ ния=EрисKOKVFK== То естьI= при наличии неоднородного давления способный к= перемещению избыточный объем кристалла выталкивается в область= менее сжатого кристалла=EрисKOKNMFK==
= = = РисKOKVK= Направление силI= действуюJ щих в неоднородно сжатом кристалJ ле на вакансию=EfВF=и междоузельный= атом=EfМF= = = =
8T= =
= РисK=OKNMK=Потоки междоузельных атомов и вакансий== в неоднородно сжатом кристалле= =
O.8. Течение кристалла. Ползучесть В реальном кристалле под действием фиксированных внешних= нагрузок может развиваться медленное изменение формы образца=–= течение кристаллаK= Рассмотрим область высоких температур и малых напряженийK= Здесь наблюдается беспороговое течениеI= то есть крип=EползучестьF= кристаллаK= Определение: Скорость необратимого относительного измеJ нения линейных размеров тела называется скоростью теченияK= N
( )
В этой области скорость течения= e& ~ s f q K=Здесь также реJ ализуется механизм диффузионного теченияI=и структура решетки не= нарушаетсяK= Неупругое формоизменение твердого тела всецело обуJ словлено направленными потоками точечных дефектов типа ваканJ сий и междоузлийK= Рассмотрим диффузионный механизм течения монокристаллов= (третья областьFK= Если напряжения в кристалле однородныI= то остаJ ется только одна причина возникновения направленных диффузионJ ных потоков= –= неоднородность граничных условий на внешней поJ верхности образцаK= Поэтому начнем с тогоI= что сформулируем эти= условияK=
88= =
=
Если через внешнюю поверхность кристалла выходит ваканJ сияI= то число узлов решетки уменьшается на единицуI=а объем криJ сталла понижается в меру атомного объема=~PK=На макроскопическом== масштабе уход== большого числа вакансий через некоторый элемент= поверхности кристалла обнаруживается как смещение последней на= величинуI= прямо пропорциональную числу поглощенных или испуJ щенных поверхностью вакансийK= Связь между нормальной составJ ляющей скорости перемещения поверхности= sn и соответствующим= потоком вакансий можно записать в видеW= P M
sn = - ~ j n I========================================EOKRMF= M
где= j n =–=нормальный компонент плотности потока вакансий на поJ верхности телаK= Аналогичные рассуждения можно повторить относительно поJ тока междоузельных атомовK= Легко увидетьI= что вклад потока межJ доузельных атомов в перемещение поверхности образца отличается= лишь знаком от соответствующего вклада для вакансийK= ПоэтомуI= M
если положить в формуле=EOKRNF= j = js - j f I= где= j s и= j f =–=плотJ ности потоков вакансий и междоузельных атомовI= то она станет= универсальнойK= Если поверхность кристалла нагруженаI= то перемещение этой= поверхности сопровождается работой внешних силK=Пусть к поверхJ ности кристалла приложено нормальное напряжение= s n = s ik n i n k I= r где= n = –= единичный вектор нормалиK= Тогда работаI= приведенная к= единице площади поверхности и совершаемая за время= dt I=равна== d o = s nsnd t = -~ Ps n jnMd t = - ~ Ps nd k I=========EOKRNF= где== d k –=число вакансийI=уходящих из кристалла через единичную= площадку за время= d t K= СледовательноI= работаI= совершаемая при уходе одной= вакансииI=есть= dR P P = - ~ sn = ~ pM K==============================EOKROF= dk Для междоузельных атомов получим подобное соотношениеK= Только знак правой части следует поменять на противоположенныйK=
8V= =
Как правилоI= диффузионные потоки малы иI= следовательноI= поверхность кристалла перемещается медленноK= Будем считатьI= что= на поверхности успевает устанавливаться локальное равновесие тоJ чечных дефектовI= и их химический потенциал совпадает с таковым= для равновесного состояния при давлении= pM = -s n K= По определеJ нию химический потенциал есть энергияI=приходящаяся на одну чаJ стицу раствораK=Поэтому его величина для вакансийI=находящихся на= нагруженной поверхностиI= отличается от соответствующего значеJ ния у свободной поверхности ровно на величину рассчитанной рабоJ ты внешних силK= УчитываяI= что изменение энергии вакансии равно== работе внешних сил со знаком минусI=получимW= m s p = mMs + ~Ps n = m Ms - ~ P pM = ========================EOKRPF и для междоузельных атомов= m f p = mMf - ~Ps n = m Mf + ~ P pM K======================EOKRQF= Для простоты рассмотрим кристалл с одним типом дефектовK=Пусть= это будутI=напримерI=вакансии=Em=Z=m(νFI=j=Z=jνFK= Когда поле напряжений однородноI= диффузионный поток деJ фектов определяется только градиентом химического потенциала= r C a j = - PM gr~d m I= ~ kq
где через=CM обозначена равновесная концентрация вакансий в ненаJ пряженном кристаллеK=Формула записана в приближении малых отJ клонений от равновесия=Eтогда концентрация дефектов близка к=CMFK= Таким образомI= для стационарных диффузионных потоков= r E div=j = M F= в изотропном приближении= Eили в кубическом кристалJ леF= получимI= что химический потенциал является гармонической= функцией координат= Dm = M K= В качестве примера проанализируем диффузионное течение= кристаллического образца прямоугольного сеченияI= подвергнутого= чисто сдвиговой нагрузке вида=EрисKOKNNFW= s n = - p на его боковых= поверхностях= x = ± iN = ( p > 0 ) и= s n = p на поверхностях= y = ± i O K= Значения химического потенциала на поверхностях в таком кристалJ ле можно определить из граничных условийW=
VM= =
P
dm = - ~ p при=x = ± iN I= P
dm = ~ p при=y = ± iO K=
где= δm определяется как отклонение от его равновесного значения= при отсутствии внешней нагрузкиW= dm = m - m M K= = = РисKOKNNK= Направленный= диффузионный перенос вакансий= под действием внешней нагрузки= = = = = = = На рисKOKNN=стрелками указано направление стационарных поJ токов вакансийI=которые возникнут в объеме кристалла под действиJ ем неоднородных по внешней поверхности граничных условийK= Направленное движение вакансий приведет к томуI= что материал с= боковых поверхностей= x = ± iN кристалла будет перенесен на поJ верхности= y = ± i O I=вследствие чего произойдет распухание образца= вдоль вертикальной оси и сжатие в поперечном направленииK=Не реJ шая задачи о распределении потоков вакансий точноI= произведем= оценку величин этих потоков и вызываемой ими скорости деформаJ цииK= Нормальный компонент скорости смещения какой-либо поJ верхности кристалла по порядку величины есть=
VN= =
P
sn ~ ~ j ~
CM a dm
CM a æ ~P p ö
~ ç ÷ X i ~ ix ~ iy K==============EOKRRF= kq i i è kq ø Скорость относительного изменения линейных размеров телаI= характеризующую установившееся течение кристаллаI= можно полуJ читьI=разделив=sn на размер образца=iW= C a æ p~P ö e& yy = -e&xx ~ MO ç ÷ K=============================EOKRSF= i è kq ø ·
e
T
=
= РисK=OKNOK=Температурная зависимость скорости течения кристалла= = В этом выражении скорость течения кристалла линейно завиJ сит от напряженийK= Необходимо отметить характерную для диффуJ зионного течения кристалла обратную зависимость скорости дефорJ мации кристалла от квадрата размера кристаллического образца=EiOFK= Вид указанной зависимости от линейного размера позволяет сделать= вывод о томI=что чем меньше размер кристаллита темI=соответственJ ноI=выше его ползучестьK= Температурной зависимости скорости течения кристалла= (рисKOKNOF=определяется коэффициентом диффузииW= e& (q ) ~ NL q × exp - bms kq I=====================EOKRTF===============
(
VO= =
)
где= bms =–=энергия миграции вакансииK= Таким образомI= нами был рассмотрен диффузионный мехаJ низм течения монокристаллов и на качественном уровне получено= выражение для скорости необратимого изменения линейных размеJ ров образцаK==
O.9. Кинетика пор в кристалле Ранее была дана классификация типов дефектов кристаллиJ ческой решетки в зависимости от их размерностиW=точечныеI=линейJ ные и плоские дефектыK=Существует еще один=–=объемные дефектыK= Представителем этого типа дефектов являются порыK =Поры в криJ сталле можно рассматривать как конденсат вакансийK=Как и другие= дефектыI =поры в кристалле могут рождаться и растиI =и наоборотI = растворяться и исчезатьK= Исследуем процесс роста одиночной поры в большомI= но= ограниченном теле=EрисKOKNPFK=Поскольку поверхность поры является= внутренней граничной поверхностью кристаллаI= то на этой поверхJ ности= pN должно выполнятся граничное условие для химического= потенциалаW==
ms
pN
= msM + ~Psn I===========================EOKR8F=
здесь= s n =–=напряжения вблизи поверхностиK= = = РисKOKNPK=Геометрия задачи пор= = = = = = = =
VP= =
Пусть пора имеет форму сферыI=а кристалл будем считать изоJ тропнымK=Для пустой поры нормальное напряжение обусловливается= лапласовым давлениемW= Og sn = I===================================EOKRVF= R где=o=–=радиус порыX=g=–=коэффициент поверхностного натяжения на= любой свободной поверхности кристаллаK= В этом случае граничное= условие на поверхности поры можно записать какW= P Og dm = ~ K==================================EOKSMF= pN R Рассмотрим теперь внешнюю удаленную границу кристаллаK= ПредположимI= что в кристалле поддерживается пересыщение пара= мономеров= –= вакансийK= В этом случае граничное условие будет= иметь видW= dm
(N) pO
=
( ) dC = kq dC K======================EOKSNF=
¶m M C ¶C
CM
Если также образец находится в условиях гидростатического сжатия= под давлением=pI=то для внешней поверхности получимW= dm
¥
= kq
dC CM
P - p~ K==============================EOKSOF=
ЗдесьI= поскольку размеры кристалла по сравнению с порой великиI= внешняя поверхность кристалла была формально отнесена на бескоJ нечностьK=Можно считатьI=что внутренняя часть кристалла находится= в квазистационарном состоянииK=Тогда для химического потенциала= должно выполняться уравнение= Dm = M с указанными выше граничJ ными условиямиK=Для скорости изменения радиуса порыI=совпадаюJ щей со скоростью нормального смещения ее поверхностиI= можно= записатьW= dR
P
= sn = - ~ j n =
C M a ¶m
K==================EOKSPF= dt kq ¶n p В принципе задача поставлена и может рассматриваться обычJ ными методами уравнений математической физики для эллиптичеJ ских уравненийK =Однако эту задачу можно решить по аналогии с=
VQ= =
электростатикойK= Эквивалентной задачей является расчет плотности= заряда на сферическом проводнике в изотропном диэлектрике по= известному его потенциалу относительно бесконечностиW=
Dj = M I== n = C ( j M - j ¥ ) I== C = R I== n = Q pR O h I=
где= n= –= полный заряд на проводникеI= C= –= электрическая емкость= проводникаI= φM= –= потенциал проводникаI= φ∞= –= потенциал на бескоJ нечностиI= h =–=поверхностная плотность зарядаK== Для сферически симметричного конденсатора по теореме= Гаусса можно получитьW= ¶j N ¶j Qph = I=т.еK= =h = K= ¶n Q p ¶n Для нашей задачи в случае отсутствия источника вакансий= внутри кристаллаI=имеемW= Dm = M. = Тогда= m играет роль электрического потенциала в задаче о= сферическом конденсатореK=Далее= ¶m dR kq 1 ¶m 1 dR kq = ® =,= ¶n dt C M a 4p ¶n 4p dt C M a т.еK= величинаI= эквивалентная поверхностной плотности зарядов= hI= естьW= 1 dR kq .= " h" = 4p dt C M a Тогда по аналогии с электростатической задачей полный заряд= “n≤= равен= " n " = -QpR
O
æ N dR kq ö ç ÷=R è Q p dt C M a ø
(m
sN
-m
получаемW= -R
O
dR kq dt C M a
æ
= Rç ~
è
P
Og R
- kq
dC CM
+ p~
Уравнение для скорости роста порW=
VR= =
P
ö = ÷. ø =========
¥
) I=
dR dt
=-
CM a æ R R
ç è
*
R
+
p~
P
kq
-
ö ÷ I===================EOKSQF= CM ø
dC
P
* O g~ где= R º = –= величинаI= характеризуемая отношением поверхJ kq ностной энергииI= приходящейся на один атомI= к его тепловой энерJ гииK= Проанализируем полученное выражение с физической точки= зренияK= NK= Введем величину критического давления в соответствии с= kq dC равенством= pk = P K=ВидноI=что когда давление достигает знаJ ~ CM чения больше критического=E p > p k FI==любая пораI=независимо от ее= радиусаI= начинает уменьшать свои размерыI= “растворяясь≤= в криJ сталлеK=Внешнее давление как бы=“задавливает≤=поруK=При этом проJ исходит уплотнение материала образцаK= Таким образомI= под дейJ ствием диффузионного течения кристаллI= имеющий внутри свободJ ные полостиI=может необратимо изменить свой объемK= OK=ДалееI=пусть под действием внешнего давления пора раствоJ ряетсяK= Тогда в кристалле относительное пересыщение вакансий= dC / C M также растетK=Когда его величина становится равной= P * dC p~ R = + I= CM kq R уменьшение размера поры прекращается=
( dR / dt = M ) K =В
этих=
условиях пора будет находиться в квазистационарном равновесииK= При этом под действием постоянного давления в кристалле возникаJ ет пересыщение вакансийK= PK= Пусть теперь в кристалле имеется большое число порI= распределенных в среднем однородно по образцуK= Рассмотрим= модельную ситуациюI= когда все поры имеют одинаковый радиусK= Можно показатьI= что такая система неустойчиваK= ДействительноI= исходя из полученных выше соотношенийI= можно ввести= критический радиус поры=okW=
VS= =
R
*
Rk
º
dC CM
-
p~
P
kq
,=====или=====Rk º R
*
é dC /ê ë CM
-
pa
P
kq
ù = ú. û ==EOKSRF
ОтметимI= что критический радиус= ok определяется пересыщением= dC / C I=температурой=q и давлением=pK= Тогда=================== * Nö dR R æ N = CM a ç - ÷ K=======================EOKSSF====== dt R è Rk R ø Анализ полученного для скорости роста поры выражения поJ казываетI=что большие поры=Eo=[=okF==растутI==“поглощения≤=ваканJ сийI= а поры маленьких радиусов= Eo= Y= okFI= наоборотI= уменьшаютсяI= “испаряя≤=дефекты со своей поверхности=EрисKOKNQFK= При наличии в кристалле пор разных размеров возникает их= активное диффузионное взаимодействиеK= Поры получают возможJ ность влиять друг на друга опосредованноI=через среднее пересыщеJ ние вакансийK= В этих процессах происходит рост больших пор за= счет растворения маленьких= Eявление коалесценцииFK= При росте= каждая пора выбирает себе область влиянияK= =
= РисK=OKNQK=Качественная картина распределения пор по размерам=
VT= =
Для того чтобы уменьшить критический радиус=ok==необходиJ мо увеличить пересыщение вакансийK= Этого можно добитьсяI= напримерI=дополнительно облучив образецK=Изменение==критическоJ го радиуса происходит и при изменении температурыI= например за= счет изменения равновесной концентрации вакансийK= При медленном радиационном облучении в кристалле= возникает решетка порI= обратная к решетке кристаллаI= что= обусловлено длительной коалесценцией пор и другими процессамиK= =
O.1M. Неустойчивость однородного распределения точечных дефектов x4] Найдем поле напряженийI= создаваемое в растворе точечных= дефектовK= Сначала запишем дилатациюI= которую дает отдельный= дефектW= W d×x (N) e ll = PM I================================EOKSTF= R h N N+ s где= x = I=o=–=характерный размер в задаче=Eлибо размер обJ Pp N - s разцаI=либо среднее расстояние между дефектамиFK= Предположим теперьI=что в образце с характерным размером=o= растворены дефекты с плотностью ρdK Пусть=
e ll =–=дилатацияI=обуJ
словленная всеми дефектамиK=ТогдаW= (N)
ell = k d ell =
QpR
P
(N)
rd ell = WMrd px
Qd
I=====EOKS8F= Ph P здесь=kd=–=полное количество дефектов в образцеK= Из выражения= EOKS8FI= видноI= что при= W M > M получается всеJ стороннее растяжение образцаI=а при= W M < M =–=всестороннее сжатиеK= Далее для тока дефектов имеемW==
V8= =
r War W ar jd = - ad Ñrd + M d d Ñ s kk ( r ) = - adÑrd + M d d Ph Ñ e kk ( r ) = Pkq Pkq æ QpWMO ö dxrd ÷ Ñrd . = - ad ç N Pkq è ø
=
EOKSVF Критической величиной для развития неустойчивости является= концентрация==
rd G =
Pkq K =============================EOKTMF========== Q pW MOdx
Если концентрация дефектов в какой-либо области кристалла= становится равной величине= rd I= то поток дефектов в этой области= меняет свой знакK= Поскольку величина= = потока пропорциональна= концентрации дефектов и ее градиентуI= то с увеличением конценJ трации ρd поток дефектов также увеличиваетсяK= Таким образомI= в= рассматриваемой области кристалла начинается интенсивный рост= числа дефектов за счет притока из других областейK= Однородное распределение является неустойчивымI= энергетиJ чески более выгодно неоднородное распределение дилатационных= дефектовK= = *
= РисK= OKNR= Качественный вид изменение во времени конценJ траций дефектов для двух случаевW =меньше и больше критической= концентрации=
VV= =
Поскольку процессы восходящей диффузии могут приводить к= лавинообразному росту концентрации дефектов в отдельных облаJ стях твердого телаI=то возникающие в этих локальных точках искаJ жения кристаллической структуры могут достигать величин сравниJ мых с межатомными расстояниямиI=и тогда используемая нами теоJ рия упругости становится неприменимойK=В этом случае для детальJ ного исследования процессов в реальных кристаллах необходимо= привлекать методыI= учитывающие дискретную структуру твердых= телI=напримерI=метод молекулярной динамикиK= Тем не менееI= воспользуемся формулой= EOKTOFI= остающейся= *
верной лишь в рамках теории упругостиI= и оценим величину= rd K= Возьмем= s = N / P I= тогда для коэффициента κ получим= x = O / Pp K= Для объема дефекта имеем==
(
WM » M.NwM = M.N R × NM
)
-8 P
= N.OR × NM
-OP
=см 3 K=
ДалееI=положив температуру=qZTTКI=и= d = NMNN дин получимW== см
rd
*
P × N.P8 × NM
=
-NS
× TT
-QS
NN
*
*
»
POM × NM
2
-NS
-PR
» 8 × NM
OM
Q.O × NM 8 / P × N.RS × NM × NM В итоге для относительной концентрации имеемW== OM
=см-3 K==
-OO
= M.N K= С d = r d wM = 8 × NM × N.OR × NM Такие концентрации дефектов в кристалле могут быть получены в= процессах радиационного поврежденияK= Более точный расчетI =проведенный с помощью метода молеJ кулярной динамики для междоузельных атомовI=которые находятся в= анизотропной структуре графитаI= позволяет дать нижнюю оценку= величине критической концентрации= С d min * » M .MR K=НапомнимI=что в= графите слияние дефектов происходит под действием дальнодейJ ствующих сил притяженияI= которые возникают между междоузлияJ миI=находящимися между одними и теми же базовыми плоскостями= графитаK= Отталкивание дефектов в разных плоскостях препятствует= росту больших междоузельных кластеровI= способных к формироваJ нию новых упорядоченных графитовых плоскостейK= В результате= взаимодействия сил притяжения и отталкивания в соседних межJ
NMM= =
плоскостных полостях кристалла возникает чередование в располоJ жении скоплений дефектовK= Молекулярно динамические расчеты= предсказываютI= что в графитеI= находящемся под облучениемI= межJ доузельные атомы собираются в относительно небольшие скопления= (кластерыFK= В этом случае кластеры в кристалле располагаются в= шахматном порядкеK= ИтакI=если отойти от предположения об идеальности раствора= дефектовI=т.еK=учестьI=что дефекты находятся в матрице и могут поJ средством нее взаимодействоватьI= то можно увидетьI= что даже при= отсутствии внешних напряжений однородное распределение центров= дилатации является неустойчивымK== =
O.11. Дислокации Теория упругости позволяет описывать достаточно широкий= класс дефектов в твердом телеK= От точечных дефектов перейдем теJ перь к рассмотрению более сложных линейных дефектовK= Наиболее= известная их форма=–=дислокацииK= Определение: Дислокацией называется особая линия в криJ сталлеI= обладающая следующими свойствамиW=при обходе по любоJ му замкнутому контуруI= охватывающему линиюI= вектор упругого= r r смещения= r получает определенное конечное приращение= b K= Определение: СмещениеI= возникающее при обходе по контуJ r ру вокруг оси дислокацииI=называется вектором= b БюргерсаK= r r ¶r r d l = -b K ========================================EOKTNF= Ñò ¶l Сама линия дислокации является при этом линией особых тоJ чек поля деформаций и напряженийK=Все эти определения работают= для непрерывной средыK= Связь с атомарной структурой можно поJ нять из==рисK=OKNSK= r Определение: ДислокацияI= ось= t которой перпендикулярна= r вектору Бюргерса= b I=называется краевойK= Определение: Если вектор Бюргерса совпадает с одним из баJ зовых векторов кристаллаI=то такая дислокация называется полнойK= Частичная дислокация возникает в сложных==многоэлементных= соединенияхK=Добавляемая часть не кратна параметру решеткиI=это и=
NMN= =
есть частичная дислокацияK=В упорядоченных соединениях это приJ водит к наличию плоскостей дефектов замещения=EрисKOKNTFK=
= РисK= OKNSK= Правовинтовые контуры Бюргерса в идеальном= кристалле= EаF= и в кристалле= EбFI= содержащем дислокациюK= Вектор= r линии дислокации= t направлен за плоскость рисунка= =
= РисK= OKNTK= Качественная картина для частичной дислокации= для плоской решетки упорядоченного сплава АВ=
NMO= =
Решение уравнений теории упругости для краевой=дислокации= имеет видW= s rr = s qq = -
e zz =
(
N b
(s
zz
bd
(
Op N - s
)
sin q r
I===================================EOKTOF=
- s ( srr + s qq ) ) = M = Eиз
)
s zz = s s rr + s qq = -
sbd
(
p N- s
)
sin q r
симметрии задачиFI= т.еK=
I============ srz = sqz = M K=
Здесь= l = h - O / P × d I=h=–=модуль объемного сжатияI=d=–=моJ дуль сдвигаI==s=–=коэффициент ПуассонаK== Качественное изображение поля напряжений вокруг краевой= дислокации в декартовых координатах показано на рисKOKN8I= а на= рисK=OKNV=представлены контуры изонапряженийK= == = = = = = = = =
РисKOKN8K=Схематическое изображение поля напряжений== вокруг краевой дислокации=
NMP= =
= РисKOKNVK= Графическое изображение контуров постоянных= напряжений вокруг краевой дислокацииW=а=–=σxy=X=б=–=σxx=X=в=–=σyy= = Как и в случае точечных дефектов можно показатьI=что в рамJ ках изотропного бесконечного твердого тела любой объем вне дисJ локации испытывает только сдвиговое напряжениеK= Если только он= не охватывает саму дислокациюK= ОтметимI= что в реальном кристалле встречаются дислокации= разного знакаI= таким образомI= они создают случайное поле смещеJ ний со средним значениемI= равным нулюK= Возможен процесс анниJ гиляции краевых дислокаций разного знака=EрисKOKOMFK=
= = РисK=OKOMK=Аннигиляция краевых дислокацийW= а=–=две дислокации противоположных знаковX= б=–=восстановление атомной плоскости после слияния дислоJ каций=
NMQ= =
Рассчитаем энергию упругого поля вокруг краевой= дислокацииI=приходящейся на единицу длины вдоль оси=zW=
b= =b
N O
ò
e ik sik dxdy =
d
O
Qp
O
R
dr
N O
ò (e
Op
sin (N - s ) ò r ò rc
O
rr srr
)
+ e qqs jj + Oe rqsr q rdrdq =
qdq =
M
db
O
Q p(N - s )
ln
R rc
I=======EOKTPF=
где=o=–=либо имеет порядок размера кристаллаI=либо равно среднему= расстоянию между дислокациямиI= rÅ равен величине вектора БюрJ r герса= b и составляет величину порядка межатомного расстояния=~K= Для грубых оценок энергииI=запасенной в упругих деформацияхI=поJ рожденных дислокациейI=можно считать= b » dbO K= Кроме упругой энергии с дислокацией также связана энергияI= обусловленная разрывом межатомных связей по линии дислокацииK= Эта энергия сосредоточена на ядре=Eна осиF=дислокацииK= r Определение: ДислокацияI=ось= t которой параллельна вектоJ r ру Бюргерса= b I=называется винтовойK= Решение уравнений теории упругости для винтовой дислокаJ ции=EрисKOKONF=имеет видW= s zj( jz ) db b s zj = s jz = I========= e zj = e jz = I=====EOKTQF= = Opr Qpr Od остальные компоненты тензоров равны нулюK= Энергия упругих напряжений на единицу длины винтовой= дислокации равнаW= b=
N
ò O
eik s ik dxdy =
N
R
Ob Cb
ò O Q pr Opr rc
Oprdr =
db
O
Qp
ln
R
K======EOKTRF=
rc
ОтметимI= что в реальном случае линии дислокации предJ ставляют собой трубкиI=внутри которых практически нет кристаллиJ ческой структурыK= Радиус такой трубки=rÅ= ~=b=»=NMJT= смK=Величина=o= лежит в диапазоне=NMS¸NMObK= = =
NMR= =
= = = = = = = РисKOKONK=Схема и изображение винтоJ вой дислокации в кристалле= = = = = O
(
)
Таким образомI=энергия= b = db ln NM O ¸ NMS вновь может быть= Qp
оценена величиной порядка=dbOK= Заметим такжеI= что теория упругости хорошо= “работает≤= вне= ядра дислокацииK=Для описания кристалла внутри ядра дефекта нужJ но привлекать более сложные=…атомные»=моделиK== Трубки дислокаций могут выступать в качестве каналовI= по= которым внутрь кристалла могут активно проникать примесиK= Оценим величину энергииI=запасаемой в кристалле с дефектаJ ми по сравнению с идеальной структуройK== Необходимо отметитьI= что дислокации внутри кристалла не= обрываютсяW= они либо выходят на поверхностьI= либо образуют= …заJ мкнутое»= состояние= –= петлю вакансионного или междоузельного= типаK= Пусть=m=–=число выходов дислокацийI=приходящихся на квадJ ратный сантиметр поверхности кристаллаK= Обычно значение= m леJ жит в пределах= = = NMS= ¸= NMNO вых/смOK= Для= …реального»= кристалла= m= составляет величину порядка=====NM8 вых/смOK== Сначала вычислим энергию дислокацииI= которая приходится= на длинуI=равную величине вектора БюргерсаW==
NMS= =
P
NN
b × b = db = NM
дин см
2
NM
-ON
P см =Z=NM
JNM=
дин·см ≈=SM=эВK=
Рассчитаем суммарную длину дислокацийI= приходящуюся на= кубический сантиметр кристалла= Eв единицах длины вектора БюрJ герсаFW== -O
-N
-P
l b = m × N b = NM см × NM см = NM см K= Таким образомI=величина энергииI=запасаемой в=N=смP кристалJ ла за счет упругих полейI=создаваемых дислокациямиI=равна== 8
T
3
NS
NR
-S
b × b × l b = S × NM =эВ/см = NM =кДж/г K= Как уже было отмечено вышеI=с дислокацией связан еще один= тип неравновесной энергии=–=энергии разорванных межатомных свяJ зейK= Эта энергия сосредоточена на линии дислокацииK= Можно покаJ затьI= что по порядку величины дополнительно запасаемая энергия= совпадает с энергиейI=запасаемой в упругих полях дефектаK= Аналогично можно рассчитать энергиюI= запасаемую в точечJ -Q
ных дефектахW= относительная концентрация= C s £ NM I= следоваJ тельноI= величина энергии составляет= OP -P -Q NV -Q 3 N эВ × NM см = × NM NM эВ = см O × NM = кДж/гK= Для сравнения приведем величину энергииI= выделяемую при= сгорании обычного химического топливаK= Эта величина лежит в= пределах=8=¸=QR=кДж/гK=ОтметимI=что в процессах радиационного поJ вреждения может быть получена концентрация дефектовI= на неJ сколько порядков превышающая термодинамически равновесное= значение=–=вплоть до=Cd= ~=MKOK=В этом случае в дефектах кристаллиJ ческой структуры аккумулируется энергияI=сопоставимая с энергией= химического топливаK= Поле дислокации сказывается на расстоянии нескольких сотен= ангстрем от ее ядраK =В мягких кристаллах на расстоянии= ~NMQ= b от= центра дислокации напряжение соответствует величине предела теJ кучестиK= В мягких кристаллах на расстоянии=~NMQ=b от центра дислокаJ ции напряжение соответствует величине предела текучестиK= В случае краевой дислокации из-за возникающих упругих= напряжений оказываетсяI=что для междоузлий энергетически выгодJ ным является расположение дефектов под дислокациейI=а для ваканJ
NMT= =
сий=–=над нейK= ГоворятI= что вокруг линии дислокации формируется= облако дефектов=–=облако КоттреллаK=Если облако сильно развитоI=то= сдвинуть дислокацию оказывается трудноI= следовательноI= из-за деJ фектов теряется пластичность кристаллаK= Этот процесс называют= старениемK= Рассмотрим кристаллI= в котором имеется краевая дислокацияK= Пусть размер дислокации много больше среднего расстояния между= -
N P
точечными дефектами= rd K=Найдем атмосферу КоттреллаK=Для краеJ вой дислокации имеемW= sin j cos j srr = s jj = -bj X srj = bj X= r r sin j d s zz = s srr + sjj = -Obj s I=где= j º K= r Op N - s
(
)
(
)
Гидростатическое давлениеI=создаваемое дислокациейI=равноW= N O sin j K= pM = - s kk = - N + s bj P P r Тогда равновесная концентрация дефектов будет равна=
( )
C = CM q e
-
WM pM kq
( )
é
= C M q exp ê-
(
)
(
)
O N + s bW M j sin j ù
ë
Pkq
r
K=
ú. û =======EOKTSF
В формуле= r >> b I= WM= –= дилатационный объемI= WM= [= M= для= междоузлий и= WM= Y =M =для вакансийK =В итоге оказываетсяI =что над= плоскостью скольжения наблюдается избыточная концентрация ваJ кансийI=под плоскостью=–=междоузлийK= Оценим вклад в концентрацию дефектов от упругого поля= дислокацииI= для этого вычислим показатель экспоненты для типичJ ных значений константW= s = MKPX b » ~ » R ×NM-8 ; W » N×NM-OO ; j » N×NMNNX =
O ×NKP × R ×NM-8 ×NM-OO ×NMNN sin j sin j R ×NMQ sin j » R ×NM-Q = K -NS MKT × P NKP8 ×NM qr qr q ( r L NM-8 ) K=
NM8= =
é R ×NMO
СледовательноI C = CM (q ) exp ê -
êë
sin j ù
ú K===============EOKTTF=
( r L NM ) úû -S
q
Таким образомI= поле дислокации сказывается на расстоянии= нескольких сотен ангстрем от ее ядраK= =
O.1O. Пластическая деформация кристаллов Определение: Пластичностью кристаллов называют свойство= кристаллических тел необратимо изменять свои размеры и форму= под действием механических нагрузокK= Различают несколько механизмов пластичностиK=
s М
· В А
·
·
С
·
N Р ·
e =
РисK= OKOOK= Качественная диаграмма= = зависимости= ?напряжеJ ние=s=–=деформация=e?= = Точка= А на рисKOKOO= соответствует пределу пропорциональноJ сти материалаI= т.еK= максимальному напряжениюI= при котором ещё= справедлив закон ГукаK=Наибольшее напряжениеI=которое может выJ держать данный материалI=не обнаруживая остаточных деформаций= при нагрузкеI= называется пределом упругости или пределом плаJ
NMV= =
стичностиX= он не совпадает в общем случае с пределом пропорциоJ нальностиK= После точки= А диаграмма становится криволинейнойI= а= на отрезке= ВС она имеет горизонтальную площадкуI= называемую= площадкой текучестиK= Точка= В соответствует пределу текучести= материалаK= На площадке текучести деформация возрастает без увеJ личения напряженияK= Начиная с точки= С, кривая вновь идет вверхK= Если снять нагрузкуI= то диаграмма разгрузки оказывается прямой= МРI= параллельной прямой упругого участкаK= Вторичный вывод маJ териала в пластическую область повышает предел упругостиK== Конкретные соотношения положений характерных точек диаJ граммы для данного материала зависят от температуры образцаK= С учетом влияния температуры на диаграмме можно выделить= три областиI=отличающиеся механизмом деформацииK= NK=Область малых температур и больших напряженийK= Здесь= реализуется дислокационное течение кристаллаK== Поскольку дислокация обладает собственным полем деформаJ цийI= она под действием внешних приложенных к кристаллу напряJ жений испытывает силуI= под действием которой приходит в движеJ ниеI= результатом чего является взаимное проскальзывание атомных= плоскостей=–=дислокационная пластическая деформацияK= При перемещении дислокации в плоскости скольжения в кажJ дый данный момент разрываются и пересоединяются связи не между= всеми атомами на плоскости скольженияI=а только между теми атоJ мамиI= которые находятся у линии дислокации= EрисKOKOPFK= Поэтому= пластическая деформация может происходить при сравнительно маJ лых внешних напряженияхK=Эти напряжения на несколько порядков= нижеI=чем напряжениеI=при котором может пластически деформироJ ваться совершенный кристалл без дислокаций путем разрыва всех= межатомных связей в плоскости скольженияK= В итогеI=при достижении внешним напряжением определенной= величиныI=происходит изменение свойств среды=–= дислокации срыJ ваются со=“стопора≤=и начинают скользитьK= При этомI= двигаясьI= дислокации выходят на поверхностьK= То= естьI= как это уже отмечалось вышеI= при пластическом течении криJ сталлов существует пороговое напряжениеI= с которого начинается=
деформацияK=В этой области скорость течения= e& ~ s I=где= n » O K= = n
NNM= =
РисKOKOPK= Схематическое изображение сдвигаI= происходящего с помощью краевой дислокаJ цииK=Черные атомыI=конечноI=не обозначают те= же самые атомы в каждой из схемK =Они лишь= показывают положение= ?лишней?= атомной= плоскостиK= Когда дислокация движетсяI= ни= один из атомов не смещается со своего исходJ ного положения более чем на долю ангстрема= = Определение: Предел текучести кристалла= –= напряжениеI= сдвигающее дислокациюK= OK= Область относительно больших температур и малых= напряженийK=В этой области вблизи ядер дислокаций возникают поJ токи вакансий и междоузлий и дислокации получают возможность= достраивать илиI= наоборотI= растворять свои плоскостиI= переходя с= одной плоскости скольжения на другую=EрисKOKOQFK=Таким образомI=в= этой области реализуется диффузионное течение кристаллаK= БлагоJ даря диффузии точечных дефектов дислокация получает возможJ ность преодолевать препятствия=EстопорыFI=возникающие на пути ее= движенияI= переходя в другую= EсвободнуюF= плоскость скольжения= (рисKOKORFK== =
= РисKOKOQK=Перемещение краевой дислокации путем удлинения= лишней атомной полуплоскости при конденсации междоузельных= атомов=EМF=или укорочении лишней полуплоскости при конденсации= вакансий=EВF=
NNN= =
РисKOKORK= Преодоление препятствия= EАF= краевой дислокации путем перехода в друJ гую плоскость скольженияW= а=–=дислокация подошла к препятствиюX= б=–=дислокационный сегмент перемещается= в другую плоскость скольженияX= в=–=дислокация проходит над препятствием=
= PK= Область высоких температур и малых напряжений была= рассмотрена ранееK= Здесь наблюдается беспороговое течениеI= т.еK= крип=EползучестьF=кристаллаK= =
O.1P. Одномерная модель дислокации Френкеля – Конторовой = Перейдем к рассмотрению одной очень простой математичеJ ской моделиI=описывающей дислокацию в кристаллеK=Модель позвоJ ляет понять некоторые особенности динамики этого дефектаK= Рассмотрим одномерный кристаллI= находящийся во внешнем= периодическом поле с периодом=~W= t =
где= c ( u + a ) = c ( u ) K=
å c ( u ) I====================================EOKT8F= k
k
Это внешнее поле является аппроксимацией поляI=создаваемоJ го окружением данной цепочкиI=но в отличие от реального кристалла= это поле заморожено= Eокружение неподвижноFK= Теперь предполоJ жимI= что наша цепочка атомов является крайним атомным рядом= (слоемF= одной половины кристалла= E y > M на рисKOKOSFI= смещенной= определенным способом относительно другой половины=E y < M FK=
NNO= =
Тогда энергия кристалла есть сумма энергий упругого смещеJ ния соседних атомов и энергийI=связанных с абсолютными смещениJ ями атомов во внешнем полеK= Для того чтобы исследовать свойства полученной системыI= необходимо решить уравнения движения для одномерного кристалла= с потенциальной энергией= tK= Граничные условия в нашей задаче= сформулируем следующим образомW= на=–∞ произошло смещениеI=u=Z=~I= на=H∞ смещений нетI=u=Z=MK= = = = = = = = = = РисKOKOSK= Краевая дислокация в модели Френкеля– Конторовой= = В этом случае введенная выше энергия= t позволяет качеJ ственно описать воздействие несдвинутой половины кристалла на= расположенные вдоль оси=x атомыK= Поставленная таким образом задача в самом деле может слуJ жить аналогом задачи о скольжении дислокации в двухмерном или= трехмерном кристалле= EрисKOKOTFI= т.еK= о пластической деформации= кристалла при наличии напряжений за счет перемещения дислокаJ цийK=
NNP= =
= = = = = = = РисK=OKOTK=Схема перестройки атомных слоев при скольжении= краевой дислокации= = ОтметимI= что впервые эта задача была рассмотрена и решена= Я.И.Френкелем и Т.АK=КонторовойK=В их решении было принято еще= одно=Eне принципиальноеF=предположение о заданном виде функции= c ( u ) W=
( )
c u =
N
O O
t sin
pu
K==========================EOKTVF= O a При решении задачи ограничимся гармоническим приближеJ нием для взаимодействия между атомами цепочкиW=
(
)
mu&&k = a M uk +N + uk -N - O uk - dc duk K===========EOK8MF=
Переходя к пределу длинных волн= E l >> ~ FI= воспользуемся контиJ нуальным рассмотрением и заменим дискретное уравнение на неJ прерывноеW= O
¶r
где= sMO =
~ Oa M m
O sM
O
¶r
( )
= + f r I===============================EOK8NF= O O ¶t ¶x N dc K= и= f (r ) = m dr
Граничные условия полученного уравнения могут быть запиJ саны следующим образомW=
NNQ= =
( ) = r ( +¥ ) = M. r -¥ = a,
= = = = = РисK=OKO8K=Атомные смещения в окрестности ядра дислокации= = Так как коэффициенты уравнения не зависят от координат и= времениI=то оно имеет решение видаW= r = r ( x - n t ) I==где= n =–=некоторая константаK= Подставляя решение в указанной форме в уравнениеI=получимW=
(s
O M
-n
O
)r ¢¢ + f (r ) = M K=
Теперь проинтегрируем полученное равенствоI=умножив его на= r ¢ W= +¥
ò(
O sM
-n
O
)
+¥
r ¢¢r ¢dx +
x
ò f (r )r ¢dx = M K= x
ИмеемW==
s
O
( ) r¢ O
O
+¥
x
+¥
N m
O
O
ò c ¢ (r )r ¢ ( x ) dx = M K= x
O
Здесь введено обозначение= s º s M - n K= Далее из граничного услоJ вия следуетI=что= r ¢ ( +¥ ) = M K=СледовательноI=получаемW= N O
ms
O
æ dr ö ç ÷ è dx ø
O
Окончательно находим искомое решениеW==
NNR= =
( )
= c r K=
a O
ò
r
dr
( )
c r
O x - xM
=
m
s
I============================EOK8OF=
где=xM=–=константаK= Исследование найденного решения показываетI= что оно приJ водит к непрерывной монотонно убывающей функции= r ( x ) I= удоJ влетворяющей заданным граничным условиямI= если величина= s веJ щественнаK= Это соответствует условиюI= что скорость перемещения= возмущения меньше скорости звука= n < sM K= Если= n > sM I=то решение будет мнимым и можно показатьI=что= будет отвечать колебаниям одномерной цепочкиI=находящейся в доJ полнительном периодическом полеK= Поведение решения в окрестности ядра дислокации=Eточка=xMF= обусловливается точным видом функции= c ( u ) K =Для функцииI =выJ бранной Френкелем и КонторовойI= интегрирование может быть выJ полнено явноW= tg
где= l =
pu Oa
æ
= exp ç -
~s m
pt
x - xM ö
è
=
l
~sM m
pt
÷ I==========================EOK8PF= ø æ v ö K= ç s ÷÷ è Mø
N- ç
Параметр=l определяет ширину дислокации=EрисKOKO8FK=ХаракJ терноI=что с ростом скорости движения дефекта темп спада функции= r ( x ) увеличиваетсяI= и в пределе= n ® sM функция==становится разJ рывнойK= Тут можно увидеть аналогию с релятивистской теорией и= сказатьI= что дислокация испытывает сокращение своего линейного= размера при приближении ее скорости к скорости звука в кристаллеK= Вдали от ядра дислокации кристалл остается в том же физичеJ ском состоянииI= что и в отсутствие дефектаK= Основное изменение= свойств твердого тела при наличии дислокации сосредоточено в обJ ласти ее ядраK= В этом можно убедитьсяI= рассчитав производную= dr dx I=совпадающую с деформацией линейной цепочкиW=
NNS= =
dr dx
=-
a
N
pl
æ x - xM ö Åh ç ÷ è l ø
K=========================EOK8QF=
ВидноI= что вблизи дислокации происходит сжатие цепочкиK= Это приводит к соответствующей модификации плотности массы= вдоль цепочкиK= Относительное изменение плотности равно= dr / rM = -dr / dx I=где= r M = m / a I=m=–=масса одного атомаK=
= РисK=OKOVK==Профиль скорости смещений= = СледовательноI= увеличение плотности материала в ядре дисJ локации естьW= m N dr = K= pl æ x - x M ö Åh ç ÷ è l ø Вернемся теперь к выражению для смещения в нашей системеK=ПолJ ная форма зависимости дается выражениемW=
( )
r x,t =
Oa
é êë
~rÅtg exp -
x - nt ù
K= p l úû Рассчитаем энергию дислокацииK= В длинноволновом приближении= величина энергии может быть рассчитана как= O O +¥ ì üï dx bM ï m éæ ¶r ö æ ¶r ö ù I====EOK8RF= b = ò í êç ÷ + sMO ç ÷ ú + c (r ) ý = O t x a ¶ ¶ O è ø è ø -¥ î ï ëê N - ( n sM ) ûú þï
NNT= =
где= bM =
O
at a M K= Здесь вновь прослеживается аналогия с релятиJ p вистской теориейK=Если скорости малы=E n << sM FI=тоW= * O
b = m sM + где= m* =
bM O sM
=
Om × t pa a M
N O
* O
m n I======================EOK8SF=
I= mG= – =эффективная масса дислокацииK =ОтноJ
шение эффективной массы к массе отдельного атома=m определяется= отношением периода решетки к ширине покоящейся дислокации=lMW= Oa * m =m << m K= lM Найдем условия применимости полученных выраженийK= Из= вышесказанного следуетI=что скорость дислокации лежит в пределах= M < n < sM K= Величина скорости однозначно определяется величиной= полной энергии дислокацииK=Тем не менееI=вспомнимI=что нами было= использовано длинноволновое приближениеK= = СледовательноI= доJ полнительное ограничение возникает из-за тогоI= что ядро дислокаJ ции должно иметь макроскопическую ширинуW= l >> ~ I=т.еK=имеем= O O
sM - n >>
p t
K= msM ИтакI=модель Френкеля–Конторовой описывает возникновение= механического движения дислокации в кристаллеK=Таким образомI=в= континуальном пределе дислокация проявляет себя как подвижный= дефект кристаллической решеткиK= При этом оказываетсяI= что переJ мещение дислокации не связано с сопротивлением средыK= В самом= делеI=ее энергия не зависит от положения центра дислокацииI=следоJ вательноI= скорость= vM остается неизменной во время ее движенияK= Наблюдаемое экспериментально сопротивление движению дислокаJ ции появитсяI=если учесть дискретность кристаллической структуры= и отказаться от предположения о фиксированном периодическом= потенциалеK== =
NN8= =
O.14. Вопросы для самопроверки к разделу O NK Назовите основные предположенияI= сделанные при выводе= обобщенной формы закона ГукаK= OK Что считается дефектом в рамках теории упругости?= PK Напишите уравнение равновесия для сплошной средыK=Дайте= пояснение его составляющимK= QK Что означает= pp= тензора относительных деформаций для= сплошной среды?= RK Что означает девиаторная часть тензора относительных деJ формаций для сплошной среды?= SK Как связаны абсолютные деформации и тензор относительJ ных деформаций для сплошной среды?= TK Запишите общее уравнение для описания динамики сплошJ ной среды= 8K Что называют мощностью дилатационного дефекта в сплошJ ной среде?= VK Напишите выражение для энергии дефекта во внешнем упруJ гом полеK=Поясните смысл составляющих этого выраженияK= NMK Что называют размерным эффектом и что=–=модульным?= NNK Дайте качественное объяснение механизму взаимодействия= между дефектами в рамках теории упругостиK= NOK Почему для изотропной среды взаимодействие дефектов отJ сутствует?= NPK В чем состоит явление течения кристалла?= NQK Нарисуйте качественную зависимость скорости относительJ ной деформации при течении кристаллаK= Основные зависимости= (размер кристаллитаI= температурная зависимостьI= зависимость от= напряженийF?= NRK При каких давлениях рост пор прекращается?= NSK Что является критическим размером пор?= NTK Напишите зависимость абсолютных смещений вокруг дилаJ тационного дефекта для сплошной изотропной средыI= То же= –= для= конечного образца радиуса=oK= N8K Приведите выражение для силыI= с которой упруго деформиJ рованный кристалл действует на дефектK=
NNV= =
NVK Какие параметры определяют направление силыI= с которой= упруго деформированный кристалл действует на дефект?= OMK Чему равна работа внешних сил при выходе одной вакансии= на поверхность?= ONK Изменение каких параметров приводит к уменьшению= = криJ тического размера порK= OOK Какие предположения имеют место при рассмотрении непреJ рывного распределения дефектов в упругой среде?= OPK Какие параметры определяют коэффициент диффузии точечJ ных дефекто?= OQK Чем обусловлены напряжения вблизи пустой поры?= ORK Назовите условие равновесия для системы точечных дефекJ тов в напряженном кристалле в приближении непрерывного распреJ деления дефектовK= OSK Напишите выражение для потока дефектов в неоднородно= напряженном==кристаллеK= OTK Напишите выражение для граничных условий для измениях= химического потенциала вакансий на нагруженной поверхности= O8K Нарисуйте потоки вакансий в неоднородно нагруженном= стержнеK= OVK Нарисуйте потоки междоузельных атомов в неоднородно= нагруженном стержнеK= PMK Дайте определение краевой дислокацииK= PNK Дайте определение вектора БюргерсаK= POK Какая дислокация называется полной?= PPK Какая дислокация называется частичной?= PQK Дайте описание дислокационной петлиK= К какому виду дисJ локаций её необходимо отнести?= PRK Укажите направление скольжения дислокацийK== PSK В каком случае возможен процесс аннигиляции дислокаций?= PTK Что называется винтовой дислокацией?= P8K Дайте оценку энергииI= запасаемой в упругих деформацияхI= порождаемых дислокациейK= PVK Что представляет собой ядро дислокации?= QMK Дайте оценку длины дислокаций в= N= смP и энергииI= запасаеJ мой имиK= QNK Что представляет собой атмосфера Контрелла вокруг дислоJ кации?=
NOM= =
QOK Где выгоднее располагаться вакансиям в упругом поле дисJ локации?= QPK На каком расстоянии сказывается упругое поле дислокаций?= QQK Нарисуйте качественно зависимость= sEeF для реального тверJ дого телаK=Дайте пояснения различным участкам этой зависимостиK== QRK Опишите качественно дислокационные механизмы течения= кристаллаK= QSK Опишите качественно диффузионно-дислокационные мехаJ низм течения кристаллаK= QTK Опишите постановку задачи в модели Френкеля–КонторовойK= Q8K В каких приближениях решается модель Френкеля– Конторовой?= QVK Для реализации движения солитона в модели Френкеля– Конторовой скорость возбуждения должна быть больше= EменьшеF= скорости звука?= RMK Какой режим возбуждения реализуется при скорости возбужJ дения больше скорости звука?= RNK Как меняется ширина фронта возбуждения при изменении= скорости возбуждения?= ROK Напишите выражение для энергии дислокации в модели Ф-КK= = =
РАЗДЕЛ P РАДИАЦИОННЫЕ ДЕФЕКТЫ Радиационную стойкость материалов и закономерности развиJ тия радиационной дефектности в них изучаютI= проводя исследоваJ ния на опытных образцахI=облученных в тепловых и быстрых реакJ торах и на нейтронных генераторахX=образцахI= облученных на ускоJ рителях заряженных частицK== Такие исследования в области радиационного материаловедеJ ния чрезвычайно важны для создания и прогнозирования работы реJ акторов деления нового поколенияI= для решения проблем создания= термоядерного реактора=EТЯРF= иI= в частностиI= его сверхпроводящей= магнитной системы= EСМСFK= ЕстественноI= наиболее представительJ ные результаты изменения сверхпроводящих материалов и изделий= из них можно получить при испытании их в реальных условиях ТЯРK=
NON= =
На данный момент не существует достаточно интенсивного= источника нейтронов со спектромI= подобным ТЯР или в области= расположения= CjC= ТЯРK= Низкоэнергетическая часть спектра= нейтронов в области= CjC =может быть грубо смоделирована спекJ тром нейтронов реакторов деленияK= Однако различавшиеся по приJ роде и энергетическому спектру потоки излучений в различных реJ акторах деленияI= сложные условия метрологии облученияI= нестациJ онарность по тепловым и механическим нагрузкамI=другие специфиJ ческие обстоятельства даже в однотипных реакторах затрудняют поJ лучение однозначных результатов исследований радиационного возJ действияK =Кроме тогоI =если для реакторов деления режимы работы= материалов известныI= то для термоядерных реакторов они могут= быть указаны лишь приблизительноI=так как оптимальная конструкJ ция таких реакторов еще только разрабатываетсяK= =
P.1. Методы создания радиационных дефектов В таблK= PKN= приведены характеристики некоторых источников= излученийI=используемых для создания радиационных повреждений= в материалахK= Основным и общим методом исследования структурных измеJ ненийI=вызванных облучениемI=является рентгеновская дифракция и= электронная микроскопияK= Этими методами можно устанавливать= структурно-фазовые изменения в облучаемом материалеI=определять= изменение параметров решеткиI=связанное с развитием дефектности= материалаI=определять распределение элементарных дефектов струкJ турыI= а также дислокационных петельI= выделений и других образоJ ваний в пространстве и по размерамK=Наряду с этими методами для= исследований радиационно-индуцированных дефектов структуры= сверхпроводящих материалов используются автоионная микроскоJ пия и ядерно-физические методыW=аннигиляция позитроновI=малоугJ ловое рассеяние нейтронов и рентгеновских лучейK= = = =
NOO= =
Таблица=PKN== Некоторые характеристики источников излученийI= используемых= для создания радиационных повреждений в материалах= = = = = = Тип частиц= Тип источника= Энергия= ИнтенсивJ ||с.н.аK||||= = частиц/смO= МэВ= ность= O *=J=реактор= **=Jспектр= NLсм с= НейтроJ БОРJSM===G= GG= NKT=NMNR= RK8=NMJOO= ны= БРJNM======G= GG= RKM=NMNQ= NKO=NMJOO= NR bBo=f======G= GG= PKM=NM = RK8=NMJOO= NR ecfo=======G= GG= PKM=NM = NQK=NMJOO= NO Нейтронный= NQKR= OKM=NM = OTK=NMJOO= = генератор= NKM=NMNP= NMMK=NMJOO= a-частицы= ускоритель= ==QM= Протоны== ускоритель= Ионы=ki= ускоритель= Электроны= ускоритель= g-кванты=
=
PKM=NMNP= NKM=NMNQ= NKR=NMNR= SK=NMNP= NK=NMOM= PK=NMNR= NKM=NMNR=
NM= PM= SMM= N=÷=SM= N= QM=÷=PMM= PMM=
OMMK=NMJOO= RMK=NMJOO= PRK=NMJOO= NMTK=NMJOO= MKN=NMJOO= NKO=NMJOO= MK8=NMJOO=
P.1.1. Облучение в реакторе = Реакторные эксперименты по программе исследований радиаJ ционной стойкости конструкционныхI= в частностиI= сверхпроводяJ щих материалов проводятсяI= в основномI= с облучением в быстрых= реакторах=EБОРJSMI=БРJNMI=БНJPRMI=БНJSMM=и дрKFK=ЧастичноI=эта проJ грамма выполняется на реакторах с тепловым и смешанным спекJ тром нейтронов= EИТР и дрKF= и с облучением на нейтронных генеJ раторахK= В таблK= PKN= представлены некоторые характеристики услоJ вий облучения в исследовательских каналах реакторовK= Лишь немногие из перечисленных реакторов оборудованы сиJ стемой охлаждения облучаемых образцов= – гелиевой или азотной= петлейI= что позволяет проводить облучение не только при соответJ
NOP= =
ствующей температуреI=но и определять ряд характеристик исследуJ емых образцов во время экспериментаK= С точки зрения экспериментального исследования физических= основ процесса образованияI= развития и кинетики радиационных= дефектов реакторные условия имеют ряд недостатковW= J==малая скорость генерации точечных дефектов=ENMJT÷NMJV=с.н.аKLсFX= J= невозможность дифференциального исследования вклада многоJ численных факторовI=влияющих на развитие дефектностиX= J= сложность проведения облучения в строго контролируемых услоJ вияхX= J=высокая наведенная активность облученных образцовX= J=неоднородность радиационного и теплового полей в активной зоне= реакторовK= На рисKPKNK=приведено распределение температуры и нейтронJ ного потока по высоте активной зоны в реакторе БОРJSMK= Однако результаты реакторных экспериментов являются= наиболее представительными для инженерных разработок активной= зоны ядерных реакторов и оптимизации условий их работыK= =
=
РисK= PKN. Типичное распределение флюенса= и температуры= для гильзы компенсирующего стержня реактораW= N=– температура внутренней поверхности гильзыX= O=– температура внешней поверхности гильзыX= P=– флюенс нейтронов=Eb[MKN=МэВFX= Q – флюенс нейтронов=EЕ[MF=
NOQ= =
= P.1.O. Облучение на ускорителях тяжелых ионов = В=NVSV=гK=Мазей и Нельсон провели исследование образцов из= стали МPNSI= облученных ионами кислородаI= углерода и железа при= TOMJ8TRКI= и показалиI= что структура ионно-облученных образцов= сходна со структурой образцовI= облученных в реактореK= Этот экспеJ римент положен в основу нового направления радиационного матеJ риаловедения= – имитации реакторного повреждения путем облучеJ ния заряженными частицамиI=имеющими большое сечение столкноJ вения с атомами мишениK= Эксперименты на ускорителях тяжелых заряженных частиц с= целью имитации реакторных повреждений проводятся во многих= научных центрахK= Подобные эксперименты проводятся и на сверхJ проводящих материалахK= Высокие скорости смещения атомов= ENMJQ= ÷= NMJO с.н.аKLсF= при= ионном облучении позволяют набрать большую дозу за относительJ но короткое времяK= Уровень поврежденияI= достигнутый на реакторе= за два годаI=при облучении на ускорителе может быть превзойден за= два часаK= Экспрессный метод радиационного испытания на ускорителях= тяжелых ионов в настоящее время широко используется при исслеJ довании процессов зарождения и кинетики дефектов и предвариJ тельной оценке радиационной стойкости материаловI= для этого= успешно применяются ускорители ионов с энергией= MKN÷NM= МэВ= (типа Ван-де-ГрааффаI= циклотронаFK= К ускорителям такого типа= предъявляются следующие требованияW= N интенсивность пучка ионов должна обеспечить в течение неJ скольких часов облучение материала до дозы=NMOO ион/мOI=что по= уровню повреждений в смещениях на атом эквивалентно облуJ чению нейтронами=NMOT нейтрона/мOX= O ускоритель следует ориентировать на получение пучков ионов= атомовI= составлявших основу изучаемого материалаI= во избежаJ ние нежелательных структурных изменений в облучаемом объJ ектеX= P конструкция ускорителя должна предусматривать возможность= последовательного или одновременного облучения мишеней= ионами газа и металлаX=
NOR= =
Q
энергия ускоренных частиц должна составлять= MKN÷NMМэВI= что= позволяет исключить влияние поверхности и ионного внедрения= при облучении тонких сверхпроводящих пленокX= R лучше использовать ускорители тяжелых ионовI= работающие в= стационарном режимеI=что исключает необходимость учета влиJ яния импульсивности пучков на процесс образования и кинетики= дефектовX= S в ускорителях необходимо создание вакуума= = ~= NMJR= ÷NMJS= = ПаI = причем парциальное давление химически активных газов=EОOI=НOI= С) не должно превышать=NMJ8=÷NMJV ПаI=так как различные физиJ ко-химические процессы= EокислениеI= диффузияFI= протекающие= на поверхности облучаемых образцовI=могут отразиться на качеJ стве получаемой информацииX= T ускорители тяжелых ионов должны быть снабжены рядом спеJ циальных устройств и приспособлений для измерения и конJ троля параметров облученияI= диагностики пучкаI= измерения и= регулировки температуры облучаемых образцов и тK= дK= для соJ блюдения перечисленных условий и возможности облучения выJ соко энергетичными ионамиI= особые требования предъявляются= к мишенному комплексу ускорителейK= ОбразцыI=облученные на ускорителях заряженных частицI=не= обладают наведенной активностьюK= Использование ускорителей заJ ряженных частиц позволяетW= · осуществлять строгий контроль дозыI= температуры и других= параметров облученияX= · проводить эксперименты при циклических и других нестациJ онарных режимах облучения по намеченной программеX= · предварительно= Eимпульсно или непрерывноF=вводить атомы= других элементов в любом соотношении с числом смещенных атоJ мовX= · набирать дозыI= не достигаемые в действующих ядерных= установкахX= · изменять скорость повреждений в широких пределахX= получать обширную информацию о влиянии условий облучения= (массы и энергии бомбардирующих частицI= скорости поврежденияI=== скорости введения примесных атомовI= импульсивности пучкаF= на=
NOS= =
развитие радиационных дефектовI= их кинетикуI= свойства= облучаемого образцаI=его структуру и фазовое состояниеK= Вследствие малого объема поврежденного слоя действенными= методами определения структурного и дефектного состояния ионноJ облученных образцов являются рентгеновская дифракция и= электронная микроскопияK= Эти методы дают достаточно полное= представление о структурно-фазовых изменениях в облучаемом= материалеK= Профили= распределения дефектов в настоящее время измеряJ ются экспериментально с разрешением по глубине в лучших устаJ новках=~NMMǺK=Однако большинство методов позволяют исследовать= только монокристаллыK= Основные методы исследования поверхJ ностных слоевW== NF=метод обратного рассеяния каналированных частицX= OF= метод дифракции медленных электроновI= падающих под= скользящими углами к поверхности кристаллаX== PF=измерение электрических свойств поверхностных слоев поJ лупроводниковых кристалловK= Уровень повреждений сложным образом изменяется вдоль= траектории ионов=EрисKPKOI=PKPF=для экспериментального построения= профиля повреждений используются следующие методыW= · электронно-микроскопическое стерео исследованиеX= · электронно-микроскопическое исследование поперечного сечеJ ния облученных образцовX= · послойное электронно-микроскопическое исследование и исслеJ дование пакетов тонких пленокK= =
NOT= =
=
РисKPKOK=Расчетное число смещений на одну падающую чаJ стицу в=kbPpn=от глубины проникновенияW== N=– ионы=T~HP=EbMZTKRМэВFX=O=– ионы=kiHO=EbMZRKMМэВFX=P=– ионы=CHO= EbMZOMKMМэВFX=Q=– ионы=eHN=EbMZNKPМэВFX== R=– нейтроны=EbMZNQМэВFX=S=– нейтроны=EbMZN=МэВF= =
=
РисKPKPK=Экспериментальные профили повреждений и расJ пределения имплантированных частиц при облучении=kb=мишени= ионами=kb=EbMZPМэВX=jZ=NMON=NLмOF=
NO8= =
= Метод послойного электронно-микроскопического исследоваJ ния заключается в исследовании тонких слоевI= представляющих соJ бой продольные сечения образцов по глубине поврежденного сдояK= Одна из методических задачI =которую следует решитьI – выход в= слой на заданную глубинуK=Для этой цели вначале с облученной поJ верхности удаляют слой заданной толщиныI= а затем утоняют обраJ зец с противоположной поверхности до толщиныI= пригодной для электронно-микроскопических исследованийK= Применение пакетов тонких пленок для исследования распреJ деления радиационных дефектов вдоль пробега частицI= в мишени= имеет ряд преимуществ методического характераK= Во-первыхI= тонJ кие пленки сразу после облучения можно исследовать в электронном= микроскопеI =в то время как во всех предыдущих методах облученJ ные образцы должны проходить через кропотливую стадию пригоJ товления электронно-микроскопических объектовK= Во-вторыхI= поJ скольку толщины пленок известны достаточно точноI= отпадает= необходимость в определении толщин просматриваемых в электронJ ном микроскопе объектовK=Для определения распределения радиациJ онных дефектов по глубине набираетсяI= облучается и исследуется= пакет пленок с общей толщинойI= сравнимой с величиной проективJ ного пробега ионов в материалеK= = P.1.P. Облучение в высоковольтном электронном микроскопе = Электроны с энергией=N÷NM=МэВ вызывают смешение атомов и= создают в металлах дефекты в виде отдельных пар ФренкеляK=В свяJ зи с чем высоковольтный электронный микроскоп=EВВЭМF=с пучкаJ ми электронов энергией= N= МэВ и выше широко используется не= только как высокоразрешающий исследовательский инструментI= но= и как ускоритель электроновK= В современных электронных микроJ скопах плотность электронного потока достигает=OK×NMOQ=NLEмO×сFI=при= этом скорость повреждения в металлах составляет=NMJQ=÷NMJO с.н.аKLсI= что на=PJQ=порядка выше скорости поврежденияI=реализуемой в реакJ торных условияхK= Преимуществом ВВЗМ является возможность обJ лучения относительно толстых=Eдо=P= мкмF=мишеней и исследование= процесса развития радиационно-индуцированных дефектов структуJ
NOV= =
ры в динамикеK=Это имеет особое значение при изучении механизмов= радиационно-индуцированного разупорядочения и фазовых перехоJ дов структурыK= = P.1.4. Основные преимущества и недостатки экспрессивных методов радиационного испытания Основными преимуществами экспериментов с облучением обJ разцов на ускорителях заряженных частиц являютсяW= · увеличение скорости повреждения до= NMJQ÷NMJO с.н.аKLс по= сравнению с=NMJT=÷NMJS с.н.аKLс в условиях реакторного облученияX= · возможность дифференциального исследования многочисJ ленных факторовI==управляющих формированием дефектовX= · возможность избирательного введения примесей в исследуеJ мые объектыX= · возможность непосредственного исследования эволюции деJ фектной структуры при облученииX= · отсутствие наведенной активностиX=относительно низкая стоJ имость экспериментаK= Однако наряду с перечисленными достоинствами в имитациJ онных экспериментах имеются существенные недостатки и сложноJ стиK= Во-первыхI= при облучении материала заряженными частицами= необходимо знать и воспроизводить структуру первичных радиациJ онных поврежденийI= соответствующую имитируемойK= Во-вторыхI= для выполнения условий равенства отношения скорости генерации= точечных дефектов и скорости их преобразования или исчезновения= на стокахI= подобия прохождения сопутствующих диффузионных= процессовK= При больших скоростях генерации точечных дефектов= это требование может приводить к необходимости повышать темпеJ ратуру облучения= Eтемпературный сдвигFI= т.еK= в имитационных эксJ периментах не всегда воспроизводятся характерные для натурного= эксперимента условияK= Кроме тогоI= для ускоренного воспроизводJ ства каждого из диффузионных процессов требуется свой темпераJ турный сдвигI=что дополнительно усложняет установление корреляJ ции развития этих процессовK=Учет данного обстоятельства особенно= важен для сложных сплавовI= в которых указанный температурный= сдвиг может вызвать изменения в структурно-фазовых превращениJ
NPM= =
яхK=Низкие же температуры=Eдаже порядка=8MКF=не являются гарантиJ ей несущественности диффузионно-контролируемых процессовK= ВJ третьихI= уровень повреждения изменятся вдоль траектории ионов в= материале мишениI= а при облучении в ВВЭИ повреждение неодноJ родно по поперечному сечению облучаемого пятна мишениK=В обоих= случаях повреждаемый слой находится под напряжениемI=что вносит= изменения в развитие радиационно-индуцированных дефектов= структурыK= В частностиI= может вызвать изменение диффузионноJ контролируемых процессов при высоком уровне поврежденияK= НаконецI= в имитационных экспериментах не всегда просто= воспроизвести накопление в материале продуктов ядерных реакцииK= Для этого необходимо облучить мишени совмещенными пучками= заряженных частицK= Все это послужило причиной необходимости создания теореJ тических основ имитацииI= разработки условий подобия радиационJ ной повреждаемости твердых тел при облучении различными частиJ цами сверхпроводящих материаловK= =
P.O. Первичные процессы взаимодействия частиц и излучений с твердым телом P.O.1. Общие представления о процессах взаимодействия частиц с твердым телом = Из многочисленных характеристик излученийI= определяющих= эффективность их воздействия на структуру и свойства облучаемого= материалаI=следует выделить массуI=зарядI=энергию=EскоростьF=и проJ странственную плотность частицI=составляющих излучениеK= Поток частицI=проходящих через единицу площади в единицу= времениI=мJO·сJN или смJO·сJNI=при данной пространственной плотности= n движущихся со скоростью=vI=имеет вид= j = n× vK = ===============================EPKNF= Интегральный поток частиц=EфлюенсI=дозаFI=прошедших через= единицу площади за время=tI=мJO или смJOI=при этом составляет= EPKOF= F j = φt K ============================================== Формулы=EPKNF=и=EPKOF=применяются при расчете потока частиц= и интегрального потока моноэнергетического пучка однотипных и=
NPN= =
однородно распределенных в пространстве частицK=В активной зоне= тепловыхI=быстрых и термоядерных реакторов материалы подвержеJ ны облучению разными частицамиI= различающимися как по прироJ деI=так и по спектрам распределения частицI=по скоростям и энергиJ ямK=В этом случае в дополнение к характеристикам излученийI=переJ численным вышеI= следует ввести распределение частиц по скороJ стям или энергиям и спектральную плотность потока частиц типа=jW= dn j dn j n j EvFZ X n j EbFZ X dv db dφ j dφ j = φ j EvFZ X φ j EbFZ dv db и вычислить интегральный поток=Eфлюенс) частиц по формуле= t
¥
M
b% j
Φ j Z ò dt
ò φ j EbFdbI ======================================EPKPF=
где= b% j –=минимальная энергия частиц типа=jK= Попадая в твердое телоI=быстрая частица вовлекается в сложJ ный процесс взаимодействия с электронами и ядрами атомов криJ сталлической решеткиK= По мере проникновения вглубь материала= мишени частицы теряют свою энергию иI=передав ее электронной и= ядерной подсистемамI= останавливаютсяK= Скорость потери энергии= бомбардирующих частиц характеризуется тормозной способностью= вещества= db dx K=РасстояниеI= на которое частица проникает в матеJ риалI= называется глубиной= EдлинойF= пробега частиц= oEbFK Передача= энергии бомбардирующих частиц ядрам мишени и электронам проJ исходит в упругих и неупругих процессах их взаимодействияK= Суммарная кинетическая энергия частиц до и после соудареJ ния при= их упругом взаимодействии остается неизменнойI= энергия= реакции такого взаимодействия равна нулюK=Распределение энергии= между упруго рассеянными частицами определяется соотношением= их масс и углом рассеянияK= Для частиц в нерелятивистской области= скоростей= æΘö qNO ZαNO bN sin O ç ÷ I ======================================EPKQF= èOø =
NPO= =
Qj N j O
I ========================================EPKRF= Ej N Hj O FO где= qNO= –= энергияI= переданная налетающей частицей атому мишени= (энергия первично-выбитого атома=EПВАFFX=МNI=bN=–=массовое число= и энергия налетающей частицыX=jO=–=массовое число атомов мишеJ ниX=Q –=угол рассеянияK= При неупругом взаимодействии часть энергии бомбардируюJ щих частиц расходуется на возбуждениеI= ионизацию атомов мишеJ ниI=орбитальный переход электроновI=ядерные реакцииK=Энергия реJ акции неупругого взаимодействия частиц отлична от нуля= æΘö G qNO ZαNO EbN J gF sin O ç ÷ I ===================================EPKSF= èOø G где= qNO = –= кинетическая энергияI= переданная атому мишени при неJ упругом взаимодействииX= g= –= неупругие потери энергии бомбардиJ рующих частицK= Процесс взаимодействия излучения с веществом связан с= пучком падающих частиц и с большим числом атомов мишениK=ПоJ этому при рассмотрении процессовI= происходящих в облучаемом= материалеI= требуется статистический подходK= В основе такого подJ хода лежит вероятность протекания того или иного процесса взаиJ модействияK= За меру плотности вероятности событий при взаимоJ действии пучка частиц с твердым телом принято сечение= EдиффеJ ренциальноеI=парциальноеI=полноеF=реакции= σZm φI == ==================EPKTF= где= σ –= эффективное сечение взаимодействия= EреакцииFX= m= – =число= актов взаимодействия=EреакцийF=в единицу времениK= По определению эффективное поперечное сечение имеет= размерность площади и обычно выражается в барнахI=N=б=Z=NMJO8 мO= ENMJOQ смOFK= ПроцессыI= происходящие при столкновении налетающих чаJ стиц с атомами мишениI= а следовательноI= и вероятность того или= иного процесса взаимодействия частиц прежде всего определяются= силами их взаимодействияK=Силу взаимодействия обычно выражают= через потенциальную энергию= sErFI= появляющуюся за счет сближеJ ния частиц от бесконечности до расстояния= rK= Расчет потенциала= взаимодействия= sErF представляет собой сложную квантовоJ αNO Z
NPP= =
механическую задачуK= Каждый из описанных в литературе видов= sErF принципиально применим только для определенных частицI= конкретного типа взаимодействия и ограниченного интервала сблиJ жения частицK=На шкале расстояний имеются две характерные точкиW= боровский радиус атома водорода=~M=Z=MKMRP=нм и расстояние между= двумя ближайшими атомами в кристалле=–=dK=При= r>>d электроны= занимают энергетические уровни отдельных атомовX= между этими= атомами нет силы притяженияK= Силы притяжения возникаютI= когда= пара атомов сближается настолькоI= что перекрываются оболочки= валентных электроновK= Энергия взаимодействия атомов при переJ крытии только оболочек валентных электронов не превышает неJ скольких электрон-вольт и ее можно не учитывать при рассмотрении= столкновенийK При= ~M
NPQ= =
В основе большинства явлений радиационной повреждаемости= материалов лежит смещение атомов из узлов кристаллической реJ шетки=EрисK=PKQFK=При столкновении налетающая частицаI=испытывая= упругое или неупругое взаимодействиеI= передает атому мишени= часть энергии=ТNOK=В зависимости от энергииI=переданной атому при= столкновенииI= последний либо только отклоняется от своего первоJ начального равновесного положенияI= либо смещается на большое= расстояниеI=превышающее так называемый радиус спонтанной анниJ гиляцииI= и создает устойчивую пару Френкеля= –= вакансияJ межузельный атомK= Вообще говоряI= эффективность этого процесса= зависит от направления смещения в кристаллеI= но поскольку в= большинстве случаев импульсыI=передаваемые атомам мишениI=расJ пределены хаотически относительно кристаллографических направJ ленийI=то используется энергия смещенияI=усредненная по направлеJ ниямK==
= РисK=PKQK=Схема развития радиационного каскада в кристалле= =
NPR= =
Минимальное значение энергииI= переданной атому мишениI= ТNOI=при которой происходит необратимое смешение атома из первоJ начального положения в кристаллической решеткеI= принято назыJ вать энергией смещения= bdK= Значение этой энергии для различных= металлов и кристаллографических ориентации составляет=NR=–=8R=эВK= Точечные дефектыI=диффундируяI=могут либо рекомбинироватьI=лиJ бо объединиться в вакансионные и междоузельные кластерыK= ПоJ следниеI= разрастаясьI= образуют сложные дефектыW= петли дислокаJ цийI=вакансионные поры или в присутствии газа=–=газовые пузырькиK= С точки зрения создания в материалах радиационных поврежденийI= естественноI= представляют интерес потоки частиц и излученийI= пеJ редающих атомам мишени энергию=ТNOI=равную или превышающую= порог смешения=bdK=Оценка величины энергии= bd @ Qεs =E εs =–=энергия= сублимацииFK= Если первично выбитый атом=EПВАF=способен передавать друJ гому атому решетки энергию= qOP > bd I=то он выбивает второй атомI= который при том же условии смещает третий атом и тK =дK =Другими= словамиI= высокоэнергетичные частицы создают в твердых телах цеJ лые каскады атом-атомных смещений=EрисKPKRI=PKSFK= В таблK=PKO=приведены расчетные значения начальной энергии= ЕN для частиц различного сортаI= необходимой для передачи атомам= мишени энергииI= равной пороговой= Eоколо= PM= эВFI= и значительно= превышающей ее= ERM= кэВFK= В первом случае образуются отдельные= пары ФренкеляI=во втором=–=каскады смещенийK= Движение всех частиц в твердом теле в большинстве обсуждаJ емых процессов рассматривается до тех порI=пока их энергия больше= энергии ЕdI= необходимой для смещения атома из узла кристалличеJ ской решеткиI=которая составляет=NM¸RM=эВK=При энергии частицы=Е= »=Еd считаютI=что она взаимодействует с атомами твердого тела как= со свободными атомами в газеK= Атомные частицы с указанными энергиями имеют длину волJ ны де-Бройля значительно меньшеI=чем размеры их сечения взаимоJ действияI=и потому рассматриваются классическиK== = = = =
NPS= =
Таблица=PKOK== Расчетные значения минимальной энергии частиц ЕNI= при которой= образуются одиночные пары Френкеля=EТNO=Z=PM=эВF=и каскады=EТNO=Z= RM=кэВF= = Тип частиц= ТNOI=эВ= ЕNI=эВ= = PM== SM= Ион никеля= = RMMMM= NMMMMM= PM== ORM== = a-частица= RMMMM= QMMMMM= = PM== 8SM== Нейтрон= = RMMMM= NSMMMMM= = Электрон=
=
PM== RMMMM=
8MMMMM== VNMMMMMM=
=
= РисK=PKRK=Схема модели радиационных поврежденийI=произвоJ димых при соударениях нейтрона с атомами решетки=
NPT= =
= РисK=PKSK=Структура высокоэнергетических ветвей каскада= (энергия ПВА=Т=Z=NMM=КэВF=в железеI=полученная методом динамиJ ческого моделированияK=Цифрами показаны энергии=xэВz=выбитых= атомов= В области энергий атомных частиц=[=NMM=эВ величина сечения= меньшеI=чем квадрат расстояния между атомами в твердом телеI=тK=еK=
σ<
NP8= =
¥
hjZ
ò
bd
¥
dq ×γEqF×
ò
φ j EbF×
dσ j EbIqF
bmin
dq
db I =
EPK8F=
где= gEqF=–= каскадная функцияI= характеризующая среднее число смеJ щенных атомов в каскаде соударенийX= jj(ЕF= –= спектральная плотJ ность потока частицX= éë dσ j EbIqF L dq ùû = –= дифференциальное сечение= образования П_A=с энергией=Т при энергии налетающей частицы=ЕX= Еmin=–=минимальная энергияI=при которой частица способна привести= к смещению атомаK= При рассмотрении процесса образования дефектов в каскаде= можно выделить несколько стадийI=определяемых характерным вреJ менем их протеканияW== N образование ПВА=Et=~=NMJNS сFX== O динамическая стадия развития каскада=Et=~=NMJNP сFX= P стадия релаксации=Et=~=NMJ8=–=NMJT сFK= Предложен ряд моделей для расчета среднего числа смещенJ ных атомов в каскаде соударенийI= отличающихся друг от друга= предполагаемым вкладом различных процессов в создание смещеJ ний и потерями энергии в процессахI=не приводящих к дефектообраJ зованиюK= В качестве международного стандарта для расчета числа= смещений в каскаде принята модель Торренса-Робинсона-Норгетта= (ТРН-стандартFK=В этой модели при расчете пар Френкеля в каскаде= используется уравнение= B ×Eb J gF B × bG νEbF = = I ========================================EPKVF= Obd Obd где= g= – =общие электронные потери в каскадеX =В= –= эффективность= смещений=EВ=Z=MK8=для всех значений энергия ПВАFX=Е=–=энергия перJ вично-выбитого атома=Eпри упругом рассеянии частицFK= ДействительноI=поскольку смещенные атомы образуются в реJ зультате упругих столкновенийI= то число смещенных атомов опреJ деляется только той частью энергии ионаI =которая была передана= при упругих столкновенияхI= но не в результате неупругих потерь= энергии иона и смещенных атомовK= Энергия= ЕGI= затраченная при= упругих столкновенияхI=в зависимости от полной энергии=Е первичJ ной частицыI= которая инициирует каскадI= определяется приближенJ ной формулой=
NPV= =
bGZ b L ENHke gEεFFI ===================================EPKNMF=
где= ke= –= константаI= определяющая электронную тормозную способJ ность= pe Zke ε = Eформула= EPKNMF= применимаI= когда скорости всех= атомных частиц меньше скорости электронов на поверхности ФерJ миFX= gEεF –=универсальная функция безразмерной энергии=eI= которая= определена формулой=
εZb bi I ======== bi Z
ZNZO e O j N Hj O × I === ~ jO
EPKNNF=
gEε) ; εHMKQε P O HPKQε N S K ===========================EPKNOF=
При малых энергиях= Е*≈ ЕI= а по мере увеличения энергии и= доли неупругих потерь энергия=ЕG становится меньшеI=чем=ЕK= Число смещенных атомов= nI= созданных в каскаде при= ЕG»bdI= определяется простой формулой= bG ν= κ I == EPKNPF= bd где= κ =–=константаI=слабо зависящая от потенциала взаимодействия= атомов и равная= κ ≈= NLP= ¸= NLOK =Формула= EPKNPF =показываетI =что на= образование одного смещенного атома в каскаде в среднем идет= энергия=EO=¸=PFТdK= Этот факт достаточно универсален для кинетичеJ ских процессовI=в которых рождение новых частиц имеет пороговый= характерK= НапримерI= в газовом разряде энергияI= затрачиваемая на= образование ионаI=в среднем составляет=O¸P=потенциала ионизацииK= Экспериментальная проверка формулы=EPKNPF=осложняется темI= что измеряемые характеристики зависят от числа дефектовI= оставJ шихся после вторичных процессовI= в которыхI= как говорилосьI= большая часть вакансий и междоузельных атомов рекомбинируетK= Это особенно существенно для каскадовI= созданных тяжелыми чаJ стицамиI= в которых плотность смешенных атомов велика и потому= велика вероятность рекомбинацииK=В то же времяI=легкие ионы=EМN= «= МOF=передают первичным смещенным атомам сравнительно небольJ шую энергию=Е=~=ТdK= В этом случае каскад столкновений не образуетсяI=а создаются= лишь единичные смешенные атомы вдоль трека ионаK= Вероятность= «выживания»=точечных дефектовI= созданных таким образомI= значиJ
NQM= =
тельно большеK= Полное дифференциальное сечение образования= первично-выбитых атомов с энергией= q ( dσ L dq ) равно сумме дифJ ференциальных сечений в упругих и неупругих= ( dσ L dq )n процессах= взаимодействия потока частиц с веществом=
dσ æ dσ ö æ dσ ö = Zç H = dq è dq ÷øe çè dq ÷ø n ===============================EPKNQF Потери энергии и вклад каждого из процессов взаимодействия= потока частиц с веществом в создание смещенных атомов зависят от= энергииI=заряда и массы бомбардирующих частицI=а также от заряда= и массы ядер мишениK=В соответствии с принятой в настоящее время= терминологией бомбардирующие частицы условно делят в зависиJ мости от массы на легкие= МN< =Мp= EМp= – =масса протонаF =и тяжелые= МN> =МpI= от заряда= –= на нейтральные и заряженныеI= от энергии на= медленные= EbNY =l =кэВFI =промежуточные= EN =кэВ= Y =ЕN= Y= NMMкэВF= и= быстрыеX=EЕN= [=NMM=кэВFK=Ядра мишени в зависимости от массы подJ разделяются на легкие=EАO=Y=ORFI=промежуточные=EOR=Y=АO=Y=8MF=и тяJ желые=EАO=[=8MFK= Материалы термоядерных установок подвергаются действию= потока различных частиц и электромагнитных излученийK=ОсновныJ ми из них являются нейтроныI=заряженные частицы и=g-квантыK= = P.O.O. Взаимодействие нейтронов с веществом
= Основной вклад в создание дефектов вносит упругое рассеяние= нейтроновK=Максимальная энергияI=которую способны передать атоJ му нейтроны с энергией=ЕNI имеет вид= QA bN I =======================EPKNRF= qˆNO ZαNO bN Z EAHNFO где= А= Z =МN/МO= –= приблизительно равно массовому числу мишениK= Средняя энергияI= переданная атомам при упругом рассеянии= нейтронов= qˆ α b OA qNO Z NO Z NO N Z bN K ======================EPKNSF= O O EAHNFO
NQN= =
Для большинства атомных ядер в широком интервале энергий= нейтронов=EMIMO=¸=R=МэВF=дифференциальное сечение передачи энерJ гии можно записать такW= const σ d EqIbFZ K =============================EPKNTF= αNO bN С увеличением энергии растет вероятность неупругого рассеяJ ния нейтроновK= При неупругом рассеянии ядром поглощается некоJ торая часть энергии падающего нейтронаI= и ядро переходит в возJ бужденное состояниеK= Возврат возбужденного ядра в равновесное= состояние сопровождается вторичным излучением= Eиспусканием= gJ квантовFK=Средняя энергияI=переданная атомам при неупругом рассеJ янии= OAbN bγ qNO Z J I =======================EPKN8F= EAHN FO AHN где=Еg=–=энергияI=израсходованная на возбуждение ядраI=испускаемая= со вторичным излучениемK= При ядерных реакциях на нейтронах=xEnI=βF;=EnI=aF;=EnI=fF;=EnI= gFz= ядра отдачи иногда получают энергиюI= достаточную для смещения= атомовK= Число смещенийI= вызываемых атомом при испускании= g= J квантаI=определяется из формулы=
N νEqNO FZ Qj O bd
æ qγ çç è c
O
ö ÷÷ I =================== ø
EPKNVF=
где= q γ =–=энергия=g-квантаI= q O Z Oj 2 bотд c O I ===============================================EPKOMF= γ
где Еотд=–=энергия ядра отдачиK=Значения=Еотд и= νEqγ F для некоторых= элементов приведены в таблK=PKPK= Радиационный захват вносит ощутимый вклад в создание= смещений только на медленной составляющей нейтронного потокаK= При плотности потока тепловых нейтронов= jТ и сечении= sТ= реакции=EnI=gF скорость повреждения=
N h γ Zσq φq Qj O bd
æ qγ çç è c
O
ö ÷÷ K ================ ø
NQO= =
EPKONF=
При испускании=β-частиц ядра отдачи также обладают энерJ гиейI=достаточной для смещения атомовK=В этом случае==
N νEqβ FZ Qj O bd
æ bβ çç è c
O
ö ÷÷ I =========================EPKOOF= ø
где= b β –=энергия=β-частицI= h β Z φ × σ nIβ νEq β FK =============================EPKOPF=
= Таблица=PKP= Энергия ядер отдачи при испускании ядрами=g-кванта=EnI=gF=и= среднее число смещений в каскаде для некоторых элементов= Элемент= bотдI=xэВz= n ETg F = bотд÷sTI=xэВ·бz= АN= ce= Со= ki= Си=
TTMK=S= P8VK=O= PMR= RST= P8NK=V=
NS= 8= S= NO= T=
NTT= V8R= ===NNKP÷NMP= OTOO= NQQM=
Zr= Ti= jo= s= _e= jg=
OMN= QOTK=S= NQ8K=R= QPP= N8PNK=O= QNR=
Q= J= J= J= J= J=
PSKO= OQ8M= QMN= OONM= J= OS=
= Ядерные реакцииI= в которых образуются высокоэнергетичные= ионыI= могут рассматриваться как внутренние источники бомбардиJ рующих частицI= и число возникающих при этом смещений рассчиJ тывается по формулам для расчета числа смещенийI= образуемых= иономI=замедляющимся в твердом теле до полной остановкиK= Для определения скорости образования смещений при реакJ торном облучении материалов необходимо знать реальный энергеJ тический спектр нейтроновK= Обычно оценка повреждающей способJ ности реакторного облучения сводится к расчету скорости образоваJ ния смещений для нейтронов средней энергииK= Одно смещение на=
NQP= =
атом достигается в нержавеющих сталяхI=напримерI=при облучении в= реакторе БОРJSM=при флюенсе=NK8∙NMOR н/мOI=в реакторе=b_oJП=–=при= 2∙NMOR н/мOI=в реакторе=ecfo=–=при=T∙NMOQ н/мOK= Если сечения процессов взаимодействия нейтронов реакторноJ го спектра с веществом для материалов известныI=то расчет скорости= образования смещений при нейтронном облучении не вызывает= принципиальных затрудненийK= = P.O.P. Взаимодействие ускоренных ионов с веществом Для описания процесса рассеяния ионов на атомах решетки= обычно пользуются простым кулоновским потенциалом= Eпри= l= …= ~I= где= l =– =расстояние максимального сближения атомовI= а= –= радиус= экранированияFI=экранированным кулоновским потенциалом при=l= »= а и экранированным кулоновским потенциалом с учетом потенциала= Борна-Майера при=а=<=l=<=NMаK= NK=При кулоновском рассеянии ион с энергией=ЕN передает поJ коящемуся атому энергию от=M=до= qˆNO W= Qj N j O qˆNO ZαNO bN Z bNI ==============================EPKOQF= Ej N Hj O FO где=МN и=МO=–=массовые числа взаимодействующих частицK== Средняя энергияI=переданная атомам частицей с энергией=ЕNI= q lnEαNO bN L bd F qNO Z d K ===================== EPKORF= NJ bd L αNO bN Полное сечение образования смещений при кулоновском расJ сеянии частиц вычисляется по формуле=
Qπ~MO j NZNO Z OO boO E NJ bd L αNO bN FI == EPKOSF= j O bNbd где=bo=–=энергия Ридберга=ENPISMR=эВFI=ZNI=ZO=–=атомные номера взаиJ модействующих частицK= Облучение ионами с энергией= ЕN вызывает смещение атомов= со скоростью= σd Z
hZσ d EqNO F× φ=φ×
Oπ~MO j NZNO Z OO boO α b ×ln NO N K ===============EPKOTF= j O bNbd bd
NQQ= =
РезультатыI= приведенные вышеI= применимыI= когда всеми= скользящими столкновениями=El=[=аF=можно пренебречь=Eони не дают= ощутимого вклада в создание смещенийFK=Как предельный критерий= применимости простой кулоновской модели используется условие= ЕN»ЕbI=Еb=–= энергия ионовI= при которой для обычного кулоновского= потенциала=El=Z=аF= e O ~NO b~O I =======================================EPKO8F= Qbd где=Еа=–= энергия ионовI= при которой для экранированного кулоновJ ского потенциала=El=Z=аF= æ j Hj O ö b~ Z Obo EZNZO FT S ç N EPKOVF= ÷K è ej O ø =================== OK=Для ионов с энергией меньше=Еb=EЕ~=<=bN<=bbF наряду с лоJ бовыми столкновениями=El=…=аFI=следует учесть и скользящие столкJ новения для которых=l= »= аK=Наиболее приемлемой для расчета спекJ тров ПВА в этом случае является модель экранированного кулоновJ ского взаимодействия в аппроксимации ЛиндхардаK= На расстояниях между атомами=r ≤=MKTǺ наилучшую точность= дает потенциал Томаса-Ферми-ФирсоваW= bb Z
Z Z eO sErFZ N O χEr L ~FI =========================EPKPMF= r где= ZNI =ZO= –= атомные номера иона и атома мишениI= r= –= расстояние= между ядрами сталкивающихся атомных частицI=
~Z MI88×~M
(
ZN H Z O
)
OP
I = ~M= –= боровский радиусI= c(хF= –= функция=
экранирования Томаса-ФермиI= при= х= … =N = =c ≈= N–NIR8x и потенциал= sErF переходит в кулоновскийK= PK=При=ЕN ≤ Е~ нельзя пренебрегать лобовыми столкновениямиI= но также необходимо учитывать скользящие столкновения с приJ цельным параметром вплоть до= NMаI =тK =еK =при= ЕN ≤ Е~ представляют= интерес столкновенияI=для которых=а=<=l=
NQR= =
(
)
QP
эВK ==================EPKPNF= ~Z8TKT= ZN H Z O Для этого класса столкновений средняя энергияI= переданная= атомамI=и полное сечение рассеяния приближенно имеют вид= qNO Z αNO bN b d I ===================================EPKPOF=
σd Z
nO ~O b~ ~NO
K =========================EPKPPF= Q bN bd ========= Если знаем потенциал взаимодействия атомных частицI= то по= известным формулам классической механики можно найти диффеJ ренциальное сечение рассеяния иона на заданный угол или диффеJ ренциальное сечение передачи энергии=Т неподвижному атомуK== В общем случае интегралыI =входящие в выражения для дифJ ференциальных сечений с потенциалами= EPKPMF=и= EPKPNFI= не выражаJ ются через элементарные функцииK=Поэтому для большинства пракJ тических расчетов используют степенные аппроксимации потенциаJ лов=EPKPMF=и=EPKPNF= sErF~ r JN m I =M=<=m=≤=NI=при этом дифференциальное= сечение передачи энергии=Т хорошо аппроксимируется выражением= =========================EPKPQF= dσ Z C m × b Jm ×q JNJm I ==M=<=Т=<=ТmI======= ====ds=Z=MI========================q=>=qmI========================================== где= qm Z Qj N j O bN = –= максимально возможная передаваемая энерJ Ej N Hj O FO
гияK= Передаваемая энергия= Т= связана с углом рассеяния в системе= центра инерции соотношением= q Zqm sin O ( Θ L O ) K= Константы= Cm= имеют видW== æj ö π Cm Z λm ~ O ç N ÷ O è jO ø
m
æ OZ Z e O ö ç N O ÷ ç ÷ ~ è ø
Om
I ==m>NLQX==========EPKPRF=
m
æj ö π Cm Z λm b O ç N ÷ E OΛFOm I ===m
Потенциал= s : r JN m при= m= <= NLQ= аппроксимирует потенциал= Борна-Майера=EPKPNFI=а при=m=>NLQ=–=потенциал Фирсова=EPKPMFI=приJ
NQS= =
чем при=NM=<=rLа=<=PM==–==m=≈=NLPI=при=N=<=rLа=<=NM=–==m=Z=NLOI=при=MKO= <=rLа=<=O=–=mZ=OLPI=при=rLа=<=MKO==J=m=Z=NK=Константы= lm убывают с= ростом=mI=lM=Z=OQI==lNLP=Z=NIPMVI==lNLO=Z=MKPOTK= Вид потенциала=EPKPMFI=а также аппроксимации=EPKPQF=при=m=>= NLQ=позволяет ввести безразмерную энергию== Z Z e O j N Hj O b ;==bi Z N O K bi ~ jO
= EPKPSF= ====== Множитель= EjN Hj O FL j O в выражении= Еi введен для переJ вода безразмерной энергии в лабораторную системуK= Как можно= увидеть в дальнейшемI=многие важные результаты в теории взаимоJ действия атомных частиц с твердым телом выражаются в виде униJ версальных функций от безразмерной энергииK= Упругие столкновения ионов с атомами мишени приводят= во-первыхI=к рассеиванию ионовI=а во-вторыхI=к потере энергии= εZ
qm
æ db ö ç ÷ Z kpn Z k ò qdσEqFK ===========================EPKPTF= è dx ø n M Величина= pn называется упругой или ядерной тормозной споJ собностью веществаX= pnEeF= –= универсальная функция безразмерной= энергииI=она представлена на рисKPKTK=При степенной аппроксимации= EPKPMF=с=m=Z=NLP= jN pn ZNIPM8π~ZNZ O e O ZconstK = EPKP8F= j N Hj O При=NLQ ≤= e ≤=O=pn действительно слабо зависит от энергииI= и= можно пользоваться выражением=EPKP8FK= Высокоэнергетичные ионы могут проникнуть под облако= атомных электроновI= при этом часть энергии ионов расходуется на= ионизацию и возбуждение электронной подсистемыK= Однако ион= почти не рассеивается на электронах вследствие большой разницы= масс электрона и ионаK=Поэтому можно считатьI=что на ион действуJ ет непрерывная тормозящая силаI=направленная в сторонуI=обратную= скорости ионаK=При скоростях иона меньше скорости= электронов на= поверхности Ферми тормозная способность=EdbLdхFе пропорциональJ на скорости иона=vK=
NQT= =
=
РисK= PKTK= Ядерные и электронные тормозные способности в= безразмерных единицах=e=и=rW== —========–=ядерная тормозная способность= ( ¶ε L ¶ ρ )n X=
J=J=J=======–=в приближении потенциала=s=~=rJOX= J=∙=J=∙=J===–=электронная тормозная способность=EN=–=для протоновI=O=–= для тяжелых ионовF= = Выражение для неупругих потерь энергии тяжелых ионов быJ ло получено Фирсовым на основе представления об обмене электроJ нами летящим ионом и атомом мишениI= в результате которого кажJ дый электрон переносит импульсI=равный=mvI=где=m=–=масса электроJ наI=v=–=относительная скорость иона и атомаK= При этом на ион дейJ ствует сила тренияI= которая для не сильно отличающихся атомных= номеров иона и атома равна= æ db ö JPM EPKPVF= ç ÷ Z kpe ZJMIOPQ×NM EZN HZ O FkvI = è dx øn где=pе=–=электронная тормозная способностьK= Эта формула впоследствии обобщаласьI=во-первыхI=для случая= сильно различающихся атомных номеров иона и атома мишениK=ВоJ вторыхI= на основе распределений электронной плотности в атомахI= полученных из квантовой механикиI= были учтены оболочечные эфJ фекты и получена не монотоннаяI=а осциллирующая зависимость=pе= от= ZN= и= ZOK =Все эти обобщенияI =однакоI =приводят к весьма громоздJ ким формуламI=поэтому мы их не приводимK=Тем болееI=что формула= EPKPVF=отличается от ее обобщений не более чем на фактор=OK=ВыраJ
NQ8= =
жение для=EdbLdxFеI= мало отличающееся от формулы Фирсова=EPKPVFI= было дано также Линдхардом и Шарфом= é æ db ö O OLP OL P PL O ù v Jç ÷ Z8π~Б ξ ê ZNZ O e k L ZN HZ O ú v I = = = = = = = EPKQMF= è dx ø n ë û M где= ~Б и= vM= –= боровский радиус и скорость электрона на боровской= орбитеI=x=Z=N=¸=O=и меняется=~=zNLSK= Для протонаI= движущегося в металле со скоростью= v =< =vc= – фермиевской скорости электроновI= выражение для потери энергии= на возбуждение электронов было получено Трубниковым и ЯвлинJ скимW= æ db ö T N P O æ mэф ö EPK=QNF= Jç ÷ vI == ÷ ZNNIT×NM hne Z O ç è dx ø n è m ø где= ne= – =плотность свободных электроновI =~ =mэф= –= их эффективная= массаK= Эта формула была получена из рассмотрения поляризации= среды движущимся зарядом с помощью формализма диэлектричеJ ской проницаемостиK= Неупругие потери энергии достигают максимума при скорости= иона= ~ vM Z OOL P I=а затем уменьшаются с ростом скорости иона согласJ но формуле Бете-Блоха== O Q æ Om v O ö æ db ö QπZ N e ln Jç Z Z k × EPKQOF= ç e ÷I= O ÷ O ç f ÷ è dx øe mv è ø где= f= –= средний потенциал ионизацииI= который в модели ТомасаJ Ферми равен=NPIR=эВK= На рисK=PKT=приведена для сравнения также неупругая тормозJ ная способность= pе для некоторого ионаK= Безразмерная энергия= eсI= при которой сравниваются упругие и неупругие потери= pnEecF= Z= peEecFI составляет= eс=Z=N=¸=O=для=ZN=>=ZOK=При=ZN=<=ZO== eс=pnK= Полный пробег иона в веществе определяется суммой тормозJ ных способностей=p=Z=pn=H=pe и равен=
(
oZ
N k
M
)
db
ò pn Hpe K =======================================EPKQPF=
b
NQV= =
Однако практически наибольший интерес представляет не= полный пробег ионаI=а расстояние от места начала движения до меJ стеI= где ион останавливаетсяK= НапримерI= важно знать глубинуI= на= которую проникают ионыI= падающие на поверхность мишениI= или= расстояниеI=на которое смещается атомI=выбитый из узла кристаллиJ ческой решеткиK=Расстояние от места начала движения до остановки= в твердом теле всегда меньшеI =чем полный пробегI =поскольку ион= движется по=…ломаной траектории»I=вследствие рассеяния на атомахK= Если начальный импульс иона не ориентирован вдоль плотноJ упакованных атомных рядов в кристаллеI= то эффект каналирования= не существен для движения ионаI= его столкновения с атомами миJ шени не коррелированыK= В этом случае мишень можно считать= аморфнойK= Для большинства процессовI= рассмотренных нижеI= приJ ближение аморфной мишени вполне достаточноK= По мере проникновения вглубь мишени уменьшается энергия= ионовI= изменяются механизм и сечение их взаимодействия с атомаJ ми мишениI=что вызывает изменение скорости повреждения по глуJ бине пробега ионовK= Для расчета профилей повреждения созданы= программы и атласыI= которые следует использовать как стандарты= на расчет уровня повреждений при ионном облученииK= С помощью= этих программ рассчитывается также уровень повреждений при реJ акторном и электронном облученииK= P.O.4. Распределение по глубине проникновения внедренных ионов и дефектов, созданных ионами = Для исследования большинства процессовI=которые проходят в= облученном твердом телеI= важно знать распределение по глубине= проникновения= EилиI= как его называютI= …профиль»F= внедренных= ионовK= Распределение внедренных ионов по глубине проникновения= изучалось многоI= разными методамиI= как экспериментальноI= так и= теоретическиK= Ряд экспериментальных методов определения профиJ ля= основан на анализе поверхности= EнапримерI= методами оже-спекJ= троскопииI= масс-спектрометрииI= рентгеновской спектроскопии и= т.пKFI= которому сопутствует послойное стравливание поверхностных= слоевK= Существуют и неразрушающие методы измерения профиляI=
NRM= =
напримерI=с помощью рассеяния назад быстрых=Eобычно с энергией= ≥ МэВF=ионовK= Теоретически движение ионов в твердом теле описывается= rr r r функцией распределения= cEvIrItIvM IrM F I= зависящей от начальной= r r скорости= vM и начального положения= rM ионаK=Функция распределеJ ния удовлетворяет уравнению= r r ¶c v ¶c ¶c H Hk ò éë cE v FJ cDE vDFùû× r Z kpe ¶t v ¶r ¶b r r =====EPKQQF= æ v×vD b Jq j N Hj O b j NO ö dΩD ×δ çç J J J K ÷ dσEbIqF b Oj N bHq O ÷ø Qπ è v×vD Интеграл столкновений выражает изменение функцииI=распреJ деления иона в результате столкновений с неподвижными атомами= мишениK= Здесь= ds= EbI =ТF= –= дифференциальное сечение передачи= j vO энергии=Т=атому мишени ионом с энергией= bZ N K=ИнтегрироваJ O ние по= dW= D =производится по всем направляющим углам скорости= иона=v’ после столкновенияI=которые допускают законы сохраненияI= описываемые= d-функциейK= Торможение вследствие возбуждения= электронов рассматривается как действие непрерывной силыI=равной= kpе и направленной антипараллельно скорости ионаK= Обычно интеJ ресуются лишь распределением остановившихся ионов и рассматриJ r вают функцию распределения= cEzIbIeF I=не зависящую от времени=t и= от текущей скорости иона= vK =Если при этом граничное условие для= функции= распределения соответствует равномерному потоку ионовI= r падающих на поверхностьI=то функция= распределения= cEzIbIeF завиJ сит лишь от глубины= zI= начальной энергии= Е= и направления влета= r ионов= e K=Однако даже в этом случае решение кинетического уравнеJ ния для функции распределения является сложной задачейK=Обычно= r функцию= cEzIbIeF разлагают по полиномам Лежандра от направляJ r ющих косинусов вектора= e и ищут моменты распределения по глуJ бине=zK= Зная моменты распределенияI=можно определить его основные= характеристикиW= среднюю глубину проникновения= I средний= квадрат глубины проникновения= I который характеризует стеJ
NRN= =
пень= …размытия»= профиляK= Кроме тогоI= можно приближенно найти= функцию= распределения в виде некоторой функцииI= параметры коJ торой определяются через соответствующие моменты распределеJ нияK= Наиболее простым из используемых распределений является= гауссовское= æ ö EzJ z FO ÷ a ç exp ç cEzFZ =EPKQRF= ÷I = ç 2 Δz O ÷ 2π Δz O è ø где= a= –= полная доза облучения на единицу поверхности=
)
(
á Δz O ñ =
( á z O ñ -á zñ O ) K=
Аналитические выражения для моментов= á z ñ и= á z O ñ получены= лишь при=pЕ= Z= M=и для степенного потенциалаI=когда сечение рассеяJ ния описывается формулой=EPKPQFK=В этом случае=
á z ñ= A
b Om b Qm bSm X= á z O ñZB= X= á z P ñ= g= K ================EPKQSF= O O kCm kCm kCm
(
)
(
)
Здесь= АI =ВI =g= – =константыI =зависящие от соотношения массK =Хотя= пренебрежение неупругими потерями энергии= pе оправдано лишь= для достаточно медленных и тяжелых ионовK=Формулы=EPK=QSF=дают= представление об энергетической зависимости характеристик расJ пределенияK= Более точные расчеты моментов распределения с учеJ том неупругих потерь энергии и с потенциалом=EPKPMF=выполняются= методом численного интегрирования уравненийK=В настоящее время= имеются первые моменты распределения внедренных ионовK=В таблK= PKP= для иллюстрации даны значения= á z ñ и= á z O ñ I= рассчитанные для= нескольких комбинаций ион= –= мишень в зависимости от начальной= энергии иона при нормальном падении иона на мишеньK= В случае наклонного падения ионов на мишень средняя глубиJ на проникновения= á z ñ ZopÅosqI=где=q=–=угол паденияI=отсчитываемый= от нормали к поверхностиI= op= –= проектный пробегI= определяемый= как проекция среднего расстоянияI= на которое проникает ионI= на= направление начальной скорости ионаK= Для определения среднего= квадрата глубины проникновения= á z O ñ при наклонном падении=
NRO= =
необходимо знать также второй момент= á y O ñ распределения в= направленииI= перпендикулярном направлению начальной скорости= ионаK= Параметры распределения внедренных ионов зависят от соотJ ношения масс иона и атомов мишени=МOK=ТакI=для легких ионов=jN=«= jOI=которые сильно рассеиваютсяI=ширины распределения= á Δz O ñ и= á yO ñ
больше средней глубины проникновения= á z ñ I= причем=
á Δz O ñ » á y O ñ I в то время как для тяжелых ионов=МN=»=МOI= у которых=
траектория= …менее изломана»I= ширины=
á Δz O ñ и=
á y O ñ меньшеI=
чем= á z ñ и= á Δz O ñ =[= á y O ñ I=т.еK=распределение вытянуто сигарообразно= вдоль первоначального направления движения ионовK= По мере увеличения энергии ионов их профили= становятся все= более асимметричнымиI=при этом убывание функции распределения= от максимума к поверхности более медленноеI=чем убывание в глубь= мишениK= На рисK=PK8=представлены профили=остановившихся протонов в= тяжелой мишени=EМO=»=МNF=для разных значений безразмерной энерJ гии еK=Глубина выражена также в безразмерных единицахW= ρZ zkπ~ O
Qj N j OO
K Ej N Hj O FO = Имеющиеся сейчас методы расчета распределений внедренных= ионов вполне удовлетворительныK= При энергиях ионов больше неJ скольких сотен электрон-вольт расчетные и экспериментально измеJ ренные профили достаточно хорошо совпадаютK= НапримерI= расхожJ дение в значениях проективного пробега=oр между теорией и экспеJ риментом не превышает=NMJOM=BK=При малых энергиях=NMM=эВ теория= «работает»=значительно хужеI= но при этом сама глубина проникноJ вения ионов не превышает нескольких десятков ангстремI=и ошибки= не очень существенны для практикиK =В табK =PKQK =представлены расJ четные данные для параметров распределения внедренных ионов в= различные мишениK= =
NRP= =
=
РисK= PK8K= Профили= распределения остановившихся протонов в= тяжелой мишени для разных значений безразмерной энергииW=J=J=J=J== –= гауссовские распределенияI= использующие два момента= E á zñ и= á z O ñ FX==JJJJJ==–=распределения ЭджевортаI=использующие три момента= = Представляет интерес также пространственное распределение= дефектовI= создаваемых бомбардирующими ионамиI= которое совпаJ дает с распределением энергииI=выделенной при упругих столкновеJ нияхK= Теоретически этот вопрос исследуется с помощью функции= ® ®
распределения= ca æç r I v ö÷ I которая представляет собой плотность= è
ø
энергииI=выделенной при упругих столкновениях в точке=rI=в резульJ тате каскада инициированного частицейI= которая начинает свое= ®
®
движение в точке= r = M со скоростью= v K Если налетающий ион идентичен атомам мишениI=то функция= æ® ®ö распределения= ca ç r I v ÷ удовлетворяет уравнению== è ø r r r r ¶c v ¶ J ca Z kp e a Hk ò dσ éë ca E v FJ ca E vDFJ ca E vDDFùû I ====EPKQTF= v ® ¶b ¶r
NRQ= =
®
®
где= v D I= v DD = – скорости первого и второго= Eвначале неподвижногоF= атомов после столкновения соответственноX= dу содержит помимо= ®
дифференциального сечения также= d-функциюI= связывающую= v I= ®
®
vD I= v DD в соответствии с законами сохраненияK=
Если же ионI=инициирующий каскад отличен от атомов мишеJ æ® ®ö ниI=то приходится вводить две функции= распределенияW= caN ç r I v ÷ == è ø ® ® æ ö для каскадаI= инициированного иономI= и= caO ç r I v ÷ для каскадаI= è ø инициированного атомом мишениK= caO удовлетворяет уравнению= EPKQTFI=а= caN =–= уравнениюI= аналогичному=EPKQTFI= в которомI= однакоI= последний член подынтегрального выражения заменен на= æ ® ®DD ö caO ç r I v ÷ K= В этом случае приходится решать систему из двух= ç ÷ è ø уравненийK=Если же мишень состоит из=k различных видов атомовI=то= приходится вводить=Ek=HNF функцию распределения и решать систеJ му=Ek=HNF уравненийK= Функции=caN и=caO нормированы такI=что= ®
ò d r ( caN H caO )ZqNO K ============= G
EPKQ8F=
æ® ®ö Решение уравнений для функции= распределения= ca ç r I v ÷ = è ø обычно проводится методом моментовI= аналогично томуI= как это= делается для функции распределения остановившихся ионовK= КачеJ ственно распределение дефектов похоже на распределение внедренJ ных ионовK== =
NRR= =
bN,кэВ=
Параметры распределения внедренных ионов=
Таблица=PKQ===
=
NRS=
=
Средняя глубина проникновения ионов= á z ñ оказывается= большеI= чем средняя глубина залегания дефектов= á zñ a I= причем= различие тем существеннееI= чем больше отношение масс= МN/МOK= Это связано с темI=что ион в конце пробегаI=имея еще энергиюI=доJ статочную для движенияI=уже не может создавать дефектыK== Между ширинами распределения дефектов и внедренных= ионов имеются следующие соотношенияI=зависящие от массW= á Δz O ñ a < á Δz O ñ X
á y O ñ a < á y O ñ для легких ионов=EМN=«=МOFX=
á Δz O ñ a » á Δz O ñ X
á y O ñ a » á y O ñ для равных масс=EМN=Z=МOFX=
á Δz O ñ a > á Δz O ñ X á y O ñ a > á y O ñ для тяжелых ионов=EМN»МOFK= Решение уравнений типа=EPKQTF=дает распределение дефектовI= усредненное по многим каскадамK= Размеры каждого единичного= каскада оказываются меньшеI= чем размеры распределенияI= усредJ ненного по многим каскадамK= Если обозначить среднеквадратичJ ные размеры единичного каскада= á Δz O ñ aN и= á y O ñ aN I=то отношения=
á Δz O ñ aN
и= δ y Z
á y O ñ aN
приблизительно равны между собой и= á Δz O ñ a á yO ñ a меняются в зависимости от соотношения масс=МN/МO от=dz=≈=dy ≈=MIV= при=МN/МO=Z=NM=до= dz= ≈= dy ≈=MIOTR= при=МN/МO=Z= MINK= Малые относиJ тельные размеры единичных каскадовI=создаваемых легкими ионаJ миI =обусловлены темI =что длина пробега смещенных ими атомов= значительно меньше длины пробега ионовI=а ионы сильно рассеиJ ваются и повторяемость конфигураций каскадов малаK= ОтметимI= что для легких ионовI= которые создают в основном одиночные деJ фектыI=лучше говорить о размере области дефектовI=а не о размере= каскадаK= В этом случае= dz и= dy характеризуют размер области деJ фектовI=созданной единичным иономK= Имеющиеся теоретические расчеты распределения дефектовI= созданных ионами с энергиями=[N=кэВI= достаточно хорошо соглаJ суются с экспериментамиK= = = δz Z
NRT= =
P.O.R. Взаимодействие электронов с веществом Вследствие малой массы энергия электроновI= способных= привести к структурным нарушениям в металлахI= превышает= MIRМэВK= Для электронов с такой высокой энергией можно пренеJ бречь экранированиемI= обусловленным орбитальными электронаJ миI= и использовать релятивистское описание процесса передачи= энергии электронов ядрам мишениK=При энергии пучка электронов= около=NМэВ=EнапримерI=при облучении в ВВЭМ на=N=–=PМэВF=расJ чет скорости образования смещении наиболее простI= поскольку= основная часть первично выбитых атомов не способна вызывать= повторного смешений и развития каскадов смещенийK= При упругом кулоновском рассеянии электронов средняя= энергияI=переданная атомам электронами с энергией=ЕNI=имеет вид= α b b α b qNO Z NO N d ln NO N I ==================================EPKQVF= (αNO bN J bd F bd qˆ – максимальная энергияI= которую способен передать атому= NO
электрон с энергией=ЕN=I=равна=
OEb HOme cO FbN qˆNO ZαNO bN Z N I == EPKRMF= j Oc O где==mе=–=масса электронаX=с=–=скорость светаK= Дифференциальное сечение передачи энергии атому= N é ì üù 4π~MO ZOO boO N - b O ê pa ïæ q ö O q ïú qµ NO O q ds = × Q × N- b + íç ý × O dq K ÷ ê b mMO c Q qµ NO b ïè qµ NO ø qµ NO ï ú q êë î þ úû
Полное сечение образования смещений можно оценить из следуюJ щего выраженияW=
σd Z
4π~MO Z OO boO N- β O × ´ meO cQ βQ
= ì ˆ é éæ ˆ öNL O ù ˆ ù üï q q ïæ qNO ö O qˆNO NO NO ê ú JN÷ J β ln ´ íç -πα'β × O êç JNú J ln ýI çb ÷ ç b ÷÷ ê ú ê ú b b d d d d ïè ø ø û ë ëè û ïþ î
NR8= =
=EPKRNF=
β=Z=ve=Lс=Eve=–=скорость электронов с энергией=bNFI=a=DZ=ZOLlPTK= Для электронов с энергиейI=не намного превышающей пороJ говую энергию образования смещенийI= иI= следовательноI= с= αNO bN qd незначительно больше единицы=
σd Z
4π~MO Z OO boO NJ β O æ αNO bN ö JN÷ K ç meO cQ β Q è bd ø
EPKROF=
При достаточно высоких энергиях электронов= sd асимптотиJ чески приближается к значению=
σd ®
8π~MO ZOO boO
I===bN >mecO K =
=EPKRPF= bd j O c Уравнение=EPKRPF=обычно используется для оценочных расчеJ тов полного сечения рассеяния электронов на атомах твердого телаK= Скорость поврежденияI= выраженная числом смещений на= атом в единицу времениI= при электронном облучении материалов= имеет вид= h Zσ d éëN+νEqNO Fùû φI ======================================EPK=RQF= O
αNO bN ö 4π~MO Z OO boO æ OHln ç ÷ K =============================EPKRRF= bd ÷ø bd j O cO çè При энергии электронов выше порога ядерных реакций=EЕN= [= NM= МэВF= в дополнение к упругому рассеянию частиц необходимо= учесть нарушения за счет протекания процессов неупругого взаиJ модействия= Eядер отдачиI= нуклоновI= g-квантовFK= Прохождение выJ сокоэнергетичных= Eдесятки= – =сотни МэВF =электронов через вещеJ ство связано с развитием электронно-фотонного ливняK=С увеличеJ нием глубины проникновения электронов в твердое тело возрастает= число лавинных частицI= уменьшается их энергия и увеличивается= количество= g-квантовI= способных внести существенный вклад в= дефектообразованиеK= ПроцессыI= протекающие при облучении маJ териалов быстрыми электронами и= g-квантамиI= схематически приJ ведены на рисKPKVK= = hZφ
NRV= =
РисK=PKVK=Схема процессовI=протекающих в материале при= действии высокоэнергетичных электронов и=g-квантов=
=
= = P.O.6. Взаимодействие g-квантов с веществом Хотя дефектообразующая способность= g-квантов по сравнеJ нию с быстрыми нейтронами малаI=этот вид облучения имеет место= в активной зоне реакторов всех типов и часто используется при= исследованииK= Максимальная энергияI= которую способен передать атомам= = g-квант с энергией=ЕNI=имеет вид= æ j cO qˆNO Z bN ç NH O ç ObN è O При=ЕN=»=МOс эта формула принимает вид= O
JN
ö ÷ K =========================EPKRSF= ÷ ø
j c qˆNO ZbN O K ===========================EPKRTF= O При энергии=ЕN=Z=N=МэВ значение= qˆNO составляет несколько= десятков эВ и непосредственное взаимодействие= g-квантов с атоJ мами не приводит к существенным структурным нарушениямK= Кроме тогоI= сечение прямого взаимодействия= g-квантов указанной= энергии с ядрами очень малоK=В основном смещения атомов решетJ
NSM= =
ки при облучении= g-квантами вызывают непрямые процессы и взаJ имодействия с атомами мишени= EфотоэффектI= эффект КомптонаI= образование электрон-позитронных парFI=в результате которых обJ разуются высокоэнергетичные электроныI= способные привести к= смещению атомовK= При облучении= g-квантами высокой энергии= EЕN= [ =NMМэВF =в= твердых телах идут фотоядерные реакцииK= Энергия отдачиI= переJ данная ядру при поглощении= g-квантаI= достаточно высока для= смещения атомов из первоначальных положений в решетке криJ сталлаK= Высокая эффективность действия облучения= g-квантами с= энергией десятки= –= сотни МэВ на материалы предоставляет возJ можность имитации с их помощью явлений радиационной повреJ ждаемости материалов в ядерных и термоядерных реакторахK=ДейJ ствительноI= сравнение энергетических спектров ПВАI= инициируеJ мых= g-квантами с максимальной энергией до= PMMМэВ и реакторJ ным излучением= Eбыстрые нейтроны и= gJквантыFI= указывает на= удовлетворительное совпадение их как по формеI =так и по абсоJ лютным значениямK= Варьируя степень= …жесткости»= и максимальJ ную энергию= g-квантовI= можно добиться совпадения и по выходу= продуктов ядерных реакций при указанных видах облученияK= =
P.P. Основные условия воспроизводимости явлений реакторного повреждения при облучении на ускорителе Условием подобия воздействия различных видов излучений= на структуру и свойства материалов является близость значений= основных характеристикI=радиационного поврежденияW== скоростей создания радиационных дефектов= ¥
h g Z ò dq×γEqF qd
¥
ò
φg EbF
bmin
dσ g EbIqF db; = dq
функций=распределения дефектов по энергиям ПВА=
NSN= =
EPKR8F=
γEqF mg EqFZ hg
¥
ò
bmin
φg EbF
dσ g EbIqF db X = dq
EPKRVF=
скоростей образования продуктов ядерных реакций= ¥ h mg = ò φg EbFσ mg EbFdbX ===================================EPKSMF= M функций=корреляции координат образования ПВА=
æ N ö¥ ¥ dE r JrDFZç ÷ dq ò dqDνEqFνEqDFpEqIr IqDIrDFJNI EPK=SNF= ç hO ÷ ò è g ø Tg Td где= n EqF=–=каскадная функцияI= jg(ЕF=–=спектральная плотность поJ тока частиц сорта=gI=dsEbIqFLdq=–=дифференциальное сечение обраJ зования ПВА с энергией=Т частиц сорта=g с энергией=ЕI=Еmin=–=миJ нимальная энергия налетающей частицыI= способной создавать= ПВАI=qd=–=энергия порога смещенияI= smg=–=полное сечение образоJ вания частицей=g продукта сорта=РI= pEqIr IqDIrDF –=вероятность обраJ зования=ffВA=с энергией Т в точке r ==и ПВА с энергией ТD=в точке= rD K= ОчевидноI=эти условия подобия эффектов облучения различJ ными частицами не могут быть воспроизведены в полной мере даJ же при использовании однотипных источников излученийK= В реJ альных имитационных экспериментахI= напримерI= при имитации= реакторного облучения на ускорителях тяжелых ионовI= все они в= той или= = иной мере нарушаютсяK= Первое условие противоречит= идее экспрессности имитационных экспериментовK= Нарушение= второго обусловлено спецификой взаимодействия различного рода= частиц с веществомK= Третье существенно усложняет экспериментI= требуя использования многопучковой методики облучения и тK= дK= Поэтому для сравнения результатов облучения используют более= «мягкие»=условия подобияI=справедливость которых подтверждаетJ ся результатами экспериментов с облучением в= реакторах и на= ускорителяхK== К ним относятся условияW= NF= равенство дозы облученияI= выраженной числом смещений на= атом=Eс.н.аKF=
NSO= =
ag Zσd φg t I =
================EPKSOF=
¥
где= φg = ò φg EbFdb – плотность потока частиц сорта= gI= sd= –= полное= M
сечение дефектообразованияX= OF=подобие структуры первичных радиационных повреждений=EZZlX= Z= –= количественный критерийI= характеризующий число дефектовI= образованных одинаковым образомFX= PF= = равенство отношения скорости образования ПЯР= Eпродуктов= ядерных реакцийF=к скорости создания радиационных дефектов= h pn h pi Z I= ========================EPKSPF= hn hi что особенно важно при больших дозах облученияI=для соблюдения= этого условия возникла необходимость расчета и сопоставления наJ копления ПЯР в исследуемых материалах под действием нейтроJ новI=заряженных частиц и=g-квантовX= QF==равенство отношения скорости генерации точечных дефектов к= скорости их исчезновения на стокахI=для вакансий это условие заJ писываетсяI=следующим образомW= hN avN Z I= ====================EPKSQF= h O avO где= КN= и= КO= –= скорости повреждения в сравниваемых эксперименJ тахX=avN и=avO=–=коэффициенты диффузии= вакансий в течение облуJ чения== avENIOF Z aM exp ( Jbmv L kqNIO ) I ==================================EPKSRF= где=Еmv=–=энергия миграции вакансийI=ТNIO=–=температура облучения= в сравниваемых экспериментахX= RF=подобие протекания диффузионных= процессовI= включая диффуJ зию= газовых атомовI= рекристаллизациюI= распад твердого раствора= и растворение выделенийI= перераспределение компонентов сплаJ вовK= Кроме перечисленных условийI= при использовании ускориJ телей заряженных частицI= работающих в импульсном режимеI= необходимо учитывать характер влияния импульсности облучения=
NSP= =
на создание и эволюцию дефектной структуры облучаемого матеJ риалаK=
P.4. Вопросы для самопроверки к разделу P NK Сравните условия облучения и создания радиационных деJ фектов==в==реактореI=ускорителе ионовI=ускорителе электроновK= OK В чем различие первичных и вторичных процессов при выJ бивании атомов из решетки?== PK Какие приближенные представления потенциалов взаимоJ действия частиц с атомами вещества используются для оценок= быстрых заряженных частиц?= QK Сравните спектр энергий выбитых атомов для нейтронов и= протонов с энергией=NМэВK== RK Дайте определение полного и==проективного==пробегаK= SK Какие потери энергии налетающей частицы являются опреJ деляющими для создания дефектов?= TK Дайте определение понятия тормозной==способностиK= 8K Дайте определение понятий=?первично выбитые частицы?=и= "образование дефектов?K= VK Опишите процесс==смещения атомов решетки==под действием= быстрых частицK= NMK Чему равна==пороговая энергия смещения?=
NSQ= =
РАЗДЕЛ 4 ТЕОРЕТИЧЕСКОЕ СРАВНЕНИЕ СТРУКТУРЫ СЛУЧАЙНЫХ ПОЛЕЙ РАДИАЦИОННЫХ ДЕФЕКТОВ, ОБРАЗУЮЩИХСЯ В ПЛЕНОЧНЫХ ОБРАЗЦАХ ПРИ ОБЛУЧЕНИИ БЫСТРЫМИ ЧАСТИЦАМИ 4.1. Каскад атомных столкновений Диссипация энергии частицыI= движущейся в твердом телеI= происходит при взаимодействии ее с электронной подсистемой= (если частица заряженаFI= а также при ее рассеянии на атомах миJ шениK= В последнем случаеI= если энергия= ТI= переданная атому миJ шениI= меньше пороговой= Тa= ~ORэВI= атом совершает затухающие= колебания вблизи его исходного положенияI= а его энергия рассеиJ вается в фононную и электронную подсистемы твердого телаK =В= противном случае этой энергии достаточно для образования пары= ФренкеляW=вакансия=–=междоузельный атомK= При больших значениях= Т первично выбитый атом= EПВАF= может также рассеяться на атомах мишениI= передавая им энергию= больше= ТaI =образуя каскад атомных столкновенийK =В результате в= окрестности выбитого атома образуется зона с высокой концентраJ цией радиационных дефектовI=которую называют каскадной облаJ стьюI=или кратко=–=каскадомK= При больших энергиях ПВА можно рассматривать его с тех= же позицийI= с каких мы рассматривали первоначальную частицуK= ПВА образует вторично выбитые атомы= EВВАFI= которые в свою= очередь образуют каскадыK= Для полного описания движения атоJ мов в каскаде атомных столкновений используется кинетическое= уравнениеK= Решение его является сложной задачей и возможно= только при введении определенных приближенийI=например метоJ дом моментовI= тK= еKI= ограничиваясь средними значениями характеJ ристик каскада= EразмераI =числа образующих пар Френкеля и т.дKFK = Часто для оценки размеров каскадов и выявления характерных= особенностей их структуры используется метод машинного модеJ лированияK= Сложность описания каскада атомных столкновений=
NSR= =
обусловливается большим количеством одновременно движущихся= атомовI=которые взаимодействуют как друг с другомI=так и с непоJ движными атомами мишениI= рекомбинируют с образующимися= при этом вакансиямиI=могут образовывать цепочки атомных соудаJ рений=EкраудионыFK= Характеристики каскада зависят от энергии= Т атомаI= который= инициирует каскадK=ТакI=число пар Френкеля в каскаде=Eкаскадная= функцияF=равно= α q νEqFZ fEqFI EQKNF= O ba где=α=Z=MI8=¸=NIM=–=подгоночный параметрI=ba=–=пороговая энергия= образования пары ФренкеляI= foEqF= –= функция РобинсонаI= учитывающая потери энергии атомов за счет взаимодействия с= электронной подсистемойK= В простейших случаях предполагаетсяI= что каскадная обJ ласть представляет собой сферический объем с диаметромI=равным= пробегу инициирующего атомаK= В последнее время все чаще исJ пользуется цилиндрическая модель каскадаI=причем длина каскадJ ной области равна пробегу инициирующего атомаI=а радиус=–=средJ нему пробегу выбитых им атомовK= Если движущаяся частица значительно легче атома мишени= или при близких массах имеет высокую энергиюI=длина ее пробега= без выбивания атома из решетки= Eсвободного пробега= –= λF= значиJ тельно превышает размер каскадаI= образуемого выбитым ею атоJ момI=это означаетI=что каскады атомных столкновенийI=образованJ ные разными ПВА развиваются независимо друг от другаI=а обраJ зование ПВА может описываться в приближении парного взаимоJ действия частицы с атомом мишениK= Если энергия ПВА достаточно велика=Eбольше=QM=–=SM=кэВFI= для него также выполняется условие=λ=>=iI=где=i=–=размер каскадаI= образуемого выбитым им атомомK=В этом случае говорят о появлеJ нии субкаскадной структурыI=тK=еK=о расщеплении каскада атомных= столкновений на отдельныеI= не связанные между собой субкаскаJ дыK= Движение ПВА при таких энергиях можно также описывать в= приближении парного взаимодействияK= Полная длина пробега находится из энергетических сообJ раженийW=
NSS= =
b
db I æ db ö æ db ö Mç ÷ Hç ÷ è dx øn è dx øe
oEbFZ ò
EQKOF
æ db ö где= ç ÷ –=потери за счет взаимодействия с атомами мишениW= è dx øn qm~x
dσEbIqF æ db ö (QKPF dq I ç ÷ Zk ò q dq è dx øn M где=k=–=атомная плотность телаI=Тm~x=Z=γb=–=максимальная переданJ ная энергияI=γ Z= QМ N М O LEМ N = H =М O FI =М N и М O –=массы частицы и= атома мишени соответственноK= Длину свободного пробега можно= определить стандартным образом= N N EQKQF K λEbFZ Z qm~x NσEbF dσEbIqF k ò dq dq qmin
ЗаметимI=что вообще говоряI=λ(ЕF приближается к действиJ тельной длине свободного пробега частицы только в случае= λ= «= oEbFX= в противном случае физическим смыслом обладает только= dx дифференциал= как вероятность образования ПВА на расстояJ λEbF нии=dxK=Это связано с темI=что в=EQ.Q) не учитываются электронные= потериI=т.еK=изменение=Е на длине=λK== В связи с этим при Е →=bLλ===λ(ЕF → ∞. Длина пробега ПВА зависит от переданной энергии=Т и меJ няется от= oEbaF до= oEγbFK =Поперечный размер каскадаI =тK =еK =длина= пробега ВВА зависит уже от двух параметровW =Т и= Т’ – энергииI= переданные при первом и втором столкновенияхK= СледовательноI= имеет смысл говорить о средних значениях геометрических размеJ ров каскадов иI=исходя из нихI=оценивать энергиюI=при которой обJ разуется субкаскадная структураK=В настоящее время не существует= общепринятого метода усреднения пробегов ПВА и ВВА по переJ данной энергииI=поэтому для сравнения используем три методикиW= =
NST= =
NK=Простое среднееW=
oENF ПВАEbFZ
qm~x
ò
oEqF
bd
dσEbIqF dq σEbFK dq
EQKRF
OK=Среднее квадратичноеW=
éqm~x dσEbIqF EOF oПВА EbFZ ê o O EqF dq ê dq b ë d
ò
ù σEbFú ú û
NO
K
EQKSF
PK=МедианноеW= oEOF ПВАEbFZoEqN O FI где=q NLO удовлетворяет условиюW= qNL O
ò
bd
σEbF dσEbIqF dqZ K dq O
= EQKTF= ================
ElF Усреднение= oПВА EqF =El=Z=MI=NI=OF=no=соответствующей метоJ дает среднее значение= oElF ВВА EbF I= тK= еK= средний поперечный=
дике размер каскадной области в цилиндрической моделиK= Для=oВВА а в= случаеI=если рассматривается облучение мишени атомами мишениI= то и для=oПВАI=происходит рассеяние тождественных частицK=В свяJ зи с этим формулы=EQKRF=–=EQKTF=нуждаются в модификацииI=так как= процессы рассеяния с передачей энергии=Т и=EЕ=–=Т=H=ЕdF отличаютJ ся только перестановкой частицK= Естественно считать выбитой ту= частицуI= которая имеет меньшую энергиюK= С учетом этогоI= в слуJ чае рассеяния тождественных частиц интегралы вида= qm~x
ò
bd
dσEbIqF fEqFdq dq
должны заменяться наW=
(qm~xHbd )
ò
bd
O
æ dσEbIqF dσEbIb Jq Hbd ç dq H dq è
NS8= =
Fö ÷ fEqFdq ø
.
При расчетах использовалось аналитическое представление= Линхарда дифференциального сечения потенциала типа ТомасаJ= ФермиK=В качестве мишени был выбран=kb=EА=Z=VPI=Z=Z=QNFI=а облуJ чение проводилось атомами=kb=и водородаK=На рисK=QKN=приведены= пробеги ПВА и ВВАI =образованных частицами= kb =для трех метоJ дик усредненияK= При рассеянии тождественных атомовI=один из которых поJ коилсяI=в лабораторной системе отсчета они разлетаются под углом= πLOK=СледовательноI=появление двух и более независимо развиваюJ щихся каскадов атомных столкновений возможноI= если начальные= точки каскадов разнесены большеI= чем на диаметр каскадаK= Для= цилиндрической модели каскада эти соображения приводят к нераJ венству= λEbF>OoENF ВВА ( b ) K= Из графиков видноI= что это условие соответствует следуюJ щим энергиямW=~NMMкэВ для простого среднегоI=~NМэВ для среднеJ го квадратичного и более=NMМэВ для медианного усреднения проJ бегов ВВАK= ЭкспериментI= а также методом машинного моделироJ вания было полученоI= что характерная энергияI= при которой появJ ляется субкаскадная структураI=составляет=QM¸8MкэВK=СледовательJ ноI=простое усреднение дает более реальное значение для среднего= размера каскада с цилиндрической геометриейK= ОтметимI= что если каскадная область предполагается сфеJ рическойI=условие появления субкаскадов записывается в виде=λ=>= oПВА(ЕFI=что приводит к чрезмерно высоким значениям характерной= энергииW=более=NМэВ для простого усреднения и более=NMМэВ для= двух других случаевK= На рисK= QKO= представлены пробеги и линейные размеры каскаJ довI= образующихся при облучении= kb= протонамиK= Для протонов= условие= λ= » =oПВАI =λ= » =oBBA выполняется для всех энергийI= поэтому= каскадные области образуют только ПВАI=а не сами протоныK= = = =
NSV= =
= РисK =QKNK =Энергетическая зависимость пробегов атомов в= kb = при облучении быстрыми ионами=kbW== N=– полный пробег частицX=O=– свободный пробег частицX==P=– средний= пробег ПВАX=Q – средний пробег ВВАK= = Варианты усредненияW= = EkJNF=J=простое усреднениеX= EkJOF=J=среднее==квадратK=усреднениеX== = = EkJPF=J=медианное усреднение= = =
= РисK=QKOK=То жеI=что на рисK=QKNI=но для облучения протонами= =
NTM= =
РисK=QKP=Энергетическая зависимость среднего объема зоны= повреждений=EкаскадовFI=образованных ПВА при облучении=kbPpn= атомами=kb=EаF=и протонами=EбFW= N= ||||||= –= простое усреднениеX= O= J= J= J= J= J–= среднее квадратичноеX= = = = = = = = = P==–=медианноеX== Геометрия каскадаW=NI=OI=P=–=цилиндрический каскадX=Q=–=сферичеJ ский каскад= = Суммарный объемI= занятый каскадами в единице объема= мишениI=определяется выражением= qm~x
dσEbIqF sEqFdq I = EQK8F= dq bd = где=sEqF=–=объем каскадной областиI=образованной ПВА с энергией= ТX=Ф=–=флюенс облученияK== = Аналогично определяется относительное число смещенных= атомов=
ò
sΣ ZΦ
qm~x
Cd ZΦ
ò
bd
dσEbIqF νEqF dqI dq k
NTN= =
= =====
======================EQKVF=
где= ν(ТF= – =каскадная функция= EQKNFK =Из= EQK8 =– =QKVF =естественным= образом определяются средняя энергияI= затраченная на создание= поврежденийW== qm~x
qo Z
ò
bd
dσEbIqF qf o EqFdq σEbFI ================ EQKNMF= dq
и средний объем каскадной области для цилиндрической моделиW= qm~x
sp EbFZπ
ò
Obd
(
)
O dσEbIqF oEqF oENF EqF dq ПВА dq
qm~x
ò
Obd
dσEbIqF dq I =EQKNNF= dq
oENF ПВА
вычисляется по формулам= EQKQF–EQKTFK= ОтметимI= что= где= ТoLOЕd дает среднее число дефектов в каскадной областиK= На рисK= QKP= представлены средние объемы каскадовI= рассчитанные по различным моделям каскадных областейX=средние= энергииI=переданные ПВА и затраченные на создание повреждений= при облучении=kb=атомами=kb=и протонамиK== =
4.O. Случайное поле дефектов. Статистика повреждений Процесс образования радиационных дефектов как процесс= рассеяния частиц пучка на атомах мишени и последующего рассеJ яния выбитых атомовI= является случайнымI= поэтому в результате= облучения в образце создается случайное поле поврежденийK= ВосJ производимость экспериментальных результатов свидетельствует о= томI= что наблюдаемые величины являются функциями некоторых= средних характеристик этого поляK= Случайное поле= AE x F одноJ значно определяется средним значением поля в данной точJ ке φM E x FZ AE x F и корреляционными функциями= φnA E x N Ix O IKKKx n FZ
( ( )
)( ( )
) ( ( )
)
EQKNOF
Z A x N -á AE x N Fñ A x O -á AE x O Fñ KKK A x n -á AE x n Fñ I
где усреднение проводится по возможным реализациям случайного= поляK=
NTO= =
Основное значение на практике имеет среднее значение= φMExF=и первая корреляционная функция=
( ( )
)( ( )
)
φOA Ex N I x O F = A x N -á AEx N Fñ A x O -á AEx O Fñ =
( ) ( )
( ) ( )
= A xN A x O
- A xN
A xO
= EQKNPF=
I
которая дает дисперсию случайной величины= A ( x ) в данной точке=
( φOA E xIx F) и меру взаимосвязи случайных величин= A( xN ) и A( xO ) K=
В частностиI= если значения случайного поля= A ( xN ) и A ( x O ) незаJ висимыI=то= φOA E x N I x O FZM K=
В качестве случайного поля= A ( x ) может выступать любая= локальная характеристика твердого телаI= например для физики= сверхпроводимости большое значение имеет свободный пробег= электрона и константа электрон-фононного взаимодействияK= Локальная характеристика твердого тела связана с концентрацией= дефектов= C ( x ) в общем виде через некоторые функции=
c ( x ) и f ( x ) W= A ( x )Z c
( ò CE у FfE x J у Fd P y ) I
AM Z cEMF = I == =
EQKNQF=
в частностиI =если связь локальнаI =то= fE x J y FZδE x J y F –= дельтаJ функцияI=AM=–= значение= A ( x ) для неповрежденного телаK= Разложив=
A ( x ) в окрестности=AM в ряд по концентрации дефектовI=получимW= ¥
A ( x ) = AM H å An nZN
( ò CE y FfE x J y Fd P y )
n
I=
=EQKNRF=
вычисляя среднее значение= á A ( x )ñ и корреляционные функцииI= легко видетьI=что они выражаются через= áC ( x )ñ и корреляционные= функции случайного поля концентрации дефектовK=В частностиW= á A ( x )ñ = AM H AN ò áC ( y )ñ f E x - y Fd P y + + AO òò áC EyN FC Ey O Fñ f Ex - yN F f Ex - y O Fd P yNd P yO + KKK=I
NTP= =
=EQKNSF=
φOA E xNI xO F = AN òò φOC E yN I y O F f ExN - yN F f E x O - y O Fd P yNd P yO+KKK=K EQKNTF= Таким образомI= для определения характеристик случайного поля= любой физической величины достаточно знать характеристики= случайного поля концентрации дефектов и связь=EQKNQFK= Радиационные дефекты в твердом теле при облучении= ионами и нейтронами являются результатом каскадов атомных= столкновенийK=Поэтому облученный материал можно представить в= виде необлученной матрицыI= в которой распределены каскадные= областиK= Для простоты будем рассматривать случай однородного= повреждения твердого тела= – =в том смыслеI =что вероятность= образования каскада не зависит от его местоположенияK= Такая= ситуация возникает при облучении нейтронами из-за большой= длины их пробегаX= при облучении ионами однородность= обеспечивается использованием достаточно тонких образцов и= однородного по поверхности образца облученияK= Рассмотрим физические предпосылки появления= корреляции между плотностями дефектов в двух точках=E xN и= xO FK= Корреляция означает зависимость вероятности повреждения точки= xO от концентрации дефектов в точке xN K= Можно выделить три= основные причиныI=по которым возникает эта зависимостьI=причем= они отличаются характерными расстояниями между= коррелирующими точкамиK= Первая причина появления этой корреляции связана с темI= что образец имеет конечные размеры иI= следовательноI= в нем= расположено конечное число дефектных областей= EпорI= дислокационных петельI= каскадовFK= Эта корреляция малаI= так как= связана с отношением объема каскадной области к объему всего= образцаI=которое в реальных случаях много меньше единицыK= Вторая причина корреляции связана с конечным размером= дефектной областиK=ДействительноI=если расстояние= xN - x O между= коррелирующими точками меньше размера дефектной области и= точка= xN поврежденаI=то вероятность тогоI=что точка= xO попадает в= область поврежденияI= ниже для удаленной точкиK= Характерное= расстояние этой корреляции равно размеру дефектной областиK=
NTQ= =
Третий источник корреляции заключен в структуре= дефектной областиI= тK= еK= распределении в ней дефектовK= Характерный размер этой корреляции меньше размера дефектной= областиK= Для нахождения той части корреляционной функцииI= которая связана с этой причинойI= необходимо знать внутреннюю= структуру каскадаI=которая до сих пор известна плохоK= Основной вклад в изменение сверхпроводящих свойств= вносят гармоники коэффициентов Гинзбурга-Ландау с характерной= длинойI=больше длины когерентностиK=Размер каскадов в большинJ стве случаев порядка длины когерентностиI =поэтомуI =в первом= приближенииI= можно пренебречь более высокими гармоникамиI= возникающими в корреляционных функциях по третьей причинеI= и полагать распределение дефектов внутри каскада однороднымK= Для нахождения= áCñ и= φ OC необходимо рассмотреть вопрос= о результирующей концентрации дефектов в области перекрытия= каскадовK=Рассмотрим два предельных случаяW=разреженных каскаJ довI=когда концентрации дефектов просто суммируютсяI=и плотных= каскадовI=когда концентрация дефектовI=как в каскадахI=так и в обJ ластях их перекрытия одна и та жеK= =
4.P. Модель разреженных каскадов = Случай разреженных каскадовI= вообще говоряI= применимI= если=
ρEsC F»NI = где= ρ= – =число каскадных областей в единице объемаI = пропорциональное флюенсу облученияI= s= – =объем каскадной= областиI= С=–=относительная концентрация дефектов в нейI=а черта= означает усреднение по распределению каскадовK= В этом= приближении в образце реализуется пуассоновское случайное поле= дефектовI =для которого можно вычислить его среднее значение и= корреляционную функцию в явном видеK= Для этого сначала предположимI=что положение дефектов в= каскадах детерминированоK= Тогда концентрацию дефектов можно= записать в виде суммы=δ-функпийW=
NTR= =
kk nN
C ErF = åå dEr - oN -rij FI = =
EQKN8F=
iZN jZN
где= k k Z ρs% =–= число каскадов во всем объеме образцаI= s% –= объем= образцаI=ni=Z=siCi=–=число дефектов в=i-м каскадеI=и=si=и=Ci–=объем и= концентрация дефектов в=i-м каскадеI= oi –=координата центра=i-го= каскада= Eв качестве центра можноI =в принципеI =брать= произвольную точкуFI= rij –=радиус-векторI=соединяющий центр=i-го= каскада с=j-м дефектом в немK== Усреднение по расположению каскадовI=т.еK=по реализациям= случайного поляI =в таком подходе заключается в усреднении по= положению=kk=–=каскадовI=напримерW= kk
ò CErFd áCErFñ=
P
oNd P oO KKKd P okk
å nk
= iZN = ρEsC FI ===========EQKNVF= s%
% EsF т.еK =равноI =как и следовало ожидатьI =среднему числу дефектов в= единице объемаK= Для нахождения корреляционной функции необJ ходимо вычислить= kk
f = ò δ Er - r DFδ Er - r DDF d P rK ==================
EQKOMF=
В случаеI= если= r D ¹ r DD I= то нулю равны подынтегральная= функция= для всех= r и интегралK=Для нахождения функции в точке= r D=Z= r ?=проинтегрируем=EQKOMF=по= r ∞I=откуда получим=
ò fd
P
rD = ò δE r J rDDFd P r ò δE r J rDFd P rD = NK =
СледовательноI=согласно определению=δ-функции= fZδ Er D-r DDFK =====================================EQKONF= Вместо корреляционной функции= φOC ErN I r O F для удобства= будем= искать функцию= á C ErN FC Er O Fñ = φOC E rN I rO F + á C Er F ñ O K =
Перемножая члены ряда=EQK=N8F=и усредняя по положению каскадовI= согласно= EQKNVF =получим рядI =в который будут входить два вида= слагаемыхW=
NTS= =
N N δ ErN - o k - rij Fδ ErO - o k - rik F d P ok Z δ ErN - rij - rO + riN FI = ò % s s% N N δ ErN - o N - rij FdErO - o k - rik Fd P oN d P ok Z K= ò % s s% O В результате получим= kk kk n n kk ni ni N áC ErN FC ErO Fñ = åå i k + ååå δ ErN - rij - rO + ril F = % O i=N j=N l=N s% i=N k =N s k k
k
k n n
k n
k k nn k nO k i i N k i N = åå i k - å i + ååå δ ErN - rij - rO + ril F + åå δ ErN - rO F = %O %O s% s% i=N k =N s i=N s i=N j =N l =N i=N j=N
l¹ j
kk
k n n
k i i N nO ρEsCFO = E ρsC F + å N + ååå δ ErN - rij - rO + ril F+ρsCδ ErN - rO FK %O s% s% i=N s i=N j =N l =N
O
l¹ j
Первый член малI=так как пропорционален квадрату концентрацииI= % , где= которая мала по условиюK=Второй малI=тK=кK=имеет порядок= N s % – объем образцаI=который мы считаем бесконечно большимI=поJ s этому=
φOC ErN I rO F =
k k ni ni
N
ååå s% δ ErN - rij - rO + ril F +áC ErFñ δ ErN - rO FK i=N j =N l =N l¹ j
Величины= rij I=т.еK=координаты дефектов в каскаде неизвестныK=Как= указывалось вышеI=предположим их равномерно распределенными= по объему= NJго каскадаI= для чего необходимо провести последнее= усреднениеW= N δ ErN - rNi F - ErO - rNj F dPrNi dPrNj I EQKOOF O òò sN где интегралы берутся только по объему=N-го каскадаK Результатом интегрирования= EQKOOF= будет объем областиI= в= которой может выполняться условие= ErN - rij F = ErO - rij F K=Но обе чаJ
(
)
сти этого равенства=–=это координаты внутренних точек каскадных=
NTT= =
областей с центрами в= rN и rO K= СледовательноI= интеграл=EQKOOF=раJ вен объему перекрытия каскадных областей объема= siI построенJ ных с центрами= r N и rO K=Обозначим этот объем= sÇi ErN I rO F K=Тогда
(
)
φOC ErN I rO F =áC Er Fñ δ ErN - rO F + ρ CEsC JNFsÇ Ls K
EQKOPF
Корреляционная функцияI=как отмечалось вышеI=характериJ зует неоднородность поля дефектовI= образующихся в образцеK= С= ростом флюенса облучения корреляционная функция=EQKOPF=растет= линейноI=тK=еK=неоднородность монотонно возрастаетK=Это связано с= темI =что= EQKOPF =получено для случая разреженных каскадов и неJ применимоI= когда число перекрывающихся каскадных областей= великоK= Для нахождения асимптотики корреляционной функции= при больших флюенсах рассмотрим модель плотных каскадовK=
4.4. Модель плотных каскадов Будем предполагатьI= что внутри каскадной области создаJ ется концентрация дефектов= CMI= которая не меняется при прохожJ дении через данный объем последующего каскада атомных столкJ новенийK=Для дальнейших выкладок потребуется вероятность тогоI= что центр одного из каскадов попал в данный объем= s’I= покажем= это следующими рассуждениямиK=Вероятность тогоI=что центр данJ ного каскада не попал в объем=sI=составит sD NJ I s% % где s I=как и преждеI=–=объем образцаK Если в образце находится= N каскадных областейI= то вероJ ятность тогоI=что центр ни одного из каскадов не попал в данный= объем=s’I=равна= k
æ sD ö ç NJ % ÷ I = è sø таккак каскады распределены независимоK= k и устремляя= s% к бесконечностиI=имеемW Полагая= ρZ s% pM Z e JρsD I
NT8= =
где= pM =–=вероятность тогоI=что в объем=s’ не попал центр ни одноJ го из каскадовK Тогда вероятность тогоI= что в окрестности данной точки= концентрация дефектов равна=MI=записывается в виде= pM Ze Jρs I = где= s =–=средний объем каскадаI=так как=С=Z=M означаетI=что центр= ни одного из каскадов с объемом=si=не попал в областьI=окружаюJ щую данную точку с объемом= siK Соответственно вероятность обJ наружения концентрации=CM в данной точке pECM FZNJe Jρs I
а средняя концентрация
(
)
C ZCM NJeJρs K
EQKOQF=
Для нахождения корреляционной функцииI=как и вышеI=расJ считаем= áC ErN FC ErO Fñ K=Для этого достаточно рассчитать вероятность= тогоI= что в окрестности обеих точек концентрация дефектов равна= CMK=Это может случиться по двум причинамW=либо обе точки лежат в= одной каскадной областиI=либо=–==в разныхK=Если точки лежат в одJ ной каскадной областиI= то это означаетI= что центр попал в объемI= образующийся при перекрытии таких же каскадных областейI= поJ строенных с центрами в= rN и rO I= т.еK= в объем= sÇ I =который мы исJ пользовали вышеK=Вероятность такого исхода составит
(NJe ) K= - ρsÇ
В противном случае в объеме= sÇ нет центра каскадной обJ ластиI =зато в двух объемах= s= J sÇ находится по центру каскадной= областиW= = O e - ρsÇ N- eJρEs JsÇ F K = = Суммируя эти вероятностиI=находим=
)
(
)
(
áCE rN FCE rO FñZCMO N- Oe- ρs + e-2ρsHρsÇ I =
NTV= =
(
) ===============
φOC ErN I rO FZCMO eJOρs × e ρsÇ -N K
EQKORF
Таким образомI=при больших флюенсах облучения корреляционная= функцияI= а следовательноI= неоднородность поля дефектов уменьJ шается по экспоненциальному законуK= =
4.RK=Параметры имитации = ИзвестноI=что критические параметры однородного и неоднородноJ го сверхпроводника различныK= В литературе получены соотношеJ нияI=позволяющие выразить через корреляционные функции первоJ го и третьего коэффициентов Гинзбурга–Ландау ряд параметров= неоднородного сверхпроводникаK= ТакI= поправка к критической= температуре записывается в видеW= æ æ ö φEr Fd P r ö N N qC ZqCM çN+ φN ÷ I =EQKOSF= ÷ = qCM çN+ ç 4π á AP ñ ò ÷ r è Qπ á AP ñ ø è ø где= qCM =–=критическая температура сверхпроводника при однородJ ном распределении дефектовI= φEr F –=корреляционная функция перJ вого коэффициента Гинзбурга–ЛандауI=YАP[==среднее значение треJ тьего коэффициентаK=Ширина сверхпроводящего перехода и критиJ ческий ток в случаеI=если размер неоднородностей=o=«=ξEqF=–=длины= когерентностиI=выражаются через= φM = ò φErFd Pr
====================
EQKOTF=
для пленки и φMO ==для массивного образцаK= = В самом общем виде связь между коэффициентами ГинJ збурга-Ландау и концентрацией дефектов можно записать в виде= =EQKO8F= AN ErF = ò fN ( cEr + r DFI r D) d Pr DI == ε
где= АN= –= N-й коэффициент Гинзбурга–ЛандауI= cErF –= концентрация= дефектов в точке r I=ε=–=некоторая окрестность начала координатK= Если известен вид функции=fNEcI r FI=то можно найти среднее= значение коэффициентов Гинзбурга–Ландау и корреляционные= функции от нихW=
N8M= =
á AN ñ = ò d P rD ò f NEcI r DF pEcFdc e
φAN Z ò d r Dò d r DDòò fNEcN Ir DF fN EcN Ir DDF pEcN IcO I r + r D- r DDFdcNdcO -á AN ñ O K (QKOV) P
e
P
e
Нелокальная связь=EQKOVF=между коэффициентами ГинзбурJ га–Ландау и концентрацией дефектов сглаживает коротковолновые= гармоники в= C ErF K=Как отмечалось вышеI=эти гармоники слабо влиJ яют на решения уравненийI= поэтому вместо нелокальной связи= можно в первом приближении взять локальнуюW AN ErF = fN ( C Er F ) K EQKPMF= ======================= Кроме тогоI= ограничиваясь начальной стадией облученияI= в= приближении малой концентрации дефектов можно оставить тольJ ко первые члены разложения функций=fN в ряд Тейлора по=СW AN Z ANM HαNC Er FI EQKPNF= ¶A ANM Z ANECZMF;===αN Z N K ¶C В этом случае фор м улы EQKPNF=переписываются в видеW á AN ñ = ANM HαN áC ñ I
(
)
φErF=αNO áC Er DFC Er D+ r Fñ-áC ñ O K Используя результатыI= полученные для разреженных каскадовI= имеем в приближении шаровых каскадных областейW á AN ñZ ANM HαN ρEsC FI
æ æ Pr ö EQKPOF rP ö O ÷I φErFZαNO ρ ç s ç NJ H C q EOoJrF ÷ P ç èç Qo NSo ø÷ ÷ è ø где усреднение проводится по случайному распределению каскаJ довI= q –=тета-функцияK = Подставляя корреляционную функцию= EQKPOF= в интегралыI= через которые выражаются параметры сверхпроводникаI=получим= æ s OC O ö ÷K φM =αNO ρ s O C O ;==========φN ZNKO × αNO ρ ç ç o ÷ è ø
(
)
N8N= =
Если каскад полностью определяется энергией ПВАX=
dσ ( bM IbD )
–= db полное дифференциальное сечение рассеяния частиц с энергией=bM = и образованием ПВА с энергией= Е’ на единицу объема мишениI= равное= dσ æ dσ ö æ dσ ö ZC A ç ÷ HC B ç ÷ I= dbD è dbD ø A è dbD ø B æ dσ ö где= Cx= –= концентрации атомов А и В в мишениI= ~= ç ÷ = –= их= è dbD ø x дифференциальные сечения рассеянияX=kEbMF=–=спектр налетающих= частицI=нормированный на единицуI=то получим=
áC ñ = c ò kEbM FdbM φM = αNO c
bm~x
ò
dbDsEbDFCEbDF
bN bm~x
ò kEbM FdbM ò
dbDs O EbDFC O EbDF
bN
φN = NKOαNO c ò kEbM FdbM
dσEbM IbDF I dbD
bm~x
ò
bN
dbD
dσEbM IbDF I dbD
==EQKPPF=
s O EbDFC O EbDF dσEbM IbDF I oEbDF dbD
где= c= –= флюенс облученияI= ЕN ≈ Тd= –= энергия образования одной= пары Френкеля=EПВА с минимальной энергиейFI=Еm~x=–=максимальJ но возможная переданная энергияK= Таким образомI= при сравнении экспериментальных= результатов по влиянию облучения на критический ток= сверхпроводников и ширину сверхпроводящего перехода= необходимо сравнивать не концентрации образовавшихся в= материале дефектов= áC ñ= ρEsC F I= а величины= φMK= Для критической= температуры таким параметром является некоторая комбинация= áCñ I=φN и зависимостей=ТCM=E áCñ F=и=АPE áCñ FK= = = = =
N8O= =
4.6. Имитационные соотношения для модельных спектров ПВА = Рассчитаем эквивалентные дозы в двух модельных случаяхI= соответствующих нейтронному и ионному монохроматическому= облучениюK= При облучении ионами плотность вероятности= образования ПВА с энергией= Е= Eспектр ПВАF =грубо можно= аппроксимировать гиперболической зависимостью= NLЕI= которая= обрезана снизу энергией образования одного дефекта= EbN= Z =qd= ~= ORэВFI=а сверху=–=максимальной переданной энергией=Еpº Еm~xI=заJ висящей от масс налетающих ионов и атомов мишениK= При облучении нейтронами сечение рассеяния слабее завиJ сит от переданной энергииK= Рассмотрим модельный случай равенJ ства вероятностей передачи любой энергии от= ЕN до= ЕnI= которая= определяется как и=Еm~xK= Размер каскадаI=как отмечалось вышеI=равен или пропорциJ онален длине пробега ПВАI= которая в свою очередь пропорциоJ нальна энергии ПВАI=следовательноW== o Zconst K= b Количество дефектов в каскаде также пропорционально энергии= Cs Cs ПВАI= т.еK= ZconstI= = = ZconstI== причем все эти константы не= b o зависят от налетающих частиц и связаны только с составом и= структурой мишениK= Таким образомI= с учетом= kEbF =Z =σEb =J =bMF= EQKPPF= можно переписать в видеW= bm~x
dσEbM IbDF æ Cs ö dbD × bD áC ñ = Φ ç I ÷ ò dbD è b ø bN æ Cs φM =αNOΦ ç
ö ÷ è b ø
O bm~x
ò
dbD × bD O
O
b
bN
dσEbM IbDF I dbD
m~x dσEbM IbDF æ Cs ö æ b ö K φN ZNKOαNOΦ ç ÷ ç ÷ ò dbD × bD dbD è b ø è o ø bN
N8P= =
= EQKPQF=
Подсчитаем= áCñ I=φM и=φN для рассмотренных двух модельных спекJ тров ПВАK=Для удобства обозначим= σ =–=нормированное на единиJ цу дифференциальное сечение рассеянияW= dσEbM IbDF dbD σEb IbDF = K= M
bm~x
ò
dbD
bN
dσEbM IbDF dbD
Пусть=ρp и=ρn=–=число каскадных областей=EПВАF=в единице объема= для ионов и нейтронов соответственноK== Для ионного облучения= Qj Nj O ì = bM × X ïN bD ×ln=Eb p L bl =FI bN £= bD £ b p Z Ej N Hj O FO σEbM IbDF = í ïMI==========================bD < b I==bD > b ; N p î æ Cs ö b p J bN áC ñZ ρN EsC FZ ρN ç I ÷ è b ø O lnEb p L bN F
EQKPRF=
O b O J bO æ Cs ö p N φM αNO = ρN Es OC O FZ ρN ç I ÷ è b ø O lnEb p L bN F
æ s OC O ö æ Cs = ρN ç ÷= ρN ç O ç ÷ o è b NKOαN è ø φN
O ö æ b ö b p J bN K ÷ ç ÷ ø è o ø O lnEb p L bN F
Те же величины для нейтронного облучения равны= Qj Nj O ì N ; ï b J b I====bN £ bD £ bn ZbM × σEbM IbDFZ í n N Ej N Hj O FO ïMI==========================bD < b I==bD >b ; = l n î æ Cs ö bn HbN áC ñZ ρn ç I ÷ è b ø O O
O O æ Cs ö bn Hbn bN HbN φM αNO = ρn ç I ÷ P è b ø O
æ Cs ö æ b ö bn HbN Z ρn ç K ÷ ç ÷ è b ø èoø O NKOαNO φN
N8Q= =
=============================EQKPSF=
Сразу можно заметитьI=что в рамках данной моделиI=если совпадаJ ют средние концентрации= áCñ I=то совпадают и интегралы=φNI=а это= значитI=что совпадают и критические температурыK=СледовательноI= условие эквивалентных доз облучения для критической температуJ ры записывается в стандартном виде равенства средних концентраJ ций дефектов= b p J bN b Hb ρN = ρn n N K = = EQKPTF= O lnEb p L bN F O Для критического тока получаем другое условие эквиваJ лентностиW= b Op J bNO
b Hb b Hb = ρn n n N N EQKP8F= O lnEb p L bN F P ========== b=соотношение между=ρN и=ρnI=аI=следовательноI=флюенсами=ФN и=Фn= для эквивалентных доз по критическому току отличается от услоJ вия эквивалентности для критической температурыK= = ρN
4.T. Детальные расчеты характеристик поля повреждений при облучении тонких пленок сверхпроводников А1R ионами и нейтронами Спектры первично выбитых атомов= EПВАF= имеют определяJ ющее значение для расчета радиационной повреждаемости материJ аловK= СледовательноI= в реальных ситуациях нельзя ограничиться= модельными результатамиI=представленными в предыдущем раздеJ леK=Для сопоставления воздействия различных видов облучения на= сверхпроводящие пленки и конструкционные материалыI испольJ зуемые при создании сверхпроводящих магнитных систем необхоJ димы более детальные и достоверные расчетыK=С этой целью в данJ ном разделе представлены результаты расчеты радиационных деJ фектовI= проведенные с помощью разработанного комплекса проJ граммI=основных на идеологииI= частично представленной вышеK= В= рамках этих расчетов также детально учитывается возможность= образования субкаскадных структур при облучении быстрыми чаJ стицамиK==
N8R= =
Одной из основных характеристик сверхпроводящих свойств= является температура сверхпроводящего перехода=ТсK=В настоящее= время теоретически уменьшение критической температуры соедиJ нений АNR= при введении дефектов кристаллической структуры= объясняется==изменением плотности числа состояний электронов на= уровне ФермиK=Это подтверждается и прямыми=~bJinitio=расчетами= и экспериментальными даннымиK= С этой точки зрения=Тс должна быть универсальной функциJ ей средней концентрации дефектов в образце= áCñ I=испытывающей= слабые вариацииI= связанные с неоднородностью дефектной струкJ турыK= Поэтому при облучении сверхпроводника нейтронами и= ионами до флюенсовI при которых концентрации дефектов равныI= следует ожидать одинакового падения критической температурыK= Обычно вместо концентрации дефектовI= для нахождения которой= необходимо рассматривать процессы рекомбинацииI= пользуются= концентрацией смещенных атомов=CdI=полагаяI=что существует соJ ответствие между этими величинами=CdZkndK= Реально это соответJ ствие может в значительной степени зависеть от вида каскадной= структуры=Eразмеров каскадов и концентрации дефектов в нихFK== С другой стороныI=существует кластерная модель деградации= ТсI=предполагающаяI=что в каскадных областях сверхпроводимость= полностью= Eили частичноF= разрушенаI= а падение= Тс связано с= увеличением объемной доли кластеров в образцеK=Легко видетьI=что= это соответствует рассмотренному в предыдущем разделе случаю= плотных каскадов иI=следовательноI=Тс должна быть универсальной= функцией относительного объема каскадных областейK== = 4.T.1 Учет субкаскадной структуры повреждений= = ОднакоI= при больших энергиях ПВА возможно образование= вдоль их трека субкаскадной структурыI =тK =еK =о расщеплении= каскада атомных столкновений на отдельныеI=не связанные между= собой субкаскадыK= Формально учет субкаскадов сводится к= пересчету спектра для ПВАI= энергия которых выше пороговой= энергии образования субкаскадовI= на их спектр после рассеяния и= спектр выбитых ими атомовK=Пусть спектр ПВА=
N8S= =
kNEqFZ ò
dσM EbIqF kM EbFdq dq
EQKPVF
dσM –= сечение их= dq рассеяния на атомах мишениK=Тогда после первого рассеяния ПВА= с энергией больше=Еp=–=граничной энергии образования субкаскадJ ной структуры= –= спектр движущихся атомов будет даваться форJ мулой=En=Z=NFW=
где= kM EbF –= спектр частиц налетающего пучкаI=
q
N m~x æ dσEqDIqF dσEqDIqD JqF ö k nHNEqFZ k n EqFqE bp Jq F + H ç ÷ k n EqDFdqDK EQKQMF= σ bò è dq dq ø p
Продолжая итерационный процесс= EQKQMFI= в пределе получим= спектр всех частицI=которые имеют энергию меньше=Еp и образоваJ ны при выбивании атомов мишени частицами первоначального= пучка и выбитыми атомами с энергией больше= ЕpK= Эти частицы= инициируют в образце каскады атомных столкновенийI=и на основе= этого спектра рассчитываются характеристики поля дефектовK= Эта процедура значительно меняет объемы каскадных= областей и корреляционные функции дефектной структурыI=так как= учитывает неоднородность каскада атомных столкновений при= больших энергиях ПВА. Однако на среднее значение концентрации= дефектов учет субкаскадной структуры практического влияния не= оказываетK= = 4.T.O. Расчеты для монохроматического ионного облучения = Расчеты на ЭВМ для монохроматического ионного излучеJ ния и определенной пары= …ион-мишень»= позволяют получить поJ тери на электронное и ядерное торможениеI= полный и проектный= пробегиI= их разбросыI= энергетические потери на создание повреJ жденийI= распределение по размерам зон повреждений с учетом= возможного образования субкаскадных структурK= Для описания ядерных столкновенийI= в= которых создаются= дефектыI= использовались два варианта дифференциального сечеJ ния взаимодействияW= сечение Томаса-Ферми в аналитическом= представлении Линхарда и сечениеI= определенное Зиглером из поJ тенциала МольераK= Электронные потери учитываются по полуэмJ
N8T= =
пирическим соотношениямI= дающим хорошие результаты в широJ ком диапазоне пар ион-мишень и различных энергиях ионовK=В осJ нове метода расчета профиля повреждений и профиля имплантироJ ванных частиц лежит предположение об аппроксимации спектра= движущихся частиц гауссовским распределениемI= относительно= средней энергии на некоторой глубине в образцеK== Результаты расчетных параметров для ионного облучения= приведены в таблице=QKNW= =pеI =pkI =pi= –= потери энергии облученного иона на возбуждение= электронной подсистемыI= на ядерные столкновения и на создание= радиационных дефектовX==
o p ºá zñI== Δo p º á z O ñ-á zñ O –=средний проективный пробег и разJ брос проективных пробегов ионовX== pGEMF= –= потери на создание дефектов в приближении тонкой= мишениX== cG=–=флюенсI=соответствующий числу смещений=Сd=Z=NI=рассчиJ танный в приближении тонкой мишени= EЕd= Z= OR= эВ= –= энергия на= одно смещениеFK= Вторым этапом расчетов являлось определение структуры= поля поврежденийI= т.еKI= напримерI= размеров каскадовI= рожденных= ПВАI=ВВАK== Рассчитаны зависимости относительного изменения= критической температуры= kbPpn= от числа смещенных атомов и= объемовI= занятых каскадными областямиK= Использовались данные= по облучению= kbPpn =нейтронами с энергиями выше= NMM =кэВ и= N = МэВI= протонами с энергией TR =кэВI =α-частицами с энергиями= O = МэВK =OIR =МэВI =PIS =МэВI =ионами кислорода с энергией= OR =МэВ и= ионами Не с энергией= NIRS= МэВ= EрисK= Q.QFK= Использовались два= варианта дифференциального сечения взаимодействияW= сечение= Томаса-Ферми в аналитическом представлении Линхарда и= сечениеI=определенное ЗиглеромI=из потенциала МольераK== =
N88= =
Результаты расчетов по облучению пленок=kbPpn=EЕd=Z=OR=эВF
Таблица=QKNK==
= = = = = = = = = = = = = = = = = = = = = = = = = = = = = = = = = = =
= =
N8V=
=
4.T.P. Расчет спектров ПВА для нейтронного облучения= = = При нейтронном облучении в связи с большой длиной=их= свободного пробега и относительно слабой=зависимостью поперечJ ного сечения рассеяния от переданной энергии в образце наблюдаJ ется ярко выраженная каскадная структураK=Средняя энергия перJ вично выбитых атомов=EПВАF=для нейтронов с энергией=N=МэВ соJ ставляет десятки кэВI=что приводит к образованию каскада атомJ ных столкновений с участием сотен атомовK=При ионном облучеJ нии расстояние между ПВА на несколько порядков меньшеI=а их= средняя энергия не превышает=N=кэВK=В то же время при облучении= нейтронами возможно появление ПВА с энергией более=NMM=кэВI= что приводит к образованию в этихI=относительно редких случаяхI= субкаскадной структурыK== Для нейтронов реакторов деления и==будущих термоядерных хаJ рактерно наличие широкого энергетического спектраK= Расчетный= спектр нейтронов ТЯР после защиты в области=CjC=простирается= до энергии= NQ =МэВK =Для нейтронов таких энергий существен неJ упругий канал образования ПВАK== С целью расчетов спектров ПВА для реального спектра нейтроJ нов использовался комплекс программI=учитывающих упругое расJ сеяние нейтронов на атомах мишени в рамках модели параметриJ зованного фазового=анализа и неупругое рассеяние в модели ГрайJ мса и другихK= Основные выводы расчетов первого этапа= Eспектра ПВАF = заключаются в следующемW== · при энергиях нейтронов=Еп=[=R=МэВ в дифференциальном сечеJ нии упругого рассеяния= EугловомF= проявляются дифракционJ ные максимумы= EтK= еK= рассеяние таких нейтронов становится= неизотропным и отличным от упругих шаровFX== · с ростом энергии нейтронов относительная величина неупругоJ го рассеяния возрастаетI=для=Еn=[=T=МэВ на спектре ПВА проявJ ляется максимум при энергии=Т=~=NMR эВX æ dσ ö · при=Еn=[=T=МэВ зависимость= ç q ÷ имеет два максимумаI=т.еK= è dq ø существуют две группы ПВАW=с энергией=NMQ эВI=образованные= в упругих столкновениях нейтронов с атомами веществаI= и с=
NVM= =
энергией= NMR эВ= – =в неупругихX =первая группа ПВА создает= мелкие каскады с характерным размером=~PM=ǺI=вторая=–=каскаJ ды размером=~OMM=ǺX= · нейтроны с энергией=~NQ=МэВ образуют ПВА с энергией до SMM= кэВI=характерный размер каскадов при этом=~NMMM=Ǻ и необхоJ дим учет субкаскадной структуры поля поврежденийK= Были проведены расчеты на ЭВМI=в алгоритме которой==учиJ тывалосьI=что структура поля повреждений может значительно меJ няться для области больших размеров каскадовK= УчитывалосьI= что= каскад может распадаться на субкаскадыK=Для учета этого эффекта вводится функция распределения изолированных зон повреждений= –=…квантов»=поля повреждений=–=kПЗПK=Расчет функции=kПЗП провоJ дится итерационным способомI= который учитывает распад каскаJ дов на субкаскадыK =В результате показаноI =что число мелких зон= повреждений возрастаетI=а крупных убывает=–=в этом отличие=kПЗП = от= Edσ L dqF K=Для расчета пороговой энергии=qp образования субкасJ кадов разработана независимая методикаI= которая дает значение= порядка=QM=кэВ для мишени из=kbPpnK= Пусть= ΦN –= параметр имитацииI= соответствующий средней= степени повреждения образцаI= ΦO = –= параметрI= связанный с дисJ персией случайного поля поврежденийK=При помощи функции=kПЗП= параметры имитации для облученияI=имеющего флюенс=cI опредеJ ляются следующим образомW= α cf N=;===f N Z ò ba EqFk ПЗП EqFdq I Oba α O ΦO=Z O cf O=;===f O Z ò ba EqFk ПЗП EqFdq I Qba ΦN=Z
EQKQQF=
где=ba=–часть энергии ПВАI=затраченная на создание поврежденийI= α=–=константаI=определяющая каскадную функцию Eв модели КинJ чина–Пиза=α=Z=NI=для НРТ стандарта=α=Z=MI8FK= Результаты расчетов показалиI= что учет субкаскадной струкJ туры поля повреждений меняет значение корреляционной функции= ~ ΦO I= слабо сказываясь на средней по образцу концентрации деJ фектов=~ ΦN K=
NVN= =
По данной методике проводился пересчет спектров ПВАI=обJ разованных как нейтронамиI=так и быстрыми ионами=Eвключая тяJ желые частицыI =для которых это также актуальноFI =размер каскаJ довI=концентрацию дефектов в каскадах и т.дK== Основные==результатыW= · поле поврежденийI= образующееся в сверхпроводнике ниоJ бий-олово при протонном= EbN~= lMM= кэВF= облученииI= однородноI= в= том смыслеI= что представляет собой равномерно распределенные= по образцу пары ФренкеляI= что связано с большой длиной свободJ ного пробега= Eλ= » =d= –= толщины пленок= ~NMMM= ǺF= и малой средней= переданной ПВА энергией=ТX= · при облучении ионами Не=EЕN=~O=–=R=МэВF=образующееся в= образце поле поврежденийI= в сравнении с протонамиI= менее одноJ родноI= плотность числа смещений в каскаде меньше за счет их= большого размераX= · поле поврежденийI=создаваемое ионами=kе=EЕN=~NIS=МэВF=по= своим основным характеристикам совпадает с полем повреждений= от нейтронов с энергией=EN=–=NQ=МэВFX= · при облучении нейтронами при флюенсахI= соответствуюJ щих падению критической температуры ТÅ в два раза по сравнению= с первоначальной=EN8К для ниобий-оловоFI=кратность повреждения= образца= Eотносительная доля объемаF= составляет= MKNS= для нейтроJ нов с энергией=N=МэВ и=MKPN=для нейтронов с энергией=NQ=МэВK= =
4.8. Методика определения временного ресурса сверхпроводящих соединений На основе представленных соотношений была создана= программа для ЭВМI= которая позволяет проводить сопоставление= воздействия различных видов облучения на различные= характеристики сверхпроводящих материаловK= В рамках этих= расчетов= = определены характеристики элементов поля смещенийW= средний размер каскадовI= концентрациюI= дефектов в каскадеI= значения пороговой энергии=bp и так далееK= Используя полученные результатыI= были обработаны экспеJ риментальные данные для зависимости критической температуры= от флюенса=c ионного и==нейтронного облучений образцов=kbPpnK=
NVO= =
Зависимость приведенной критической температуры от флюенса= частиц=qcEcF==представлена на рисK=QKQK=Для ионного облучения исJ пользовались данные для тонких сверхпроводящих пленок для исJ ключения влияния имплантации частицK= Видно значительное разJ личие в величине флюенсовI= соответствующих падению критичеJ ской температуры в два разаK= Был проведен пересчет зависимостей от= c= на число смещеJ ний на атом=Cd и относительный объемI= занятый каскадамиK= ЗавиJ симость= Тс= /ТсM= EТсM= –= температура сверхпроводника до облученияF= от концентрации смещенных атомов достаточно хорошо укладываJ ется в окрестности одной кривой=EрисKQKRFK== Лучшая универсальность зависимости= qcLqсM от меры= облучения получается при использовании сечения Линхарда в двух= случаяхW= от относительного объемаI= занятого цилиндрическими= каскадамиI= рассчитанными в модели простого усредненияI= и от= числа смещений с учетом функции Робинсона= EрисK= Q.5бFK Остальные модели дают существенно больший разброс данныхK= = Из представленных результатов следуетI= что уменьшение= критической температуры= Тс в два раза происходит при одном и= том же числе смещений на атомI= независимо от типа облучения= Eкритерия имитации= ΦN FK=В пересчете флюенса на число смещений= для разных видов облучения полученоI=что зависимость=qcECdF стаJ новится практически универсальной для всех типов облучения= представленных на рисKQKQK=Число смещений на атомI=необходимое= для падения критической температуры в= O= разаI= равно = Cd (qc qM ZMKR ) » MKMQ K= = Используя этот универсальный результатI=можно рассчитать= значение флюенса= cnNLOI= необходимого для падения критической= температуры=Тc в два раза=для любого вида излученияK=== Для примера на рисK=QKS=показано отношение эквивалентных= по воздействию на критическую температуру флюенсов ионного и= нейтронного облучения= ηZcN cn в зависимости от энергии ионовK= ВидноI= что для эквивалентного результата необходимый флюенс= протонов в=NMN¸NMO раз меньшеK= =
NVP= =
NVQ=
=
РисK=QKQ=Экспериментальные данные зависимости=qcLqcM от флюенса облучения ионами= и нейтронамиK=Энергия=bi=и тип ионов различныK=Облучение нейтронами проводилось в реакJ торах деленияK= Характерная энергия нейтронов= bn»1МэВK= Температуры облучения= qоблZQ¸TMMh==
а
б
РисK= QKR= Зависимость нормированной критической темпераJ туры=kbPpn=при различных флюенсах и видах облученияW= а=–=от относительного объемаI=занятого каскадамиX= б=–=от числа смещений с учетом функции Робинсона= =
NVR= =
РисK=QKSK=Отношение флюенсов= h= º==ciLcn ионного и нейтронJ ного облученийI= эквивалентных по воздействию на критическую= температуру=qC соединения=kbPpn==в зависимости от энергии проJ тонов=ЕiK==Кривые=ENJ=QF=соответствуют имитации протонами облуJ чения нейтронами с различным энергетическим спектромW= N= –= = 1МэВX=O=–=TМэВX=P=–NQ=МэВX=Q=–=спектр нейтронов за защитой ТЯР=
=
РисKQKTK= Зависимость приведенной критической температуры от= флюенса нейтронного облученияK= Расчетные данные для энергий= нейтроновW= N= –= bnZNМэВX= O= –= bn=спектр за защитой ТЯРX =P– =bnZ= NQМэВK= ·= J= точки соответствуют экспериментальным данным для= нейтронов со спектром реакторов деления=Eлитературные данныеF=
NVS= =
= Можно также предсказать критический флюенсI= соответJ ствующий падению критической температуры= kbPpn= в два разаI= для потока нейтронов в=?окне?=защиты ТЯР=EЕ=Z=NQ=МэВFK=Это знаJ чение составляет=cnENLOF= ~=S·NMN8= н/смOK= Для нейтронов со спектром= за защитой ТЯР в области сверхпроводящей магнитной системы= ECjCF=эта величина составит==cnENLOF=~N·NMNV=н/смO=EрисK=QKTFK= Представленные результаты расчета радиационных= повреждений сверхпроводника ниобий-олово позволили ввести= критерии для имитационных экспериментов и разработать схему= определения радиационного ресурса интерметаллидов АNR= при их= использовании в качестве токонесущих элементов в CjC=ТЯР==xN8I= NVzK= Основные физические положения этой методикиW= · изменение значения критических параметров происходит= вследствие размытия тонкой структуры плотности электронных= состояний под действием радиационных дефектовX= · первоначальные= Eдо облученияF= микроскопические параметры= плотности электронных состояний определяются из измерений= свойств образцов в нормальном и сверхпроводящем состоянииX= · критическая температура является универсальной функцией= числа смешений на атом для всех видов облученийX= · основным типом дефектовI= ответственным за деградацию= критической температуры при облучении соединений АNR= являются дефекты замещения= = EантисайтыFI= = их концентрация= возрастает линейно с флюенсом облучения на основном= интервале деградации=ТсK= = Вопрос о радиационной стойкости сверхпроводящих матеJ риалов является важным не только с прикладной точки зренияK= Изучение влияния облучения на соединения со структурой АNR=в определенной степени открыло путь к пониманию природы сверхJ проводимости этих соединений и позволило выделить основные= механизмыI определяющие характерные особенности их свойств в= нормальной фазе (электросопротивленияI=магнитной восприимчиJ востиI=электронной теплоемкости и т.дKFK=Такие исследования позJ волили получить информацию о природе относительно высокого=
NV8= =
значения критической температурыI=причинах ее сильной зависиJ мости от наличия дефектов в структуреI=извлечь данные о элекJ тронном спектреI=т.еK=позволили получить информациюI==представJ ляющую фундаментальный интересK=
4.9. Вопросы для самопроверки к разделу 4 NK Опишите основные закономерности изменения сверхпровоJ дящих свойств=Eкритической температуры и критического токаF= под действием быстрых частицK= OK Какова структура случайных полей==радиационных дефектовI= образующихся в==пленочных==образцах==при==облучении быстрыми= частицами?== PK Основные приближенияI=используемые в модели разреженJ ных каскадов?= QK Основные приближенияI=используемые в модели плотных== каскадов?= RK Дайте пояснения к имитационным соотношениям для моJ дельных спектров ПВАK=== SK Каковы основные положения методики определения временJ ного ресурса сверхпроводящих соединений?=
NVV= =
NK OK PK QK RK SK TK 8K VK NMK NNK NOK NPK NQK NRK NSK NTK N8K NVK OMK
Список литературы=
Косевич А.МK=Физическая механика реальных кристалловK=КиевW=Наукова= ДумкаI=NV8NK= Смирнов А.АK=Теория сплавов внедренияK=МKW=НаукаI=NVTVK= Смирнов А.АK=Молекулярно–кинетическая теория металлов и сплавовK=МKW= НаукаI=NVSSK= Елесин В.ФKLLДАН СССРK=Т=OV8I==СNPTT=ENV88FX=Письма в ЖЭТФK=Т=RVI=С=QRN= ENVVQFK= Дегтяренко Н.НKI=Мельников В.ЛK=Радиационные дефекты перспективных= сверхпроводящих соединенийK=МKW=МИФИI=NVVMK= Томпсон МK=Дефекты и радиационные повреждения в==металлахK=МKW=МирI= NVTNK= Френкель Я.ИK=Введение в теорию металловK=ЛKW=НаукаI=NVTOK= Комник Ю.ФKI=Физика металлических пленокK=МKW=АтомиздатI=NVTVK= Зеленский В.ФKI=Неклюдов И.МKI=Черняева Т.ПK=Радиационные дефекты и= распухание металловK=КиевW=Наукова ДумкаI=NV88K= Мартыненко Ю.ВK=Взаимодействие плазмы с поверхностьюLLИтоги==науки и= техники=EСерK=Физика плазмыFK=ТPK=МKW=ВИНИТИI=NV8OK= Лейман КK=Взаимодействие излучения с твердым телом и образование= радиационных дефектовK=МKW=МирINVTVK= Кирсанов В.ВKI=Суворов А.ЛKI=Трушин Ю.ВKI=Процессы радиационного= дефектообразования в металлахK=МKW=ЭнергоатомиздатI=NV8RK=OTO=сK= Киттель ЧK==Введение в физику твердого телаK=jKW=НаукаI=NVT8K=SVSсK= Пространственные распределения энергииI=выделенной в каскаде атомных= столкновений в твердых телахK=МKW=ЭнергоатомиздатI=NV8RK=OQS=сK== Стоунхэм АK=МK=Теория дефектов в твердых телах МKW=МирK=ТN=W=Электронная= структура дефектов в диэлектриках и полупроводникахK=NVT8K=RSV=сK= Эльтеков ВK=АK=Взаимодействие атомных частиц с твердым теломK= Компьютерное моделирование==МKW=МГУI=NVVPK=NRO=сK= Александров АK=СKI=Елесин В.ФKI=Казеко МK=ПK=Влияние радиационных= дефектов на критическую температуру сверхпроводников=LL=Физика твердого= телаI==NVTVK=ТONI=k=TI==С=OMSO–OMTOK= Александров АK=СKI=Елесин ВK=ФK==Поляронная модель электронного спектра и= сверхпроводимость интерметаллидов со структурой АNRLL=Физика твердого= телаI=NV8PK=Т=ORI=k=OI=С=QRS–QSQK= Григорьев АK=ИKI=Дегтяренко НK=НKI=Мельников ВK=ЛK=Радиационная= повреждаемость материалов при низкотемпературном нейтронном и ионном= облученииK=LL=Воздействие излучения на сверхпроводникиK=МK=NV8PK= Григорьев АK=ИK=I=Дегтяренко НK=НK=I=Мельников ВK=ЛK=Влияние учета= субкаскадной структуры радиационных повреждений на критерий имитации= нейтронного облучения ионнымLLИзменение свойств сверхпроводящих= соединений типа АNR=под воздействием облученияK=МKW=ЭнергоатомиздатK= NV8RK=
OMM= =